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文献类型

  • 11篇中文期刊文章

领域

  • 10篇电子电信
  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 7篇电子束曝光
  • 4篇电路
  • 4篇集成电路
  • 3篇电子束
  • 3篇版图
  • 2篇电子束曝光机
  • 2篇曝光机
  • 2篇微细
  • 2篇微细加工
  • 2篇校正函数
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  • 1篇映射
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  • 1篇计算机
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  • 1篇功率放大
  • 1篇功率放大器

机构

  • 11篇山东工业大学

作者

  • 11篇王绍钧
  • 3篇胡咏梅
  • 3篇姚作宾
  • 1篇高文洪
  • 1篇杨立才
  • 1篇陈振生
  • 1篇胡毅

传媒

  • 8篇微细加工技术
  • 1篇科学通报
  • 1篇计算机应用研...
  • 1篇山东工业大学...

年份

  • 1篇1999
  • 1篇1998
  • 2篇1996
  • 3篇1995
  • 3篇1994
  • 1篇1989
11 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
电子束偏放电路的计算机辅助设计被引量:1
1996年
本文介绍了应用现行的PSPICEV5.0软件和CAD优化技术,对亚微米电子束曝光机高速偏放电路的VMOSFET参数进行处理。针对电路中的关键参数:导通电阻、开关速度、温度影响、灵敏度及噪声干扰进行分析、设计。
姚作宾高文洪王绍钧
关键词:电子束曝光机VMOSFETCAD功率放大器
光刻单元集的切割重组选择算法被引量:1
1995年
本文给出一个效率较高的算法。该算法,通过对VLSI设计图形的切割、重组和选择,建立光刻图形的单元图形集合──光该单元集。
王绍钧杨立才
关键词:集成电路VLSI光刻微细加工
一种平面区域的剖分被引量:1
1994年
本文提出一种图形剖分算法,可将任意条折线围成的平面区域,划分为一个互相不交的子域的集合。这种子域是LSI掩模版加工设备可加工的。由此,LSI掩模版图的设计,可避免受到加工设备的限制,使图样不论如何复杂,可以根据电路需要进行设计,从而保证电路性能。
王绍钧
关键词:集成电路
电子束曝光系统扫描场的畸变校正
1989年
根据平面区域变换的原理,导出电子束曝光机扫描场的畸变校正函数,并给出计算机模拟校正的结果。
王绍钧
关键词:电子束
LSI版图曝光单元集的算法被引量:1
1995年
本文给出划分一种LSI版图设计图形为曝光单元集的一个算法。该算法可同时获正、反两种曝光单元集,为曝光方式的选择提供了灵活性。
王绍钧
关键词:电子束曝光集成电路LSI版图
LSIC凸多边形版图场分割数据处理的一种方法被引量:3
1998年
本文介绍了一种凸多边形版图场分割数据处理的方法 ,详细分析了凸多边形场分割数据处理的算法。
胡咏梅陈振生姚作宾王绍钧
关键词:版图电子束曝光机
LSIC版图扫描场分割方式的研究被引量:1
1999年
对版图扫描场分割方式进行了研究,详细论述了m ×n S形扫描场分割方式和任意扫描场分割方式。
胡咏梅胡毅贾春娟王绍钧
关键词:版图集成电路
二维场的一个校正函数被引量:1
1994年
由数字-模拟系统控制的二维偏转场的畸变校正,是束(电子束、光子束等)微细加工的重要技术,其关键问题是如烘给出一个近似的校正函数,一般文献中多采用整式函数.实际的偏转场,不仅存在几烘象差引起的畸变、偏转系统的不对称性等原因,会形成各种畸变的叠加,所以需要校正的畸变往往是很复杂的.虽然如此,但由于畸变的总尺寸可以精确的测量,因此,本文用曲线坐标变换的原理描述畸变现象;依据测量的结果,用分离子场的数字校正法推演校正函数,结果是分式线性函数,较整式函数具有计算简单且运算误差小等优点.
王绍钧
关键词:微细加工校正函数
电磁场校正的子域变换和畸变速率补偿法
1996年
应用子域变换导出场的畸变函数,并给出畸变速率补偿法,以提高校正函数的逼近程度。
胡咏梅姚作宾王绍钧
关键词:电子束曝光
像差畸变及预校正映射被引量:1
1994年
本文根据磁偏转场畸变的物理原因,分析构造畸变及校正的映射函授,并给出校正电路的运算公式及公式的精度分析。
王绍钧
关键词:电子束曝光映射
共2页<12>
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