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胡彬彬

作品数:1 被引量:2H指数:1
供职机构:浙江大学材料科学与工程学系硅材料国家重点实验室更多>>
相关领域:理学机械工程更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇机械工程
  • 1篇理学

主题

  • 1篇氧化铅
  • 1篇射线衍射
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射制备
  • 1篇X射线衍射
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇磁控溅射制备

机构

  • 1篇浙江大学

作者

  • 1篇黄伟霞
  • 1篇胡彬彬
  • 1篇季振国
  • 1篇霍丽娟
  • 1篇袁苑

传媒

  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 1篇2006
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
直流反应磁控溅射制备氧化铅薄膜被引量:2
2006年
通过直流反应磁控溅射的方法制备了氧化铅薄膜,并通过XRD和紫外-可见光(UV-Vis)吸收谱对薄膜的晶体结构和光学性能进行了表征。我们发现,直流反应磁控溅射金属铅靶可以形成三种氧化铅薄膜,即非晶态PbO,正交晶系的-βPbO,以及四方晶系的Pb3O4。X射线衍射结果表明,衬底温度和氧气流量对薄膜的生长有很大的影响。当衬底温度小于300℃时,薄膜呈非晶状态,当衬底温度超过300℃时,薄膜开始结晶。另外,氧气流量的改变引起薄膜晶体结构的明显变化。当氧气流量较小时,薄膜为立方相结构的PbO;随着氧气流量的增加,薄膜的晶体结构发生改变,生成四方相结构的Pb3O4的薄膜。UV-Vis吸收谱测试结果表明,不同条件下制备的氧化铅薄膜的UV-Vis吸收谱明显不同。
胡彬彬季振国袁苑霍丽娟黄伟霞
关键词:氧化铅磁控溅射X射线衍射
共1页<1>
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