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文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 4篇电子电信

主题

  • 3篇化物
  • 3篇硅化物
  • 2篇势垒
  • 2篇退火
  • 2篇热退火
  • 2篇温度稳定性
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  • 2篇肖特基势垒二...
  • 2篇快速热退火
  • 2篇二极管
  • 2篇PT
  • 1篇电学
  • 1篇电学特性
  • 1篇射线衍射
  • 1篇深槽
  • 1篇湿法腐蚀
  • 1篇镍硅化物
  • 1篇热稳定

机构

  • 4篇北京大学

作者

  • 4篇卢建政
  • 3篇张利春
  • 3篇金海岩
  • 3篇高玉芝
  • 3篇黄伟
  • 1篇张广勤
  • 1篇张慧

传媒

  • 1篇Journa...
  • 1篇固体电子学研...
  • 1篇第十三届全国...

年份

  • 2篇2005
  • 1篇2004
  • 1篇2003
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
深槽和Ni(Zr)Si/Si肖特基势垒二极管研究
该论文围绕深槽隔离结构和镍硅化物的热稳定性进行研究.深槽结构的研究服务于该课题组的军事预先研究项目——S波段Si双极微波功率晶体管,用于提高BC结的反向击穿电压;对镍硅化物的研究是为了提高其热稳定性.对深槽结构进行了计算...
卢建政
关键词:深槽湿法腐蚀硅化物肖特基二极管
Ni(Pt)Si硅化物温度稳定性的研究被引量:7
2005年
对比研究了夹层结构Ni/Pt/Ni分别与掺杂p型多晶硅和n型单晶硅进行快速热退火形成的硅化物薄膜的电学特性.实验结果表明,在600~800°C范围内,掺Pt的NiSi薄膜电阻率低且均匀,比具有低电阻率的镍硅化物的温度范围扩大了100~150°C.依据吉布斯自由能理论,对在Ni(Pt)Si薄膜中掺有2%和4%的Pt样品进行了分析.结果表明,掺少量的Pt可以推迟NiSi向NiSi2的转化温度,提高了镍硅化物的热稳定性.最后,制作了I-V特性良好的Ni(Pt)Si/Si肖特基势垒二极管,更进一步证明了掺少量的Pt改善了NiSi肖特基二极管的稳定性.
黄伟张利春高玉芝金海岩卢建政张慧
关键词:镍硅化物快速热退火X射线衍射分析
Ni/Pt硅化物温度稳定性的研究
本文对比研究了夹层结构Ni/Pt/Ni分别与掺杂p型多晶硅和n型单晶硅进行快速热退火形成的硅化物薄膜的电学特性.实验结果表明:在600℃~800℃范围内,掺Pt的NiSi薄膜电阻率低且均匀,比具有低电阻率的镍硅化物的温度...
黄伟张利春高玉芝金海岩卢建政张广勤
关键词:硅化物温度稳定性快速热退火
文献传递
Ni(Zr)Si薄膜热稳定性及其肖特基势垒二极管的电学特性
2005年
提出在Ni中掺入夹层Zr的方法来提高NiSi的热稳定性.具有此结构的薄膜,600~800℃快速热退火后,薄层电阻保持较低值,小于2Ω/□.经XRD和Raman光谱分析表明,薄膜中只存在低阻NiSi相,而没有高阻NiSi2相生成.Ni(Zr)Si的薄层电阻由低阻转变为高阻的温度在800℃以上,比没有掺Zr的镍硅化物的转变温度上限提高了100℃.Ni(Zr)Si/Si肖特基势垒二极管能够经受650~800℃不同温度的快速热退火,肖特基接触特性良好,肖特基势垒高度为0.63eV,理想因子接近于1.
黄伟卢建政张利春高玉芝金海岩
关键词:热稳定性X射线衍射RAMAN光谱肖特基二极管
共1页<1>
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