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李同保

作品数:76 被引量:118H指数:8
供职机构:同济大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家科技支撑计划上海市科学技术发展基金更多>>
相关领域:理学机械工程电子电信一般工业技术更多>>

文献类型

  • 46篇期刊文章
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  • 9篇会议论文

领域

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  • 26篇机械工程
  • 18篇电子电信
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主题

  • 26篇光刻
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  • 24篇原子
  • 24篇原子光刻
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  • 9篇光学
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  • 7篇激光驻波场
  • 6篇稳频
  • 6篇激光冷却
  • 5篇准直
  • 5篇激光准直
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  • 4篇声致发光
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  • 4篇中子辐照
  • 4篇相干
  • 4篇相干光

机构

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  • 3篇中国计量学院
  • 2篇清华大学
  • 2篇中国计量科学...
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  • 1篇上海市特殊人...

作者

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传媒

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  • 1篇应用声学
  • 1篇光电子技术与...
  • 1篇计量技术
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  • 1篇激光技术
  • 1篇激光杂志
  • 1篇应用光学
  • 1篇声学技术
  • 1篇上海计量测试
  • 1篇光源与照明

年份

  • 3篇2024
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  • 5篇2008
  • 6篇2007
  • 6篇2006
  • 2篇2005
  • 2篇2004
  • 3篇2002
76 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种用于加速度振动传感器的校准方法
本发明涉及一种用于加速度振动传感器的校准方法,方法采用一种用于加速度振动传感器的校准装置,方法包括以下步骤:S1、将待校准振动传感器以待校准轴与激振方向平行的姿态固定于水平滑台上;S2、采用信号采集与传输设备,对自溯源光...
邓晓程鑫彬常郅坤林子超李同保
预准直孔系结构及其实现监测原子束冷却效果的方法
本发明为一种预准直孔系结构及其实现监测原子束冷却效果的方法。该预准直孔系结构,包括一个主预准直孔和两个监测孔,其中的两个监测孔的尺寸相同并且对称的分布于主预准直孔的两侧,三个孔的中心位于同一直线上。在激光汇聚原子束沉积过...
李同保马艳张宝武张文涛
文献传递
一种自溯源型光栅干涉精密位移测量系统
本发明涉及一种自溯源型光栅干涉精密位移测量系统,包括相干光源、光电探测模块、自溯源光栅和信号处理模块,所述自溯源光栅设置于待测的位移运动平台上,所述相干光源、光电探测模块和信号处理模块依次连接,所述相干光源产生的激光经光...
邓晓程鑫彬林子超顾振杰姚玉林李同保
文献传递
高斯激光驻波场沉积Na原子的量子理论分析被引量:2
2008年
利用量子理论,通过CRANK-NICOLSON数值方法对23Na原子受激光驻波场作用的物理过程进行模拟.模拟结果表明:正失谐时,原子以λ/2为周期会聚在驻波光场中波节处.随着光势阱加深或原子纵向速度改变,原子会聚结果分别符合薄透镜、厚透镜及沟道化模型.厚透镜模型中,当原子纵向速度增加,原子密度峰位置沿z方向向后漂移,峰在z方向半高宽增加.当激光功率增加或激光束腰减小,会聚面上峰半高宽减小,对比度增加,峰值增加.
赵敏王占山马彬马艳李同保
关键词:量子理论原子光刻对比度
一维原子光刻经典模型的优化被引量:8
2011年
利用蒙特卡罗随机思想选取轨迹初始条件,将铬原子束同位素、纵向速度分布和横向高斯发散角等因素综合考虑,对原子光刻经典粒子模型进行了优化。将优化后的模型与原模型进行了对比,同时定性分析了表面生长效应。利用新模型在不同激光功率下对沉积过程进行数值模拟,结果表明模拟结果与实验符合得很好。进一步分析了失谐对沉积的影响,当失谐选取250×2πMHz时,可得到较好的沉积结果。该模型较好地整合了沉积过程中的各个影响因素,这为正在进行的实验提供了更好的理论基础。
张萍萍马艳李同保
关键词:激光光学原子光刻粒子光学蒙特卡罗方法
一种基于拼接原子光刻技术的大面积自溯源光栅制备方法
本发明涉及一种基于拼接原子光刻技术的大面积自溯源光栅制备方法,包括以下步骤:基于原子光刻技术在基板上进行一次原子光刻,获得原子光刻光栅样板;至少循环执行一次以下操作:利用光阑的限位作用,保持会聚光指向不变,将主透镜及当前...
程鑫彬邓晓谭文肖光旭唐朝辉林子超李同保
从黑体辐射标准到量子坎德拉被引量:2
2016年
介绍了基于基本物理常数的国际单位制(SI)新定义的背景和框架。重点对作为国际单位制(SI)7个基本单位之一的坎德拉的可能变化进行评述。
李同保
关键词:基本物理常数坎德拉单光子探测
基于AFM硅表面局域阳极氧化的特性研究及纳米计量标准样板的制作被引量:1
2016年
基于原子力显微镜(AFM)在硅(Si)表面进行局域阳极氧化的技术,以其成本低、易加工等优势被广泛应用于各种纳米元器件的制造.本文基于AFM在Si表面进行局域阳极氧化来制作纳米计量标准样板,首先分别在接触模式和轻敲模式下进行实验,定量分析了偏置电压、移动速率和刻蚀方向等主要参数对所得纳米线尺寸的影响,从而得到标准样板制作的最佳加工参数:在探针针尖电压为-7 V、移动速率为0.3μm/s、Z Distance值为-45 nm时,可以产生稳定的标准样板结构;同时两种模式下对纳米氧化线的影响趋势相同.最后在此最佳参数下,利用AFM在Si表面进行局域阳极氧化,加工得到了一维线光栅、二维光栅和圆形光栅结构.
程锋马艳马蕊李同保
关键词:原子力显微镜阳极氧化光栅
一种具备自溯源角度的二维光栅标准物质及其制备方法
本发明涉及一种具备自溯源角度的二维光栅标准物质及其制备方法,该方法具体为:掩膜版基板的设计和加工,掩膜版基板上开有四个窗口(3),四个相同大小的窗口(3)在掩膜版基板中间区域呈十字形对称分布;掩膜版的制造,采用激光汇聚原...
程鑫彬邓晓唐朝辉肖光旭尹志珺李同保
^(52)Cr原子束激光生荧光稳频技术被引量:4
2005年
通过分析52Cr原子光刻对激光系统的技术要求,详细介绍了一种基于原子束激光感生荧光(LIF)光 谱技术的稳频方法。
张宝武李同保郑春兰
关键词:原子光刻激光稳频
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