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文献类型

  • 50篇中文专利

领域

  • 7篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 28篇晶体管
  • 28篇薄膜晶体
  • 28篇薄膜晶体管
  • 25篇显示装置
  • 17篇基板
  • 11篇显示技术
  • 7篇显示面板
  • 7篇面板
  • 7篇沟道
  • 6篇多晶
  • 6篇多晶硅
  • 6篇构图
  • 6篇光层
  • 5篇栅绝缘层
  • 5篇绝缘层
  • 5篇硅薄膜
  • 4篇栅电极
  • 4篇正投影
  • 4篇漏极
  • 4篇金属

机构

  • 50篇京东方科技集...

作者

  • 50篇刘建宏
  • 11篇张斌
  • 11篇孙雪菲
  • 9篇王祖强
  • 8篇李正亮
  • 8篇龙春平
  • 6篇刘政
  • 6篇李小龙
  • 6篇陆小勇
  • 5篇张慧娟
  • 4篇李良坚
  • 2篇曹占锋
  • 2篇张帅
  • 2篇马应海
  • 2篇黄建邦
  • 2篇李栋
  • 1篇皇甫鲁江

年份

  • 3篇2021
  • 2篇2020
  • 3篇2019
  • 5篇2018
  • 12篇2017
  • 4篇2016
  • 15篇2015
  • 6篇2014
50 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
加工多晶硅表面的方法以及加工基板表面的方法
本发明提供一种加工多晶硅表面的方法和加工基板表面的方法。加工多晶硅表面的方法包括:使用化学机械抛光的工艺加工多晶硅表面;其中,在使用化学机械抛光的工艺加工多晶硅表面之前,在多晶硅表面上沉积SiNx薄膜。本发明的方法加工后...
陆小勇龙春平刘建宏詹裕程李小龙刘政
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曝光装置
本发明公开了一种曝光装置,所述曝光装置包括掩膜板,所述掩膜板上设置有掩膜图形,所述曝光装置还包括第一微透镜层,所述第一微透镜层设置在所述掩膜板的出光侧,且所述第一微透镜层利用穿过所述掩膜板的光线形成所述掩膜图形的缩小的实...
陈善韬刘建宏
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一种电容测试单元以及电容测试方法
本发明实施例公开一种电容测试单元以及电容测试方法,其中,电容测试单元包括:相对设置的非金属电极和第一金属电极以及设置在非金属电极和第一金属电极之间的介质层;非金属电极上设置有至少一个第二金属电极,第二金属电极在非金属电极...
孙雪菲刘建宏张斌李正亮
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厚度测试方法及装置
本发明公开了一种厚度测试方法及装置,涉及厚度测试技术领域,能够测试任意膜厚,且提高测量精度。本发明的主要技术方案为:一种厚度测试方法,用于测试透光的待测样品的待测层厚度,包括:将待测样品置于光学器件与金属层之间,其中,光...
孙雪菲刘建宏李正亮张斌
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薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板和显示装置
一种薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板和显示装置。该薄膜晶体管包括:衬底基板以及设置于所述衬底基板上的栅电极和栅绝缘层;有源层,所述栅绝缘层设置于所述有源层和所述栅电极之间;所述有源层包括沟道区和设置在所述沟道区至少一侧的...
刘建宏
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一种薄膜晶体管、显示基板及显示装置
本实用新型提供了一种薄膜晶体管、显示基板及显示装置,涉及显示技术领域,可改善后续形成的电极在过孔内发生断线不良的问题。该薄膜晶体管包括:依次设置在衬底基板上的有源层、栅绝缘层、栅电极、层间介质层、源电极和漏电极,源电极和...
王祖强刘建宏
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气相沉积系统及气相沉积方法
本发明公开了一种气相沉积系统及气相沉积方法。气相沉积系统包括:容纳室;设置在所述容纳室内的用于承载基板的基台,所述基台将容纳室隔开形成可密闭的反应室;设置在所述反应室内的与基台相对设置的喷淋装置,其中,所述喷淋装置用于喷...
张慧娟刘建宏
测试单元、阵列基板及其制造方法、显示面板和显示装置
本发明提供一种测试单元,其中,所述测试单元包括至少一层测试图形,每层所述测试图形包括多条宽度互不相同且互相间隔的测试线。本发明还提供一种阵列基板及其制造方法、一种显示面板和一种显示装置。由于每层所述测试图形都包括具有不同...
詹裕程刘建宏
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薄膜晶体管及制备方法、显示基板、显示装置
本发明公开了薄膜晶体管及制备方法、显示基板、显示装置。该薄膜晶体管包括:基板;有源层,所述有源层设置在所述基板上;栅极以及栅绝缘层,所述栅绝缘层设置在所述栅极以及所述有源层之间,所述栅极在所述有源层上的投影与所述有源层的...
詹裕程刘建宏
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阵列基板的制造方法及制造装置
本发明公开了一种阵列基板的制造方法及制造装置,属于金属氧化物半导体技术领域。所述方法包括:在基板上依次形成有源层、栅极绝缘层和栅极金属层;在形成有栅极金属层的基板上形成带有栅极光刻胶图形的栅极图形;改变栅极光刻胶图形的温...
黄建邦詹裕程刘建宏
共5页<12345>
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