2025年1月23日
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况园珠
作品数:
6
被引量:1
H指数:1
供职机构:
中国科学院空间科学与应用研究中心
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发文基金:
国家自然科学基金
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相关领域:
理学
一般工业技术
电子电信
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合作作者
郑保民
中国科学院空间科学与应用研究中...
李安杰
中国科学院空间科学与应用研究中...
王兴民
北京师范大学核科学与技术学院
黄小刚
中国科学院空间科学与应用研究中...
尤大伟
中国科学院空间科学与应用研究中...
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况园珠
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1篇
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离子束增强沉积制备TiB_2薄膜及其性能研究
1995年
用离子束增强沉积法(IBED)在硅及铜基体上沉积了TiB2薄膜,研究了轰击离子束能量和束流对薄膜的微结构及力学性能的影响。用俄歇电子谱(AES)分析了膜的成分及其界面状况,用X射线衍射(XRD)研究了膜的微结构,并测定了膜的硬度及进行了膜的高温氧化试验。结果指出:(1)离子束轰击使薄膜晶化,从而影响到膜的硬度及抗高温氧化性能;(2)离子束增强沉积的二硼化钛薄膜是一种耐高温氧化的高硬膜。
况园珠
尤大伟
白新德
尤引娟
关键词:
离子束增强沉积
晶化
光学镀膜用大束密均匀区离子源
介绍一个适用于光学镀膜用的直径为φ120mm的大束密均匀区离子源的结构设计及性能参数,并对影响束密均匀性的因素进行了讨论.
况园珠
郑保民
李安杰
关键词:
离子源
离子束辅助镀膜
文献传递
镀膜参数对离子束增强沉积氮化硼薄膜中立方相含量的影响
被引量:1
1997年
本文介绍用离子束增强沉积(IBED)法在硅片上制备氮化硼(BN)薄膜及镀膜参数对膜中立方氮化硼(c-BN)含量的影响的试验研究,主要研究轰击离子束密、镀膜速率、轰击束中氩气的含量及衬底温度的影响。用红外(IR)谱对膜进行了分析,结果指出:(1)在给定的轰击束能量与束密下氮化硼薄膜中立方相的含量是随镀膜速率而变化的,且存在一个最佳镀膜速率值;(2)提高离子轰击束密,则此最佳镀膜速率值也相应增大;(3)镀膜速率又是随轰击束密及轰击束中氩气含量的增大而减小的;(4)衬底温度在400℃以下时,膜中c-BN相的含量随温度提高而增加。
况园珠
黄小刚
尢大纬
王兴民
王兴民
关键词:
立方氮化硼
离子束增强沉积
光学镀膜用大束密均匀区离子源
2001年
介绍一个适用于光学镀膜用的直径为1 2 0 mm的大束密均匀区离子源的结构设计及性能参数 。
况园珠
郑保民
李安杰
关键词:
离子源
均匀性
光学薄膜
离子束辅助镀膜
多功能离子束医用材料表面改性装置
本文介绍了一个多功能离子束材料表面改性装置的结构、特点、性能参数及试验初步结果。
郑保民
况园珠
王宇
李晓谦
张海文
顾汉卿
赵景丽
关键词:
离子束
表面改性
离子束增强沉积立方氮化硼薄膜的研究进展
1998年
介绍了用离子束增强沉积法(IBED)制备立方氮化硼(c-BN)薄膜的主要研究单位及其研究内容和获得的结果。
况园珠
关键词:
立方氮化硼
离子束增强沉积
离子轰击
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