吕俊霞
- 作品数：23 被引量：67H指数：5
- 供职机构：同济大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划应用光学国家重点实验室开放基金更多>>
- 相关领域：理学机械工程一般工业技术轻工技术与工程更多>>
- 软X光激光用多层膜反射镜的设计与性能模拟计算被引量：15
- 1995年
- 介绍在研制软Ｘ光激光用多层膜反射镜中发展起来的一套设计方法。给出了这类反射镜在现阶段所研究的部分Ｘ光激光波长下的设计结果。利用波动光学迭代方法模拟计算了反射镜的性能，并讨论了膜厚控制误差、表（界）面粗糙度等对性能的影响。
- 张俊平曹健林马月英高宏刚陈斌吕俊霞裴舒陈星旦
- 关键词：软X射线多层膜激光反射镜膜系设计
- 磁控溅射法制备Mo/B_4C软X射线多层膜被引量：1
- 1999年
- 用DC和RF磁控溅射法制备出了波长小于 10nm波段的Mo/B4 C软X射线多层膜反射镜。掠入射X射线衍射仪的测量结果表明 ,磁控溅射法有很高的控制精度 ,制备出的Mo/B4 C软X射线多层膜周期结构非常好 ,表 (界 )面粗糙度非常小 ,约为 0 4nm。
- 吕俊霞马月英裴舒曹健林陈星旦
- 关键词：软X射线多层膜
- 复合纳米光学变色薄膜被引量：7
- 2004年
- 用热蒸发和磁控溅射的物理镀膜方法和溶胶凝胶化学涂布的方法相结合制备了有机和无机复合纳米光学变色薄膜。光学变色薄膜为多层薄膜 ,当有自然光进入光学变色薄膜时 ,随着入射光和视角的变化在薄膜上可以看到明显的光变色效果。这种薄膜可以单独或与油墨组合作为一种新颖的防伪材料。根据多层复合膜光干涉原理经设计和计算确定薄膜为PET/Cr/介质 /Al膜系结构。介质分别是有机高聚物和SiO2 。SiO2 是多孔纳米材料 ,用溶胶凝胶方法制备 ,通过调节催化和凝胶的方式和条件 ,折射率在 1.15～ 1.4 5之间。
- 倪星元吕俊霞魏建东吴广明周斌沈军王珏
- 关键词：薄膜光学纳米材料磁控溅射法折射率溶胶-凝胶法
- 溶胶-凝胶SiO_2在变色薄膜中的应用被引量：6
- 2002年
- 变色薄膜是一种非常有用的光学产品。用溶胶 凝胶SiO2 作为变色薄膜中的介质层 (Cr/SiO2 /Al)能明显提高产品的质量和生产效率。本文介绍了溶胶 凝胶SiO2 薄膜的制作方法 ,提出了用酸性催化控制SiO2 溶胶过程 ;用网线辊涂布的方法形成薄膜 ,连同烘烤后处理完成SiO2 凝胶过程。文章还对SiO2
- 倪星元吕俊霞邓忠生沈军王珏
- 关键词：溶胶-凝胶SIO2
- 用光学全息方法研制软X射线Bragg-Fresnel光学元件
- 1999年
- 介绍了软X射线Bragg Fresnel光学元件的特点 ,并以磁控溅射法制备多层膜 ,再采用光学全息方法在涂有光刻胶的多层膜表面上形成波带片图形 ,通过显影。
- 王占山马月英吕俊霞高宏刚刘毅楠裴舒曹健林徐向东洪义麟付绍军
- 关键词：软X射线光学元件多层膜
- 用磁控溅射法制备软X射线多层膜被引量：4
- 1995年
- 本文介绍用直流－射频平面磁控溅射法制备软ｘ射线多层膜的初步实验结果。在一定工艺条件下，采用计算机定时控制膜厚的方法，严格按照设计周期制备了多层膜样品，并给出了Ｘ射线衍射仪小角衍射的检测结果。
- 张俊平马月英高宏刚陈斌裴舒吕俊霞曹健林
- 关键词：磁控溅射软X射线多层膜
- 正入射Mo/B_4C软X射线多层膜被引量：4
- 1998年
- 采用Ｍｏ／Ｂ４Ｃ材料在短波长波段（λ＜１０．０ｎｍ）进行软Ｘ射线多层膜实验研究。在指定波长（８．０ｎｍ附近）处对多层膜进行结构设计，并制备出了周期结构准确的Ｍｏ／Ｂ４Ｃ多层膜样品。
- 吕俊霞马月英张俊平曹健林
- 关键词：软X射线多层膜正入射薄膜光学
- C/Al软X射线多层膜反射镜的制备与测量被引量：2
- 1999年
- 在λ＝ ２８．５ｎｍ 波长处，我们选择了一种新的多层膜材料对Ｃ／Ａｌ。正入射Ｃ／Ａｌ多层膜在１５．０ｎｍ 附近有很低的二级衍射峰。磁控溅射法制备的Ｃ／Ａｌ多层膜样品，用Ｘ射线小角衍射法对其结构进行了测试，并测得Ｃ／Ａｌ软Ｘ射线多层膜的正入射反射率２２％ ±４％ 。
- 吕俊霞马月英裴舒曹健林
- 关键词：软X射线多层膜反射镜
- 18.2nm Schwarzschild显微成像系统初步研究被引量：4
- 1996年
- 叙述了Schwarzschild型正入射软X射线多层膜显微成像系统的设计、制作和成像实验，其工作波长为18．2nm，放大倍数为10．5×，极限分辨率小于0．2μm。采用Mo／Si多层膜，周期和层数分别为9．5nm和41。用激光等离子体光源对20pl／mm和55pl／mm的栅网进行了软X射线显微成像实验，所得结果表明此显微成像系统的分辨率在微米量级。
- 王占山曹健林陈波马月英陈斌张俊平王兆岗高宏刚吕俊霞陈星旦
- 关键词：软X射线多层膜X射线光具组
- Mo/B_4C软X射线多层膜结构特性研究被引量：1
- 2000年
- 在 6.7<λ<1 0 .0 nm波段选择 Mo/ B4 C作为多层膜材料 ,并采用磁控溅射法制备出多层膜样品 .这些多层膜样品的周期结构为 3 .3 5 nm～ 5 .5 2 nm.采用 X射线衍射仪和透射电镜 (TEM)对样品的微观结构进行研究 .结构表明 ,这些多层膜样品的结构质量很高 ,并有很好的热稳定性 .
- 吕俊霞马月英裴舒陈星旦曹健林
- 关键词：多层膜软X射线
