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黄燕清

作品数:5 被引量:8H指数:2
供职机构:中国科学院金属腐蚀与防护研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信化学工程一般工业技术金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 5篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇化学工程
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 3篇离子镀
  • 2篇陶瓷
  • 2篇陶瓷薄膜
  • 2篇浸润性
  • 1篇电弧离子镀
  • 1篇镀膜
  • 1篇扫描电子显微...
  • 1篇属对
  • 1篇气相沉积
  • 1篇相结构
  • 1篇临界载荷
  • 1篇金属
  • 1篇晶体
  • 1篇晶体学
  • 1篇弧光放电
  • 1篇化学气相
  • 1篇化学气相沉积
  • 1篇溅射
  • 1篇放电
  • 1篇附着性

机构

  • 4篇大连理工大学
  • 4篇东海大学
  • 1篇中国科学院

作者

  • 5篇黄燕清
  • 4篇王家祥
  • 3篇陈宝清
  • 2篇王斐杰
  • 1篇于力
  • 1篇金柱京
  • 1篇陈宝清

传媒

  • 3篇真空
  • 1篇金属学报
  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 1篇1994
  • 1篇1991
  • 3篇1990
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
熔融纯金属对TiN、TiC陶瓷薄膜的浸润性被引量:3
1990年
本文采用静滴法对液态纯金属在 TiN、 TiC陶瓷薄膜上的浸润性进行了研究。测 量结果表明,浸润角与系统温度间有相关性,并与整体陶瓷与液态纯金属间的测量结果 相吻合。从附着功的角度对金属与陶瓷薄膜间的结合力进行了初步的探讨。
王家祥陈宝清王斐杰郭可訒黄燕清
关键词:浸润性
Cu基体离子镀Al膜的相结构及晶体学位向关系
1990年
本文用X射线衍射仪和透射电子显微镜研究了 Cu基体离子镀 Al膜的相结构及 晶体学位向关系。 X射线衍射分析结果表明了 Cu-Al过渡层中各合金相的存在并发 现负偏压和极间距是影响合金相形成的主要因素。两者的变化将影响表面温度的升高。 每一个Cu-Al合金相图中存在的中间相在Cu基离子镀A1膜的过渡层中的存在都 对应一个温度区间.在极间距一定的情况下,该温度区间对应着负偏压的区间。极间距 加大,该负偏压区间升高。用透射电镜观察了一定工艺参数下的 Cu基离子镀 Al膜, 发现了与X射线分析结果相对应的一系列合金相的存在.它们是,AL_4Cu_9(Complex Cubic),AlCu_3(Orthorhombic),CuA1_2(Primitive Tetragnal), AlCu (Primitive Monoclinie)及AlCu_4(Cubic).观察了合金相的形态并确定了合 金相与基体 Cu及股 Al 间的晶体学位向关系。
王家祥陈宝清王斐杰王绍庭郭可訒黄燕清
关键词:镀膜相结构晶体学
Co对弧光放电离子镀WC-Co膜生长的影响
1994年
利用弧光放电离子镀法获得了难熔超硬WC-Co膜(其中含Co为0,4,15wt-%).随着Co含量的增加,使真空室里等离子态趋于稳定,并使成膜速度增加;其组织结构为Thornton图里的T区,并逐渐由柱状晶组织变成致密的组织结构。
于力金柱京黄燕清朱天锦吉川一功
关键词:弧光放电离子镀
陶瓷薄膜与金属间的浸润性及其界面的研究被引量:5
1991年
本文在对 TiN、TiC陶瓷薄膜与金属 Ag、 Cu、 Ni、 Fe间的浸润性测量的基础上,用扫描电子显微镜(SEM)、电子探针(EPMA)对其界面进行了观察。结果表明:浸润性较差的Ag、Cu与TiN、TiC的界面平整,几乎没有发生相互扩散和化学反应;而浸润性较好的 Fe、Ni与 TiN、TiC的界面有明显的扩散和化学反应现象沿着TiN、TiC的晶界扩散;薄膜部分甚至全部溶入金属中。TiC薄膜与Fe的界面反应程度大于TiN 薄膜。
王家祥陈宝清郭可讱黄燕清
关键词:陶瓷薄膜金属浸润性
用划痕试验法测定薄膜附着性过程中薄膜破裂形态的研究
1990年
本文通过对表征TiN、TiC薄膜与基体间附着力的划痕试验结果的深入分析发现,划痕试验中,压头在簿膜上的滑动特征以及标志此特征的作用于压头上的垂直力(载荷)与水平力(摩擦力)构成的曲线不但与薄膜与基体间的结合力有关,而且与薄膜的表面形态、膜厚以及薄膜的韧性等因素有关。薄膜破裂时,压头在薄膜上的滑动特征发生突然变化,伴随摩擦系数变化及摩擦力的剧烈变化。这些变化可做为判定薄膜临界载荷的依据,用扫描电子显微镜(SEM)和电子探针显微分析仪(EPMA)对不同基体的TiN、TiC薄膜的破裂形态进行了系统的研究,探讨了影响薄膜破裂形态的主要因素及薄膜破裂形态与正确判定临界载荷间的关系。
王家祥陈宝清郭可切黄燕清
关键词:附着性临界载荷扫描电子显微镜化学气相沉积磁控溅射电弧离子镀
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