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陈志

作品数:2 被引量:0H指数:0
供职机构:电子科技大学更多>>
相关领域:一般工业技术更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇一般工业技术

主题

  • 1篇电子发射
  • 1篇压强
  • 1篇影响线
  • 1篇蒸发制备
  • 1篇质谱计
  • 1篇收集极
  • 1篇透明导电
  • 1篇透明导电膜
  • 1篇化学过程
  • 1篇化学计量
  • 1篇化学计量比
  • 1篇二次电子
  • 1篇二次电子发射
  • 1篇ITO薄膜
  • 1篇表面温度

机构

  • 2篇电子科技大学

作者

  • 2篇陈志
  • 1篇金懋昌
  • 1篇杨开愚

传媒

  • 2篇真空科学与技...

年份

  • 2篇1990
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
真空蒸发制备高质量ITO薄膜的化学过程
1990年
用真空热蒸发法在硼硅玻璃基片上获得了高质量的ITO透明导电膜(R□=6.2Ω/□,T=90%,ρ=7.13×10^(-5)Ωcm)。用ESCA对ITO薄膜的致黑因素进行了研究,发现化学计量比偏移是造成透过率降低的主要原因之一。提出了一个新的化学蒸发模型,认为氧化反应不但发生在基片上,也发生在蒸发源的表面附近。源的表面温度控制着化学平衡In_2O(g)+O_2(g)(?)In_2O_3(g)的移动,从而影响蒸发源区的氧化与分解过程,进而决定了薄膜的化学计量比偏移。该模型能很好地解释实验中的现象并与实验结果相吻合。
陈志杨开愚
关键词:化学过程透明导电膜化学计量比表面温度
四极场质谱计临近上限的线性特性
1990年
文中介绍了目前已发表的,四级场质谱计在133×10^(-4)Pa时的结果,测出了四级场质谱计临近上限的线性特性,并对实验结果作出了初步的解释,线性上限由总压强所确定的对稳定离子碰撞损失率所决定,影响线性指数的主要因素是收集极的二次电子发射。
金懋昌陈志
关键词:质谱计收集极二次电子发射影响线
共1页<1>
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