吴兴坤
- 作品数：83 被引量：171H指数：8
- 供职机构：浙江大学更多>>
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- 相关领域：电子电信自动化与计算机技术理学机械工程更多>>
- 一种基于软光刻的光互联耦合结构
- 本发明公开了一种基于软光刻的光互联耦合结构。包括两个反射面和两个中间耦合设配段，依次连接在方形波导管的两侧，形成一个对称连接的连接体安装在印刷电路板上，印刷电路板上开有通孔，光源和光接收器则安置在印刷电路板的另一侧，光源...
- 吴君豪鲍俊峰吴兴坤
- 文献传递
- 基于软光刻的高聚物多模光功率分配器被引量：4
- 2008年
- 设计并制作了一种紧凑型高聚物光功率分配器,该器件长度比传统器件结构缩短近1/3,实现了器件的微型化改进。利用设计仿真工具BeamProp对器件所需参量进行详细的筛选分析,最终确定了器件结构的具体数值。采用极具优势的软光刻技术印制成功高聚物1×8光功率分配器,在实际的测量中所得损耗结果与模拟仿真符合较好。该器件很大程度上迎合了通信器件微型化的发展趋势,且所采用的制作工艺具有加工便捷,成型快速,成本低廉等独特优势,使器件的规模生产成为可能。
- 李书林巧倪玮楼歆晔吴兴坤
- 关键词：光通信光功率分配器软光刻
- 基于非对称圆弧Y分叉单元的多模光功率分配器结构设计
- 2011年
- 采用光束传播法(BPM)获取一种全新的基于非对称Y分光单元的多模光功率分配器设计。针对光能量在多模传输波导中分布不均的特点,引入了基于圆弧结构的非对称结构,从而实现了对波导中能量的平均分配。通过对各设计参数与输出功率的关联分析,导出了一系列同多模功率分配器结构相关的公式。以此为基础确定了分别对应于62.5μm,120μm波导宽度的1×4,1×8多模光功率分配器的结构及具体参数。其器件长度分别为7.6 mm,21.7 mm。理论计算表明此两种器件在1.31μm窗口具有极为均匀的分光性,对应的插入损耗为6.05 dB及9.06 dB,器件的偏振相关损耗大约在0.2 dB。
- 李书林巧吴兴坤
- 关键词：光学设计光功率分配器组件
- 基于微环的1×N动态光波长路由器
- 本发明公开了一种基于微环的1×N动态光波长路由器。在芯层中设有输入波导、N个输出波导和N个微环，N个微环分别与各自的输出波导相邻。上包层上面设有与N个微环相对应的N个环形上电极，通过电光效应，改变微环的折射率，从而控制微...
- 郭媛媛吴兴坤
- 文献传递
- 一种集成于光纤端面的亚波长聚焦透镜
- 本发明公开了一种集成于光纤端面的亚波长聚焦透镜，该透镜基本结构为与光纤对接的正立圆台，圆台上端面为空心的倒立圆锥；其中，在入射波长区间为400～1600nm，透镜折射率与耦合光纤折射率相接近，范围为1.4~1.7的情况下...
- 吴兴坤黄河
- 高分辨率亚纳量级光学三维加速度计
- 本发明公开了一种高分辨率亚纳量级光学三维加速度计。光源经光分束器分别与三个光纤耦合器相连，三个光纤耦合器分别经三个光信号放大器与带通滤波器输入端相连，带通滤波器的三个输出端经AD转换器分别与数字信号处理电路板的输入端相连...
- 潘建彬倪玮吴兴坤
- 文献传递
- 60km已敷设光纤链路中PMD部分补偿方案
- 2009年
- 偏振模色散(PMD)在40Gb/s或更高速率的光纤通信系统中已成为限制系统性能的主要因素。为使PMD补偿经济、控制方便,具有一定的工程实用价值,提出了一套采用两级固定时延补偿结构的PMD部分补偿方案,设计并制作了PMD补偿器,在实际传输线路中进行了测试。测试结果与光通信系统设计软件Optiwave Optisystem模拟补偿效果进行了对比,优化了补偿器的各项参数。在对实际敷设的四组长约60km的光纤链路的补偿试验中所得结果与计算结果符合较好,实现了15～20%的补偿量。
- 陶宁张立永吴兴坤
- 关键词：光通信光纤链路
- 一种基于光纤LP<Sub>21</Sub>模式的光路转向型的光纤应变传感器
- 本发明涉及一种基于光纤LP<Sub>21</Sub>模式的光路转向型的光纤应变传感器，包括可弯曲与扭曲的基板、光斑探测器和至少一组以上光纤光斑产生及传感装置，所述的光纤光斑产生及传感装置包括光源、模式选择器和基于光纤LP...
- 袁余锋魏婉婷吴兴坤
- 文献传递
- 全合成法光纤预制棒制造研究被引量：4
- 2008年
- 介绍了一种全新的全合成法G.655和G.656光纤制造工艺,详细分析了该工艺中芯层折射率差Δ0、芯层厚度a、第二包层的折射率差Δ2、第二包层的厚度c2等结构参量与光纤光学性能的关系.结果表明,制造该两种光纤时,Δ0应在0.0120～0.0155之间,Δ2应在0.0140～0.0230之间,a应在2.8～3.2μm之间,c2应在满足截止波长的要求下尽可能小.
- 张立永吴兴坤杨军勇曹松峰
- 关键词：折射率剖面光纤预制棒G.655光纤
- 非零色散位移光纤的改进设计及制造被引量：2
- 2009年
- 介绍了一种新颖的非零色散位移光纤结构设计方法及其MCVD+OVD制造工艺,所制备的光纤有效面积达到71μm2以上。采用关键结构区域精确微扰方法,改进了光纤的色散特性,1550nm处色散斜率由0.0715ps/(nm2.km),分别减小至0.0605ps/(nm2.km),0.0466ps/(nm2.km),零色散波长由1500nm附近移至1450nm以下。测量表明,所得光纤具有优越的光学传输特性、抗弯曲性能和熔接性能,适用于C+L和S+C+L工作波长的大容量高速率长距离密集波分复用系统。光纤关键结构区域精确微扰是改进光纤性能的一种有效方法,该方法不限于MCVD工艺和非零色散位移光纤,对新型光纤的设计和生产具有积极的指导意义。
- 吴金东吴兴坤卢卫民吴海港张立永黄晓鹏
- 关键词：光纤光学非零色散位移光纤色散斜率大有效面积
