朱逢吾
- 作品数：109 被引量：285H指数：10
- 供职机构：北京科技大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金北京市自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：一般工业技术理学金属学及工艺电气工程更多>>
- 磁控溅射方法制备(CoCr/Pt)<,20>纳米多层膜及表征
- 采用磁控溅射方法制备了性能优良的以Pt为缓冲层的(CoCr/Pt)<,20>纳米多层膜,研究了溅射气压对(CoCr/Pt)<,20>纳米多层膜的微结构和磁性的影响.所有样品溅射时玻璃基片温度保持在220℃,Ar溅射气压从...
- 黄阀李宝河杨涛翟中海朱逢吾
- 关键词：溅射气压纳米多层膜各向异性磁控溅射
- 文献传递
- 具有垂直各向异性(Pt/Co)_n/FeMn多层膜的交换偏置被引量：2
- 2006年
- 采用磁控溅射方法制备了以Pt为缓冲层和保护层的具有垂直各向异性(Pt/Co)n/FeMn多层膜.研究结果表明,多层膜的垂直交换偏置场Hex和反铁磁层厚度的关系与其具有平面各向异性的交换偏置场随反铁磁层厚度变化趋势相近.随着铁磁层调制周期数的增加,垂直交换偏置场Hex相应减小,并且与铁磁层的调制周期数近似成反比关系.(Pt/Co)3/FeMn的垂直交换偏置场Hex已经达到22·3kA/m.为了进一步提高Hex,在Co/FeMn的界面插入Pt层,当Pt层厚度为0·4nm时,Hex达到最大值39·8kA/m.
- 翟中海滕蛟李宝河王立锦于广华朱逢吾
- 关键词：交换偏置多层膜
- 一种提高电子罗盘精度的磁电阻薄膜的制备方法
- 本发明提供了一种提高电子罗盘精度的磁电阻薄膜的制备方法，属于磁性多层膜的制备技术领域。制备工艺为：在清洗干净的玻璃基片或单晶硅基片上沉积(Ni<Sub>0.81</Sub>Fe<Sub>0.19</Sub>)<Sub>5...
- 于广华张辉腾蛟王立锦李希胜朱逢吾
- 文献传递
- 一种各向异性磁电阻坡莫合金薄膜的制备方法
- 一种各向异性磁电阻坡莫合金薄膜的制备方法，涉及功能材料薄膜的制备，特别是涉及制备磁电阻薄膜。本方法是在清洗干净的玻璃基片上或单晶硅基片上沉积镍铁Ni<Sub>0.81</Sub>Fe<Sub>0.19</Sub>薄膜，将...
- 朱逢吾于广华李海峰杨涛滕胶
- 文献传递
- 一种抗水高强氧化铝水泥制造方法
- 本发明属非金属材料生产工艺。;现行的抗水高强氧化铝水泥制造方法是通过在氧化铝水泥与部份碱化的溶水性聚醋酸乙烯中加入适量有机二羧酸或丁二酸并在温度为60～120℃、压力为200～250kg/cm<Sup>2</Sup>下成...
- 李浩朱逢吾职任涛肖纪美
- NiMn薄膜的无序有序转变被引量：2
- 2002年
- 研究了 Ｓｉ／Ｔａ／ＮｉＭｎ／Ａｌ和 Ｓｉ／ＮｉＦｅ／ＮｉＭｎ／Ａｌ多层膜中 ＮｉＭｎ薄膜经 ３００℃ ５ ｈ不同次 数循环退火后的有序化情况，Ｘ射线衍射定量计算结果表明，高温循环退火能极大地促进ＮｉＭｎ 薄膜的有序化、ＮｉＭｎ 薄膜中有序相的含量随退火循环数的增加而持续增加，但含ＮｉＦｅ层的膜 有序化过程要比无ＮｉＦｅ层时级慢．显然，ＮｉＦｅ对ＮｉＭｎ的有序化有阻碍作用．
- 曾立荣彭子龙朱逢吾赖武彦
- 关键词：有序相微观结构多层膜
- Cu掺杂对Fe_xPt_(1-x)薄膜有序化的影响被引量：5
- 2006年
- 利用磁控溅射制备了薄膜厚度为50nm的系列(FexPt1-x)100-yCuy(x=0·46—0·56,y=0,0·04,0·12)样品.利用直流共溅射方法精确控制Fe和Pt的原子比.实验结果表明,当x>0·52时,样品中添加Cu不能促进FePt的有序化,但是对于FePt化学原子定比或富Pt的样品,添加Cu可以促进FePt有序化,而且随着Fe含量的减少,需要更多的Cu添加才能实现较低温度下FePt薄膜的有序化.实验结果表明,原子比(FeCu)/Pt达到1·1—1·2的范围时,即可实现较低温度的有序化.
- 李宝河冯春杨涛翟中海滕蛟于广华朱逢吾
- 关键词：磁控溅射有序度CU掺杂
- 一种高分辨率磁编码器磁鼓的制备方法
- 本发明提供了一种高分辨率磁编码器磁鼓的制备方法。采用涂布工艺，挤压成形制备磁鼓材料。将磁粉、粘结剂、稀释剂、固化剂、分散剂按比例混合制成磁浆，然后涂布于磁鼓基体上。将涂布后的磁鼓基体旋转固化。在磁浆处于半固化状态时，用高...
- 王海成王立锦于广华杨涛朱逢吾
- 文献传递
- 金属间化合物脆性研究中的若干物理问题被引量：10
- 1997年
- 扼要介绍了金属间化合物的基本性质和用途，重点介绍了近十多年来在改善金属间化合物脆性方面取得的重大进展，讨论了环境脆化现象及其机理。
- 朱逢吾翁军
- 关键词：金属间化合物脆性电子浓度
- 利用射频磁控溅射制作高性能铁磁性薄膜的研究被引量：1
- 1998年
- 讨论了用射频（ＲＦ）磁控溅射制作铁磁性薄膜工艺，合适的工艺参数能够获得较低的矫顽力Ｈｃ＝６Ｏｅ。用Ｘ射线光电子能谱（ＸＰＳ）和原子力显微镜（ＡＦＭ）研究膜表面情况及氧化深度。
- 夏洋于广华朱逢吾肖纪美方光旦宋庆山熊鑫恩
- 关键词：巨磁电阻铁磁性射频磁控溅射
