2024年11月6日
星期三
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杜小龙
作品数:
186
被引量:28
H指数:4
供职机构:
中国科学院物理研究所
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国家自然科学基金
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相关领域:
电子电信
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合作作者
梅增霞
中国科学院物理研究所
刘尧平
中国科学院物理研究所
梁会力
中国科学院物理研究所
王燕
中国科学院物理研究所
薛其坤
清华大学理学院物理系
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作者
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杜小龙
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刘尧平
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2007
5篇
2006
11篇
2005
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186
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一种在Si(111)衬底上制备高质量ZnO单晶薄膜的方法
本发明公开了一种在硅(111)衬底上制备高质量氧化锌单晶薄膜的方法,即分五步依次在超高真空环境下热处理硅衬底获得清洁的Si(111)面:1.低温沉积1~10nm厚的金属单晶薄膜如镁、钙、锶、镉等,2.低温氧化金属膜以获得...
杜小龙
王喜娜
曾兆权
袁洪涛
梅增霞
薛其坤
贾金锋
文献传递
ZnO金属肖特基接触的制备方法及其在紫外探测器中的应用
本发明公开了一种利用MBE低温生长法在ZnO单晶薄膜表面原位制备金属薄膜电极而形成肖特基接触的方法,尤其是超高真空原位沉积金属导电薄膜的方法。其步骤为:利用超高真空传样系统,将MBE生长室制备好的ZnO单晶薄膜样品直接经...
张天冲
梅增霞
郑浩
杜小龙
薛其坤
罗强
顾长志
文献传递
一种硅的氧化钝化方法及钝化装置
本发明提供一种硅的氧化钝化方法,其特征在于利用臭氧对硅的表面进行氧化钝化。本发明还提供了一种用于钝化硅的钝化装置。本发明提供的钝化方法不仅降低了氧化钝化处理的温度,有效地增加了少数载流子的寿命,而且也提高了钝化膜二氧化硅...
王燕
刘尧平
梅增霞
杜小龙
LSAT(111)衬底上ZnO单晶薄膜的分子束外延生长
利用射频等离子体辅助分子束外延(RF-MBE)法,我们在LSAT(111)衬底上制备ZnO单晶薄膜.对比研究了O等离子体预处理以及金属Zn薄层预沉积等不同衬底预处理工艺对ZnO外延膜的生长过程、外延取向关系以及表面形貌的...
英敏菊
杜小龙
梅增霞
曾兆权
周忠堂
郑浩
袁洪涛
周均铭
贾金锋
薛其坤
关键词:
分子束外延生长
文献传递
一种耐活性氧腐蚀的新型高效衬底加热装置
本发明公开了一种耐活性氧腐蚀的衬底加热装置,包括固定板、两端开口的热屏蔽套筒、一片以上热屏蔽片、高温加热单元、一端开口的透明隔离罩单元以及衬底放置单元。本发明采用合理物理几何设计结构,能获得不低于1000℃均匀平面温场,...
李含冬
杜小龙
梅增霞
曾兆权
袁洪涛
王喜娜
董靖
张天冲
薛其坤
文献传递
一种通过重复利用黑硅清洗液对硅片进行制绒的方法
本发明公开了一种通过重复利用黑硅清洗液对硅片进行制绒的方法,包括:(1)将硅片浸入包含0.01‑200mmol/L的金属离子盐、1‑10mol/L的氢氟酸和0.1‑10mol/L的黑硅制绒液中进行制绒;(2)用去离子水清...
赵燕
刘尧平
王燕
杜小龙
朱姚培
唐磊
蒋健
王磊
文献传递
ZnO(000)表面的同步辐射角分辨光电子能谱研究
被引量:3
2007年
利用同步辐射角分辨光电子能谱(angle-resolved photoeletron spectroscopy,ARPES)并结合全势缀加平面波(full potential linearized augmented plane waves,FPLAPW)理论计算方法研究了ZnO(000)表面的价带电子结构及能带色散.通过垂直出射的ARPES得到ZnO体态沿ΓA方向的能带结构并确定了两个表面态,实验结果与理论计算结果较为一致.利用非垂直出射的ARPES得到这两个表面态沿ΓKM方向的二维能带色散.
徐彭寿
武煜宇
邹崇文
孙柏
袁洪涛
杜小龙
关键词:
角分辨光电子能谱
含三种掺杂剂的p型氧化锌薄膜及其制造方法
本发明公开了一种含三种掺杂剂的p型氧化锌薄膜及其制造方法,在含锂衬底上依次包括ZnO缓冲层、ZnO外延层和P型ZnO三元共掺层,其中,三元共掺层所包含的三种掺杂剂为:锂,和氮,和铝或镓。本发明的有益效果为:在含锂衬底上采...
杜小龙
薛其坤
贾金锋
曾兆权
袁洪涛
英敏菊
梅增霞
郑浩
文献传递
一种用于提炼高纯材料的高真空原位精炼装置
本发明公开了一种用于提炼高纯以及超高纯材料的高真空原位精炼装置,该高真空精炼装置由提炼腔、真空系统、扩散炉、坩锅、进料取料系统、保护气体装置以及工业智能温度控制器通过真空管件、气路以及导线等将各部分连接构成精炼装置整体。...
杜小龙
曾兆权
袁洪涛
薛其坤
贾金锋
李含冬
王喜娜
文献传递
晶硅制绒槽
本发明提供了一种晶硅制绒槽,包括沿所述晶硅的操作方向依次排列的金属催化刻蚀槽、残余金属清洗槽、二次清洗槽和干燥预处理槽。本发明的晶硅制绒槽成本低、通用性好,能用于单晶硅和多晶硅的制绒工艺中。
刘尧平
陈伟
杨丽霞
杜小龙
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