施春燕
- 作品数：43 被引量：68H指数：6
- 供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金安徽省高校省级自然科学研究项目更多>>
- 相关领域：自动化与计算机技术机械工程金属学及工艺化学工程更多>>
- 一种光学元件表面高频振动共形加工装置和方法
- 本发明是一种光学元件表面高频振动共形加工装置和方法，该方法基于精密气缸、龙门架、高速马达、精密变频器、凸轮、摆臂、磨头和旋转台等部件，实现具有基底层、柔性层和抛光层的抛光磨头以一定压力紧贴工件表面做高频振动抛光。本发明高...
- 施春燕万勇建张亮徐清兰
- 文献传递
- 一种抛光工件射流抛光材料去除函数的优化方法
- 本发明是一种抛光工件射流抛光材料去除函数的优化方法，利用射流抛光系统，检测待抛光工件抛光前的面形数据；待抛光工件置放于盛满抛光液的容器中；调节喷嘴的出口与待抛光工件的表面之间的距离，使喷嘴的出口淹没在抛光液中；在单位时间...
- 施春燕袁家虎伍凡万勇建范斌雷柏平
- 运动轨迹对抛光误差的影响分析和轨迹优化研究被引量：8
- 2011年
- 针对现有光学加工抛光头运动方式由于光栅形或螺旋形等对称扫描方式带来的运动轨迹间的迭代误差,提出随机轨迹抛光运动方式。随机轨迹方法通过随机轨迹算法随机生成镜面离散点的抛光顺序和抛光轨迹,采用随机轨迹驻留时间补偿方法控制镜面离散点的驻留时间,对各个点进行相应大小的材料去除。实验结果显示,随机轨迹方法产生的抛光运动轨迹表现为混乱分布,从而把运动轨迹间的迭代误差均匀分布在整个镜面上,与规则运动轨迹方式相比降低了轨迹误差分布。
- 施春燕袁家虎伍凡万勇建
- 关键词：光学加工
- 喷射距离对射流抛光去除函数的影响被引量：12
- 2011年
- 通过对不同喷射距离的射流抛光实验,研究了喷射距离影响材料去除函数的复杂表现和机理。喷射距离对材料去除函数的影响主要表现在材料的去除率变化和去除范围变化,其中,喷射距离对冲击去除区和壁面磨蚀区的材料去除率的影响作用是不同的。基于冲击射流理论分析,引入修正因子,分别对壁面磨蚀区和冲击去除区的材料去除函数受喷射距离的影响作用进行了理论分析和模型构建,比较实验数据曲线和理论函数曲线,结果显示,理论模型和实验结果符合较好。在此基础上,对射流抛光的材料去除分布函数进行了修正。
- 施春燕袁家虎伍凡万勇建
- 关键词：光学加工去除函数
- 基于驻留时间补偿的抛光误差控制方法被引量：5
- 2011年
- 针对计算机控制光学表面成形中光学表面存在中高频误差的问题,提出了一种基于驻留时间补偿的有效控制方法。分析了抛光误差的形成机理和影响因素,对系统的误差影响因素进行分类和定量描述,构建了抛光过程中磨损影响因子、浓度变化影响因子和系统影响因子。基于各影响因素的影响因子对抛光驻留时间的求解函数进行了修正,提出采用离散最小二乘法对修正的函数求解驻留时间。研究表明:这种补偿方法能提高计算机控制光学表面成形技术中加工模型的精度,减小光学表面的残余误差。
- 万勇建施春燕袁家虎伍凡
- 关键词：去除函数
- 去除函数在确定抛光条件下的误差抑制能力的评价方法
- 本发明为去除函数在确定抛光条件下的误差抑制能力的评价方法，步骤S1：利用第j-1次和第j次抛光后光学元件面形数据的功率谱密度函数PSD<Sub>j-1</Sub>、PSD<Sub>j</Sub>，构建出平滑谱函数H模型即...
- 王佳范斌万勇建施春燕卓彬孟凯
- 文献传递
- 一种加工轨迹的生成方法
- 本发明提供一种加工轨迹的生成方法。其包括：对待加工工件面型进行横向和纵向的网格划分，得到一组m行n列的网格；将网格中交点的面型误差大于或者等于加工阈值的交点确定为初始的驻留点，生成与网格交点相应的第一矩阵W，其中存在驻留...
- 施春燕李文宗范斌王佳
- 文献传递
- 全淹没射流抛光装置及方法
- 本发明是一种全淹没射流抛光装置及方法，装置包括：喷嘴、抛光液容器、待抛光工件、工件装夹、抛光液回收槽、数控抛光机床、数控计算机、压力表、压力调节阀、增压泵、抛光液搅拌器、抛光液回收容器和多根液体管路，工件装夹固定在抛光液...
- 施春燕袁家虎伍凡万勇建范斌雷柏平
- 文献传递
- 一种抑制轨迹误差的随机抛光轨迹运动方法
- 本发明一种抑制轨迹误差的随机抛光轨迹运动方法包括：确定待抛光光学元件表面的待抛光点和驻留时间分布，用随机轨道算法生成待抛光光学元件表面离散点的抛光顺序和抛光轨迹；用驻留时间补偿方法计算抛光头运动轨迹经历抛光点的停留时间分...
- 施春燕袁家虎伍凡万勇建范斌雷柏平
- 一种评价CCOS抛光工艺误差抑制能力的方法被引量：3
- 2014年
- 结合光学加工中材料去除的卷积模型和功率谱密度函数,建立了描述CCOS抛光工艺抑制不同频段误差能力的数学模型——平滑谱函数.利用Rigid Conformal磨盘抛光620mm口径微晶平面玻璃,通过计算平滑谱函数曲线,将CCOS抛光工艺抑制不同频段误差的能力表示为归一化且无量纲的频谱曲线.计算结果表明平滑谱函数曲线能以数值大小评价CCOS抛光工艺对不同频率误差的抑制能力.
- 王佳范斌万勇建施春燕卓彬
- 关键词：光学加工功率谱密度
