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田香军

作品数：19 被引量：0H指数：0
供职机构：京东方科技集团股份有限公司更多>>
相关领域：理学机械工程金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 19篇中文专利

领域

  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇机械工程
  • 1篇理学

主题

  • 5篇激光
  • 3篇液晶
  • 3篇示教
  • 3篇退火
  • 3篇退火设备
  • 3篇准分子
  • 3篇准分子激光
  • 3篇组件
  • 3篇机械手
  • 3篇激光退火
  • 3篇分子
  • 2篇等离子发生器
  • 2篇底板
  • 2篇电路
  • 2篇动压
  • 2篇镀膜
  • 2篇信息获取
  • 2篇压块
  • 2篇液晶面板
  • 2篇液压

机构

  • 19篇京东方科技集...

作者

  • 19篇田香军
  • 9篇陈艳
  • 8篇王学勇
  • 4篇孙中元
  • 4篇黄国东
  • 3篇田彪
  • 2篇王刚
  • 2篇李延钊
  • 2篇藤野诚治
  • 2篇王治
  • 1篇郭炜
  • 1篇胡平
  • 1篇康昭

年份

  • 1篇2020
  • 1篇2018
  • 4篇2017
  • 2篇2016
  • 6篇2015
  • 2篇2014
  • 2篇2013
  • 1篇2012
共 19 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种光学设备及准分子激光退火系统
本发明公开了一种光学设备及准分子激光退火系统，包括光源，与光源相隔设定距离的透明窗口，以及设置在光源与透明窗口之间的光学系统；透明窗口被构造成使得光源的出射光经过光学系统后垂直入射至透明窗口。由于光源的出射光在经过光学系...
田香军陈艳王学勇王治
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一种机械手示教方法及系统
本发明涉及一种机械手示教系统，所述机械手包括一机械臂和用于驱动机械臂运动的驱动系统，包括：采集单元，用于采集被机械臂夹取的玻璃基板当前所在的第一位置的第一位置信息；偏差位置信息获取单元，用于根据所述第一位置信息与目标位置...
田香军陈艳黄国东田彪
等离子发生器、退火设备、镀膜结晶化设备及退火工艺
一种等离子发生器、退火设备、镀膜结晶化设备及退火工艺。该等离子发生器包括气体室、用于向所述气体室输入气体的进气单元、用于给进入所述气体室内的气体施加电场使其电离成为等离子体的阴极和阳极、用于控制等离子发生器温度的冷却水循...
田香军藤野诚治
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一种加压设备
本发明涉及液晶面板制造技术领域，特别涉及一种加压设备，用于提高压合工序中液晶面板的合格率。本发明公开了一种加压设备，包括：静压板；位于静压板的上方并由多个活动压块组成的动压板；分别设置在每一个活动压块上的压力传感器；对应...
田香军孙中元褚怡芳
一种基板上的边框胶线结构及基板
本实用新型涉及液晶显示领域，具体涉及一种基板上的边框胶线结构，该边框胶线结构包括主胶线，以及在主胶线与基板边缘之间的区域内形成的由多个子胶线非连续排布构成的成盒工艺辅助胶线。本实用新型的边框胶线结构是针对真空灌注工艺中柱...
田彪郭炜胡平孙中元康昭田香军
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等离子发生器、退火设备、镀膜结晶化设备及退火工艺
一种等离子发生器、退火设备、镀膜结晶化设备及退火工艺。该等离子发生器包括气体室、用于向所述气体室输入气体的进气单元、用于给进入所述气体室内的气体施加电场使其电离成为等离子体的阴极和阳极、用于控制等离子发生器温度的冷却水循...
田香军藤野诚治
一种加压设备
本发明涉及液晶面板制造技术领域，特别涉及一种加压设备，用于提高压合工序中液晶面板的合格率。本发明公开了一种加压设备，包括：静压板；位于静压板的上方并由多个活动压块组成的动压板；分别设置在每一个活动压块上的压力传感器；对应...
田香军孙中元褚怡芳
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一种用于机械手位置示教的刻度板组件
本实用新型公开了一种用于机械手位置示教的刻度板组件，涉及机械设备领域。所述组件中，角形刻度板包括对应机械手内侧的第一矩形部分，以及对应机械手外侧的三角形部分，第一矩形部分的一条边与三角形部分的一条边重合；半圆形刻度板包括...
田香军孙中元褚怡芳
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清洁装置和清洁方法
本发明公开了一种清洁装置和清洁方法。所述清洁装置用于清洁待清洁件，所述清洁装置包括：主体结构和设置于所述主体结构上的放置结构，所述待清洁件的边缘设置于所述放置结构上以使所述待清洁件悬空设置。本发明提供的清洁装置和清洁方法...
王学勇田香军陈艳
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激光器
本发明是关于一种激光器，属于激光领域。所述激光器包括：两端开口的激光管和固定装置；激光管的至少一端设置有固定装置，固定装置将激光管的至少一端的开口密封；固定装置上设置有移动组件和窗口，窗口能够在移动组件的驱动下与激光管的...
田香军王学勇
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