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杨如森

作品数:3 被引量:8H指数:1
供职机构:吉林大学更多>>
发文基金:国家重点实验室开放基金国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信理学更多>>

文献类型

  • 2篇学位论文
  • 1篇期刊文章

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 2篇ZNO
  • 2篇ZNO薄膜
  • 1篇导体
  • 1篇等离子体增强
  • 1篇原子力显微镜
  • 1篇射频反应磁控...
  • 1篇溅射
  • 1篇反应磁控溅射
  • 1篇半导体
  • 1篇半导体薄膜
  • 1篇STUDY
  • 1篇ZNO_FI...
  • 1篇MOCVD法
  • 1篇MOCVD法...
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 3篇吉林大学
  • 1篇香港城市大学

作者

  • 3篇杨如森
  • 1篇高春晓
  • 1篇王金忠
  • 1篇殷景志
  • 1篇姜秀英
  • 1篇李献杰
  • 1篇王新强
  • 1篇杜国同
  • 1篇杨树人

传媒

  • 1篇高等学校化学...

年份

  • 1篇2002
  • 1篇2001
  • 1篇1999
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
ZnO薄膜的制备及性质的研究
该文采用了射频反应磁控溅射方法,并选择Si和载波片两种不同衬底,在不同的氧气分压下制备了ZnO薄膜,利用多种分析手段对薄膜的晶体结构、表面形貌、薄膜成分和能带结构等基本性质进行了研究.其结果为:在氧气分压较高时薄膜的结晶...
杨如森
关键词:射频反应磁控溅射ZNO薄膜
文献传递
ZnO 薄膜的制备及性质的研究 Study of Preparation and Properties of ZnO Films
杨如森
等离子体增强MOCVD法生长ZnO薄膜被引量:8
2002年
利用等离子体增强MOCVD法生长出 ZnO薄膜,用X射线衍射谱观察到位于 2θ34.56°处(0002)的衍射峰,表明ZnO沿c方向呈柱状生长.通过荧光光谱,观察到来自于激子的高强度的近带边紫外光发射(375um).紫外发射光强度与深能级复合发射光强度比高达 193,显示出材料的高质量,并通过原子力显微镜加以验证.为了实现高阻ZnO薄膜,利用高温富氧分段退火和用N2 气进行掺氮两种方法生长高阻ZnO薄膜.结果表明,电阻率由0.65 Ω·cm分别升高到1100 Ω·cm(分段退火)和5×104Ω·cm(掺氮).进一步比较发现,掺氮的样品不仅电阻率高,而且光荧光特性好,显示出更高的薄膜质量.
王新强杨树人王金忠李献杰殷景志姜秀英杜国同杨如森高春晓Ong H.C.
关键词:等离子体增强MOCVD法ZNO薄膜原子力显微镜半导体薄膜
共1页<1>
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