颜景岳
- 作品数：3 被引量：4H指数：1
- 供职机构：河北大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金天津市应用基础与前沿技术研究计划更多>>
- 相关领域：一般工业技术金属学及工艺理学更多>>
- 磁控溅射技术设计合成TiAlN/Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>纳米多层膜的研究
- 本文利用磁控溅射方法在蓝宝石基底和硅基底上制备TiAlN/Al2O3多层膜。我们运用小角X射线衍射(XRD)和扫描隧道显微镜(SEM)来研究薄膜的多层结构,用大角X射线衍射(XRD)来测试多层膜的晶体结构,用纳米压痕仪来...
- 颜景岳
- 关键词：磁控溅射
- 工作气压和基底偏压对ZrB_2/AlN纳米多层膜结构和机械性能的影响被引量：3
- 2011年
- 利用射频磁控溅射技术在不同工作气压和不同基底偏压条件下在Si(100)基底上设计合成了ZrB2/AlN纳米多层膜。利用X射线衍射、扫描电子显微镜、纳米力学测试系统和表面轮廓仪分析了工作气压和基底偏压对薄膜的微结构和机械性能的影响。结果表明:大部分ZrB2/AlN多层膜的纳米硬度与弹性模量值高于两种个体材料的混合值。当工作气压为0.4Pa,基底偏压为-60 V时,制备的薄膜具有最高的硬度(36.8 GPa)、最高的弹性模量(488.7 GPa)和最高的临界载荷(43.6 mN)。基底偏压的升高和工作气压的降低会使沉积粒子的动能提高,引起薄膜表面原子迁移率提高,导致薄膜的原子密度提高,起到位错钉扎的作用,晶粒尺度也被限制在纳米尺度,这些均对提高薄膜的硬度和抗裂强度起到了作用。
- 龚杰刘孟寅王海媛薛凤英颜景岳张帅王晖李德军
- 关键词：射频磁控溅射工作气压
- 离子束辅助沉积法制备TiAlN/TiB_2纳米多层膜的研究被引量：1
- 2011年
- 运用离子束辅助沉积法(IBAD)制备了一系列具有不同调制比例的TiAlN/TiB2纳米多层膜,利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和纳米压痕等表征手段研究了薄膜调制比例对其硬度、内应力和膜基结合力等力学性质的影响.结果表明:随着调制比例从8∶1变化到25∶1,多层膜的硬度在29～34 GPa之间变化,所有多层膜的硬度均高于TiAlN和TiB2两种各体层材料通过混合法则得的结果,结合XRD结果分析认为,TiAlN(111)择优取向是薄膜硬度升高的一个重要原因.
- 孙延东颜景岳张帅董磊曹猛刘梦寅李德军
- 关键词：离子束辅助沉积
