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杨如森
作品数:
3
被引量:8
H指数:1
供职机构:
吉林大学
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发文基金:
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国家自然科学基金
国家高技术研究发展计划
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相关领域:
电子电信
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合作作者
杨树人
吉林大学电子科学与工程学院
杜国同
吉林大学电子科学与工程学院
王新强
吉林大学电子科学与工程学院
李献杰
吉林大学电子科学与工程学院
姜秀英
吉林大学电子科学与工程学院
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MOCVD法...
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机构
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作者
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杨如森
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王新强
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杜国同
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杨树人
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高等学校化学...
年份
1篇
2002
1篇
2001
1篇
1999
共
3
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ZnO薄膜的制备及性质的研究
该文采用了射频反应磁控溅射方法,并选择Si和载波片两种不同衬底,在不同的氧气分压下制备了ZnO薄膜,利用多种分析手段对薄膜的晶体结构、表面形貌、薄膜成分和能带结构等基本性质进行了研究.其结果为:在氧气分压较高时薄膜的结晶...
杨如森
关键词:
射频反应磁控溅射
ZNO薄膜
文献传递
ZnO 薄膜的制备及性质的研究 Study of Preparation and Properties of ZnO Films
杨如森
等离子体增强MOCVD法生长ZnO薄膜
被引量:8
2002年
利用等离子体增强MOCVD法生长出 ZnO薄膜,用X射线衍射谱观察到位于 2θ34.56°处(0002)的衍射峰,表明ZnO沿c方向呈柱状生长.通过荧光光谱,观察到来自于激子的高强度的近带边紫外光发射(375um).紫外发射光强度与深能级复合发射光强度比高达 193,显示出材料的高质量,并通过原子力显微镜加以验证.为了实现高阻ZnO薄膜,利用高温富氧分段退火和用N2 气进行掺氮两种方法生长高阻ZnO薄膜.结果表明,电阻率由0.65 Ω·cm分别升高到1100 Ω·cm(分段退火)和5×104Ω·cm(掺氮).进一步比较发现,掺氮的样品不仅电阻率高,而且光荧光特性好,显示出更高的薄膜质量.
王新强
杨树人
王金忠
李献杰
殷景志
姜秀英
杜国同
杨如森
高春晓
Ong H.C.
关键词:
等离子体增强
MOCVD法
ZNO薄膜
原子力显微镜
半导体薄膜
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