刘全
- 作品数：19 被引量：87H指数：5
- 供职机构：苏州大学更多>>
- 发文基金：江苏省高技术研究计划项目国家高技术研究发展计划国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学机械工程电子电信更多>>
- 低陡度光刻胶光栅槽形研究被引量：5
- 2008年
- 为控制全息光刻胶光栅槽形,从研究显影时间、显影液温度等对光刻胶特性曲线的影响出发,采用计算机模拟和实验方法,制作出底部占宽比30%左右,陡度65°左右的低陡度光刻胶光栅掩模.研究发现:启动曝光量随显影时间的延长而减小,光刻胶特性曲线线性部分的斜率随着显影时间的增加而增加;显影液温度高的光刻胶启动曝光量大,其特性曲线线性部分的斜率也较大.这决定了制作低陡度光刻胶光栅掩模需要使用非1∶1的干涉曝光,以及必须采用较低温度的显影液进行显影处理.最终选用1∶7的干涉曝光和15℃的显影液.
- 刘全万华吴建宏陈新荣李朝明
- 关键词：衍射光学全息
- 全息光栅光刻胶掩模槽形演化及其规律研究被引量：6
- 2008年
- 为了控制全息光栅光刻胶掩模槽形,运用曝光模型和显影模型模拟了掩模的槽形形成过程和变化规律。实验对比了不同曝光量,不同显影浓度,不同空频条件下的掩模槽形,特别是占宽比(光栅齿宽度与光栅周期的比)的情况。实验结果表明,实际槽形与模拟槽形很接近。模拟和实验均发现,在大曝光量、高浓度显影、高空频的光栅条件下所得槽形占宽比较小,槽深主要由原始胶厚决定。
- 陈刚吴建宏刘全
- 关键词：衍射光栅
- 锯齿槽闪耀光栅制作误差对衍射效率的影响被引量：2
- 2013年
- 与矩形槽和正弦槽光栅相比,锯齿槽光栅具有高的衍射效率,可采用全息离子束刻蚀和单点金刚石车削两种方法制造。首先,介绍了这两种方法的制造误差。然后,分析了这些制造误差对用于可见近红外和长波红外成像光谱仪的光栅衍射效率的影响,指出闪耀角误差、槽顶角误差和刻刀圆弧半径是影响锯齿槽光栅衍射效率的关键因素。为制作高质量成像光谱仪用光栅奠定了理论基础和指导。
- 葛建平沈为民刘全陈明辉
- 关键词：单点金刚石车削衍射效率
- 凸球面矩型槽光栅的衍射特性被引量：3
- 2010年
- 本文在用耦合波理论研究平面光栅的基础上,提出了分析和解决凸球面光栅衍射效率问题的方法,并从中得出一些有意义的结论：在凸球面光栅的口径半径比较小时,求解其衍射效率可以转化为平面光栅问题来处理。
- 汪海宾吴建宏刘全
- 关键词：严格耦合波理论衍射效率
- 线性啁啾相位掩模的设计被引量：2
- 2006年
- 啁啾相位掩模法是啁啾光纤光栅的一种非常重要的制作方法。本文研究讨论了用全息干涉方法制作线性啁啾位相掩模的设计方法,提出用两球面波干涉产生条纹密度随空间距离线性变化的干涉条纹记录啁啾位相光栅,按设定光栅端点空频和端点空频差两种优化设计方法设计了长度100mm、啁啾量1nm/mm的线性啁啾光栅,理论和实验结果给出两种设计方案的非线性系数分别为2.5%和1.6%,理论设计和实验结果相符。
- 方玲玲吴建宏刘全陈刚
- 关键词：啁啾光纤光栅
- Ar^+离子束刻蚀制作凸面闪耀光栅被引量：10
- 2011年
- 凸面闪耀光栅是研制高光谱分辨率超光谱成像系统的关键器件之一。由于要求的闪耀角度一般较小,制作工艺难度大,其衍射效率与理论值有较大差距,一直制约其应用。针对上述问题与难点进行了分析,通过光刻胶光栅掩模制作和Ar+离子束刻蚀等工艺制作了凸面闪耀光栅。针对离子束大掠入射刻蚀凸球面时槽形闪耀角不易一致的难题,利用转动扫描刻蚀实现了球面上的闪耀光栅刻蚀,最终制作出了约4.3°闪耀角的凸面闪耀光栅,在400～800nm波段范围内,其+1级衍射光效率均值达40%以上。
- 汪海宾刘全吴建宏
- 关键词：衍射光栅全息光刻衍射效率
- 取样光栅镀膜减反技术研究被引量：3
- 2007年
- 根据惯性约束聚变系统技术要求,提出了镀膜减反方案,以解决现有光栅由于元件表面反射影响零级透过率的问题。使用严格耦合波理论分析了镀sol-gel减反膜的取样光栅特性,详细地分析了仿形膜和平面膜的减反情况和取样效率的变化。结果发现,镀平面膜是一种可行的技术方案,光栅表面反射几乎完全消除,表明可以通过取样光栅镀膜减反来达到提高透射率的目的;裸光栅的深度为12 nm时,平面减反膜厚为60nm,即光学厚度为等效1/4波长:72 nm。此时的透射率为99.8%,取样效率为0.241‰。
- 刘全吴建宏
- 关键词：取样光栅减反膜衍射效率严格耦合波理论
- 啁啾光纤光栅相位掩模槽形控制新方法研究
- 2009年
- 在啁啾光纤光栅相位掩模的制作中,针对光刻胶光栅槽形要求比较高的问题,提出离子束刻蚀和反应离子束刻蚀相结合的方法,来实现对相位掩模槽形占宽比的控制。运用高级线段运动算法模拟分析刻蚀中的图形演化,用Ar离子束刻蚀对光刻胶光栅掩模形貌进行修正,然后采用CHF3反应离子束刻蚀,实验和模拟均表明,Ar离子束刻蚀能很好的改善掩模与基片交界处的基片侧壁形貌,使得在CHF3反应离子束刻蚀下能得到较小的占宽比。对槽形控制提供了有意义的实验手段。
- 杨卫鹏刘全吴建宏
- 关键词：离子束刻蚀反应离子束刻蚀
- 光栅的标量衍射理论与耦合波理论的分析比较被引量：36
- 2004年
- 光栅的标量衍射理论是计算衍射效率的一种近似方法 ;耦合波理论是分析光栅衍射的严格方法。本文详尽地分析了这两种方法在计算具体的光栅衍射问题时的异同 ,从中得出了有意义的结论 :光栅的标量衍射理论的近似是有条件的 ,光栅周期和光栅槽形就是影响这一近似条件的两大因素。
- 刘全吴建宏
- 关键词：光栅标量衍射理论耦合波理论傅里叶变换衍射效率
- 制作光纤光栅用相位掩模的衍射行为研究被引量：3
- 2006年
- 利用严格耦合波理论对用于光纤光栅制作的相位掩模的衍射特性进行了深入的研究。研究发现，在紫外写入波长（248nm）下，为了使零级衍射效率〈5％，且±1级的衍射效率〉35％，相位掩模的刻槽深度必须控制在230．280nm。占宽比必须控制在0．48～0．65。同时，与标量衍射理论的结果进行了分析对比。这些都为相位掩模的实际制作提供了有意义的结果。
- 刘全吴建宏陈刚方玲玲
- 关键词：相位掩模光纤光栅衍射效率严格耦合波理论
