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刘永兴

作品数:3 被引量:13H指数:3
供职机构:大连轻工业学院玻璃及无机新材料研究所更多>>
相关领域:理学电子电信环境科学与工程更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 2篇理学
  • 1篇电子电信
  • 1篇环境科学与工...

主题

  • 3篇原子力显微镜
  • 2篇强流脉冲
  • 2篇强流脉冲离子...
  • 1篇导体
  • 1篇等离子体
  • 1篇氧化铟
  • 1篇溶胶
  • 1篇溶胶-凝胶法
  • 1篇溶胶-凝胶法...
  • 1篇凝胶法制备
  • 1篇稀土
  • 1篇稀土掺杂
  • 1篇半导体
  • 1篇半导体薄膜
  • 1篇TIO_2薄...
  • 1篇ITO薄膜
  • 1篇ITO膜
  • 1篇表面形貌
  • 1篇掺杂

机构

  • 3篇大连轻工业学...
  • 2篇大连理工大学

作者

  • 3篇刘永兴
  • 3篇王承遇
  • 2篇马腾才
  • 2篇夏元良
  • 1篇陶瑛
  • 1篇尚华美
  • 1篇于玲
  • 1篇谭畅

传媒

  • 1篇硅酸盐通报
  • 1篇硅酸盐学报
  • 1篇材料导报

年份

  • 3篇2001
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
在玻璃上用强流脉冲离子束镀膜的工艺被引量:6
2001年
用强流脉冲离子束 (HIPIB)方法通过高强度脉冲离子束照射到锡掺杂氧化铟 (ITO)陶瓷靶材上产生的二次等离子体快速地沉积到室温玻璃基片上制得ITO薄膜 .经计算得知 :二次等离子体的密度约 10 2 0 atoms/cm3,温度以实验的电子能量 (ET0 )表示约为 1.4eV ,在玻璃表面瞬时沉积速率达 2cm/s,比其它传统镀膜方法大几个数量级 ;并且瞬间在玻璃表面产生约 2 2 0 0℃的高温 .经一次脉冲发射可制得 65nm厚的膜 .EDX数据表明薄膜与靶材的化学组成相近 .通过原子力显微镜 (AFM )图像分析膜的表面形貌 ,在 1μm× 1μm范围内 ,薄膜表面的均方根粗糙度为 1.3 85nm 。
王承遇刘永兴马腾才夏元良
关键词:强流脉冲离子束等离子体原子力显微镜
溶胶-凝胶法制备稀土掺杂多孔TiO_2薄膜的表面形貌及性能研究被引量:3
2001年
以溶胶-凝胶法,采用旋转涂膜工艺在玻璃表面制备了 Ce、La 掺杂的多孔 TiO_2 薄膜。研究了玻璃表面TiO_2 薄膜在稀土掺杂及多孔化处理后的特征。发现稀土元素的掺杂使薄膜的多孔结构更加均匀一致,在近紫外的吸收度明显提高,同时对油酸有更高的光催化降解效率。
刘永兴尚华美于玲王承遇陶瑛
关键词:稀土掺杂原子力显微镜溶胶-凝胶法表面形貌
用强流脉冲离子束(HIPIB)方法在玻璃表面制备ITO膜被引量:5
2001年
强流脉冲离子束 (HIPIB)方法以新的成膜机理通过高强度 (约 10 8W /cm2 ) ,脉冲 (约 70ns)离子束照射到ITO陶瓷靶材上产生的高密度、高温二次等离子体快速地沉积到室温玻璃基片上成功地制得ITO薄膜。经一次脉冲发射即可制得约 6 5nm厚的膜。通过原子力显微镜 (AFM)图象分析膜的表面形貌 ,膜的平整性与膜厚有直接关系 。
刘永兴王承遇马腾才夏元良谭畅
关键词:强流脉冲离子束氧化铟半导体薄膜原子力显微镜ITO薄膜
共1页<1>
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