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文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 3篇理学
  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 3篇透明导电
  • 3篇AZO薄膜
  • 2篇导电薄膜
  • 2篇射频磁控
  • 2篇射频磁控溅射
  • 2篇透明导电薄膜
  • 2篇溅射
  • 2篇ZNO:AL
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
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  • 1篇紫外光电探测...
  • 1篇响应度
  • 1篇光电
  • 1篇光电探测
  • 1篇光电探测器
  • 1篇OPTICA...

机构

  • 5篇厦门大学

作者

  • 5篇刘著光
  • 4篇吴正云
  • 4篇杨伟锋
  • 3篇黄火林
  • 3篇吕英
  • 2篇张峰
  • 1篇蔡加法

传媒

  • 2篇Journa...
  • 1篇光谱实验室
  • 1篇光电子.激光

年份

  • 5篇2008
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
Structural,Electrical,and Optical Properties of Transparent Conductive Al-Doped ZnO Films Prepared by RF Magnetron Sputtering被引量:2
2008年
Highly conductive transparent Al-doped zinc oxide (AZO) films with highly (002)-preferred orientation were successfully deposited on glass substrates at room temperature by RF magnetron sputtering. Optimization of deposition parameters was based on sputtering RF power and Ar pressure in the vacuum chamber. AZO films of 180nm with an electrical resistivity as low as 2.68 × 10^-3 Ω· cm and an average optical transmission of 90% in the visible range were obtained at RF power of 250W and Ar pressure of 1.2Pa. The effect of chemisorption of oxygen on the grain boundary would capture electrons from conduction band and lead the formation of potential barriers among the crystallites,which will influence the electric property of the AZO thin films. The films have satisfactory properties of low resistance and high transmittance for application as transparent conductive electrodes in light emitting diodes (LEDs) and solar cells.
杨伟锋刘著光张峰黄火林吴正云
RF磁控溅射功率对ZnO:Al薄膜结构和性能的影响被引量:12
2008年
采用RF磁控溅射技术以ZnO2Al2O3(2wt%Al2O3)为靶材在石英玻璃衬底上制备多晶ZnO:Al(AZO)薄膜,通过XRD、AFM、AES以及Hall效应、透射光谱、折射率等手段研究了RF溅射功率(50-300w)对薄膜的组织结构和电学,光学性能的影响。分析表明:所制备的AZO薄膜具有c轴择优取向,并且通过对不同功率下薄膜载流子浓度与迁移率的研究发现对于室温下沉积的AZO薄膜,晶粒间界中的O原子吸附是影响薄膜电学性能的主要因素。同时发现当功率为250W时薄膜的电阻率降至最低(3.995×10^-33Ω·cm),可见光区平均透射率为91%。
杨伟锋刘著光吕英黄火林吴正云
关键词:透明导电薄膜AZO薄膜
氩气压强对射频磁控溅射ZnO∶Al薄膜结构和性能的影响被引量:5
2008年
以ZnO∶Al2O3为靶材在石英玻璃衬底上射频磁控溅射制备多晶ZnO∶A l(AZO)薄膜,通过XRD、AFM以及H all效应、透射光谱等测试研究了RF溅射压强对薄膜结构、电学与光学性能的影响。分析表明:所制备的薄膜具有c轴择优取向,当压强为1.2Pa时薄膜的电阻率降至最低(2.7×10-3Ω·cm)。薄膜在可见光区平均透射率高于90%,光学带隙均大于本征ZnO的禁带宽度。
刘著光杨伟锋吕英黄火林吴正云
关键词:透明导电薄膜AZO薄膜
一维阵列MSM 4H-SiC紫外光电探测器的研制被引量:2
2008年
采用Ni/Au作为肖特基接触制备了一维阵列MSM4H-SiC紫外光电探测器,并测量和分析了阵列器件的I-V、光谱响应特性.结果表明,阵列探测器性能均匀性好,击穿电压均高于100V.阵列中单器件暗电流小,在偏压为20V的时候,最大暗电流均小于5pA(电流密度为5nA/cm2),光电流比暗电流高3个数量级以上.其光谱响应表明,单器件在电压为20V时的响应度约为0.09A/W,比400nm时的比值均大5000倍,说明探测器具有良好的紫外可见比.
杨伟锋蔡加法张峰刘著光吕英吴正云
关键词:4H-SIC响应度
射频磁控溅射ZnO:Al薄膜及其特性研究
ZnO:Al/(AZO/)薄膜因其低电阻率与高可见光区透射率有望替代ITO,成为主要的透明导电氧化物/(TCO/)材料。相对于ITO材料,AZO薄膜原材料丰富,价格低廉且无污染,是理想的透明导电氧化物材料。目前用以制备A...
刘著光
关键词:透明导电氧化物薄膜AZO薄膜射频磁控溅射
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共1页<1>
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