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文献类型

  • 1篇学位论文
  • 1篇专利

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 2篇氧化亚铜
  • 2篇降解
  • 2篇NAFION
  • 1篇有机物
  • 1篇去除有机物
  • 1篇氯苯
  • 1篇氯苯废水
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米氧化亚铜
  • 1篇降解机制
  • 1篇废水
  • 1篇半导体
  • 1篇避光
  • 1篇P型
  • 1篇P型半导体
  • 1篇催化
  • 1篇催化降解

机构

  • 2篇南京大学

作者

  • 2篇吴可兰
  • 1篇韩朔睽
  • 1篇张爱茜
  • 1篇魏进

年份

  • 2篇2007
3 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
典型p型半导体及其Nafion包被材料机械催化去除有机物
氧化亚铜机械催化降解有机污染物是一种新的催化降解有机物方法,有着广阔的应用前景。与二氧化钛不同,氧化亚铜机械催化降解有机污染物不需要紫外光的照射,可以在可见光条件下,甚至避光的条件下发生降解反应,因此更具有实用价值。 ...
吴可兰
关键词:氧化亚铜去除有机物降解机制
Nafion包被纳米氧化亚铜及其催化去除氯苯类物质的方法
本发明公开了一种Nafion包被纳米氧化亚铜及其催化去除氯苯类物质的方法。本发明提供的氧化亚铜颗粒粒径为50~200nm,表面包覆Nafion,Nafion与氧化亚铜颗粒的重量范围比为2.5~20wt%。采用Nafion...
张爱茜吴可兰魏进韩朔睽
文献传递
共1页<1>
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