邢丕峰
- 作品数：136 被引量：259H指数：9
- 供职机构：中国工程物理研究院激光聚变研究中心更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划中国工程物理研究院基金绵阳市科技局资助项目更多>>
- 相关领域：理学金属学及工艺一般工业技术核科学技术更多>>
- 一种超精密机床加工区域铀含量循环净化控制方法
- 本发明涉及机床加工区域铀的净化技术领域，具体是一种超精密机床加工区域铀含量循环净化控制方法，用于解决现有技术中不能净化超精密机床设备上的铀粉尘或铀气溶胶，从而危害到工作人员身心健康和安全的问题。本发明包括汽油分离单元，所...
- 李国赵学森邢丕峰杜凯张海军王永红胡振江黄燕华孙涛张强宋成伟
- 钼薄膜制备技术研究被引量：2
- 2009年
- 钼薄膜作为散射层材料常运用在软X射线多层膜中.制备表面超光洁、厚度为几个纳米的钼薄膜对软X射线短波区多层膜的制备具有重要意义.文章介绍了制备钼薄膜的几种方法,包括化学气相沉积、机械研磨、电解抛光、磁控溅射和脉冲激光沉积.比较研究后认为脉冲激光沉积有望满足软X射线短波区多层膜的制备需要.脉冲激光沉积可以制备表面质量高(Rq<10nm),厚度可达几个纳米的薄膜,是制备薄膜的一种重要手段.
- 雷洁红邢丕峰唐永建吴卫东
- 关键词：表面粗糙度脉冲激光沉积软X射线多层膜
- 硫酸–甲醇体系钨电解抛光的可行性研究被引量：10
- 2009年
- 以硫酸–甲醇酸性体系作为电解液,对钨箔进行电解抛光研究。抛光后钨的表面均方根粗糙度和反射率的测试结果表明,该体系完全适用于金属钨的电化学抛光。对钨的阳极溶解行为进行了分析,讨论了溶液组成、槽电压、温度和搅拌速率对电抛光后钨表面粗糙度的影响。初步确定了金属钨电解抛光的工艺参数为:硫酸与甲醇的体积比1∶7,槽电压15～22 V,温度15～25°C,搅拌速率10 m/s。
- 宋萍邢丕峰谌家军李朝阳谢军
- 关键词：钨电解抛光表面粗糙度反射率
- 一种铝模芯表面制备致密铜防护层的方法
- 一种铝模芯表面制备致密铜防护层的方法，它属于惯性约束聚变靶制备领域，具体涉及一种高致密性铜防护层制备方法。本发明的目的是要解决现有铝模芯表面制备铜防护层存在不致密，且铜防护层与铝模芯结合力差的问题。一种铝模芯表面制备致密...
- 邢丕峰赵利平郑凤成柯博易泰民杨蒙生高莎莎李宁王丽雄
- 文献传递
- 工作气压对直流磁控溅射Mo薄膜的影响被引量：7
- 2013年
- 利用直流磁控溅射技术在单晶Si(110)基底上制备Mo薄膜,分析了工作气压对沉积速率、表面质量及微观结构的影响。结果表明:薄膜的沉积速率随压强的增大而增加;低气压下沉积的Mo薄膜表面质量较好且结构致密,高气压下沉积的Mo薄膜表面质量较差且结构疏松;在工作气压为0.8 Pa时,制备的Mo薄膜晶粒尺寸与微观应力值最小。
- 曹德峰万小波邢丕峰易泰民杨蒙生郑凤成徐导进王昆黍楼建设孔泽斌祝伟明
- 关键词：MO薄膜直流磁控溅射工作气压晶粒尺寸
- 衬底温度对PLD制备的Mo薄膜结构及表面形貌的影响被引量：5
- 2009年
- 运用脉冲激光沉积(PLD)技术在Si(100)基片上沉积了金属Mo薄膜。在激光重复频率2Hz,能量密度5.2J/cm2,本底真空10-6Pa的条件下,研究Mo薄膜的结构和表面形貌,讨论了衬底温度对薄膜形貌与结构的影响。原子力显微镜(AFM)图像和X射线小角衍射(XRD)分析表明,薄膜表面平整、光滑,均方根粗糙度小于2nm。沉积温度对Mo薄膜结构和表面形貌影响较大,在373～573K范围内随着温度升高,薄膜粗糙度变小,结晶程度变好。
- 雷洁红邢丕峰唐永建吴卫东
- 关键词：脉冲激光沉积MO薄膜表面粗糙度结晶度
- 密度泛函理论研究LiX(X=H,D,T)体系的热力学性质被引量：1
- 2010年
- 运用量子力学从头计算方法,计算了氢化锂(氘化锂、氚化锂)分子的部分热力学函数和力学、光谱学性质。基于准简谐Debye模型,计算了固体Li的振动内能、振动和电子熵,探讨了Li吸收氢同位素气体生成一氢化物的反应熵变、生成焓变和生成Gibbs自由能及氢同位素的平衡离解压。结果显示:在Li吸收同位素气体生成一氢化物的反应中,生成焓变和反应熵变均为负值,且随温度升高,绝对值越大,Gibbs自由能则向正的方向增加。热力学上,在相同温度和压力下,氢置换一氢化物中的氘和氚、及氘置换氚的反应更易发生。
- 雷洁红邢丕峰唐永建张运娟
- 关键词：密度泛函热力学函数氢化锂
- 退火温度对铝铜复合芯轴铜防护层性能的影响
- 赵利平邢丕峰郑凤成易泰民高莎莎柯博李翠李宁杨蒙生
- 一种获得10<Sup>‑9</Sup>Pa量级超高真空度的设备及其方法
- 一种获得10<Sup>‑9</Sup>Pa量级超高真空度的设备及其方法，它属于真空技术领域，具体涉及一种获得超高真空度的设备及其方法。本发明的目的是要解决现有实现10<Sup>‑9</Sup>Pa量级真空系统组成复杂、成...
- 邢丕峰唐永建柯博王平倬郑凤成易泰民杨蒙生赵利平高莎莎李翠李向新
- 文献传递
- 真空高温氢化法制备Pd-Zr复合膜被引量：1
- 2004年
- 为了获得低成本、高渗氢率、长寿命、高强度的选择渗氢膜,耐熔金属锆(Zr)被选作复合膜的基体。在真空 4.0×10-4 Pa、温度 650 ℃的反应条件下,锆表面氧化 膜 松动 、分解 ,氧化膜被去除 ;再在氢气氛中使其洁净表面上生成一层氢化锆 保 护 膜 ; 在真空度为 6.6×10-6 Pa 下,采用离子溅射镀膜法,在锆片(φ 50 mm×0.23 mm)的双表面上分别镀上了一层厚约 400 nm 的钯(Pd)薄膜,钯膜均 、细 腻 、光洁 , 膜厚易控制 ;再经过退火处理 ,制得了 Pd-Zr复合膜, 膜面致密 , 钯膜与基体锆结合力强 ,内应力消失 。采用 X 射线衍射(XRD)和 X 光电子能谱(XPS)对锆表面及复合膜表面进行了分析。制备的 Pd-Zr 选择渗氢复合膜对核燃料和聚变燃料的纯化及反应堆增殖剂中氚的提取将具有很大的应用前景。
- 陈绍华邢丕峰陈文梅刘俊
- 关键词：氢气纯化复合膜氢化
