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岳衢

作品数：15 被引量：0H指数：0
供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>

合作作者

文献类型

  • 15篇中文专利

主题

  • 7篇透镜
  • 5篇湿法腐蚀
  • 5篇绝缘硅
  • 5篇刻蚀
  • 5篇光刻
  • 4篇透镜阵列
  • 4篇微透镜
  • 4篇微透镜阵列
  • 3篇氮化硅
  • 3篇干法刻蚀
  • 2篇氮化
  • 2篇氮化硅薄膜
  • 2篇电磁材料
  • 2篇电铸
  • 2篇电铸技术
  • 2篇多光束干涉
  • 2篇掩膜
  • 2篇样片
  • 2篇三层结构
  • 2篇生物传感

机构

  • 15篇中国科学院

作者

  • 15篇岳衢
  • 15篇邱传凯
  • 10篇周崇喜
  • 9篇李飞
  • 9篇潘丽
  • 9篇李国俊
  • 7篇罗先刚
  • 6篇张铁军
  • 5篇胡承刚
  • 4篇方亮
  • 2篇王强
  • 2篇石振东
  • 2篇汪为民
  • 2篇杨欢
  • 2篇田中群
  • 1篇饶学军
  • 1篇余翔

年份

  • 1篇2017
  • 1篇2016
  • 2篇2015
  • 3篇2014
  • 3篇2013
  • 5篇2012
共 15 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种基于聚二甲基硅氧烷模板的微透镜阵列元件制作方法
本发明是一种基于聚二甲基硅氧烷模板的微透镜阵列元件制作方法，包括如下步骤，S1：制作目标结构掩模板；S2：把目标结构掩模板图形转印到玻璃基板上，得到光刻胶微透镜阵列模版；S3：将聚二甲基硅氧烷与固化剂混合后浇注于光刻胶微...
李飞邱传凯李国俊潘丽岳衢
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一种利用全内反射棱镜阵列实现高通量虚拟狭缝的光学系统
本发明公开了一种利用全内反射棱镜阵列实现高通量虚拟狭缝的光学系统，包括：子午方向的前置短焦柱透镜、弧矢方向的前置长焦柱透镜、全内反射棱镜阵列、弧矢方向的后置长焦柱透镜以及子午方向的后置短焦柱透镜。圆形光纤端面输入的信号光...
方亮石振东杨欢岳衢邱传凯周崇喜田中群
一种基于SOI和电铸技术的金属纳米线阵及其制备方法
本发明提供一种基于绝缘硅(SOI)和电铸技术的金属纳米线阵及其制备方法，该金属纳米线阵的各金属线之间由掺杂硅介质材料填充，其制备流程包括：选取SOI，并在其上下表面各沉积一层氮化硅薄膜；采用光刻及干法刻蚀，在SOI下底面...
潘丽岳衢胡承刚张铁军李飞罗先刚邱传凯周崇喜
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一种利用全内反射棱镜阵列实现高通量虚拟狭缝的光学系统
本发明公开了一种利用全内反射棱镜阵列实现高通量虚拟狭缝的光学系统，包括：子午方向的前置短焦柱透镜、弧矢方向的前置长焦柱透镜、全内反射棱镜阵列、弧矢方向的后置长焦柱透镜以及子午方向的后置短焦柱透镜。圆形光纤端面输入的信号光...
方亮石振东杨欢岳衢邱传凯周崇喜田中群
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基于负性光刻胶和掩膜移动曝光工艺的微透镜阵列制备方法
本发明提供一种基于负性光刻胶和掩膜移动曝光工艺的微透镜阵列制备方法，其主要工艺流程包括：选取基片，涂覆负性光刻胶，对基片先进行无掩膜曝光，再进行掩膜移动曝光、后烘和显影工艺获得微透镜阵列的光刻胶图形，最后采用干法刻蚀将光...
岳衢李国俊潘丽邱传凯周崇喜李飞
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一种提高分立式微变形镜填充因子的方法
本发明公开了一种提高分立式微变形镜填充因子的方法，包括一个微缩束镜阵列和一个分立式微变形镜。其特征在于微缩束镜阵列与分立式微变形镜具有相同的单元间距，入射光经过微缩束镜阵列之后被分割并缩束，形成一个光斑阵列，再入射到变形...
汪为民周崇喜李国俊王强邱传凯岳衢
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一种基于SOI和电铸技术的金属纳米线阵及其制备方法
本发明提供一种基于绝缘硅(SOI)和电铸技术的金属纳米线阵及其制备方法，该金属纳米线阵的各金属线之间由掺杂硅介质材料填充，其制备流程包括：选取SOI，并在其上下表面各沉积一层氮化硅薄膜；采用光刻及干法刻蚀，在SOI下底面...
潘丽岳衢胡承刚张铁军李飞罗先刚邱传凯周崇喜
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一种硅基悬空的金属纳米针孔及其加工方法
本发明提供一种硅基悬空的金属纳米针孔及其加工方法，该纳米针孔制作于硅基悬空的金属薄膜上。其制作流程包括：选取双面抛光硅片，在硅片的上表面沉积金属膜，再在硅片的两个表面分别沉积氮化硅膜。然后在硅片上表面涂光刻胶进行光刻，刻...
邱传凯岳衢潘丽余翔李国俊李飞周崇喜饶学军
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可变周期多光束干涉光刻的方法
本发明可变周期多光束干涉光刻的方法，包括激光器输出的激光经整形后由分光元件分为多束对称分布的发散光束；经准直透镜后多束发散光束被准直为多束平行于光轴的平行光束；通过连续变倍扩束镜调节各平行光束离光轴的间距；由聚焦透镜对各...
方亮岳衢邱传凯罗先刚张铁军
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一种基于三层结构的可调谐人工电磁材料及其制作方法
本发明涉及一种基于三层结构的可调谐人工电磁材料及其制作方法，该人工电磁材料是由金属-掺杂介质-金属三层结构组成的微纳米图形结构，可用于红外、太赫兹波段。其制作方法包括：选择绝缘硅，利用沉积、粘结、干法刻蚀、湿法腐蚀、再沉...
邱传凯胡承刚岳衢张铁军李国俊罗先刚潘丽李飞
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