肖兴成
- 作品数：20 被引量：145H指数：7
- 供职机构：中国科学院上海硅酸盐研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家攀登计划更多>>
- 相关领域：理学化学工程电子电信航空宇航科学技术更多>>
- 薄膜硬度的研究
- 肖兴成宋力昕
- 关键词：磨损电弧离子镀氮化锆薄膜
- 烧蚀材料的组成分析及其发射特性研究
- 材料是一种保证航天器正常飞行的重要热防护材料，烧蚀材料的发射率是航天器烧蚀防热设计的关键性能参数之一。为研究烧蚀材料的发射特性，该文先从分析烧蚀材料的组成入手，根据烧蚀材料的组成特点，通过建立数学模型由所测烧蚀材料的温光...
- 江伟辉肖兴成胡行方吴国度
- 关键词：烧蚀材料发射率
- 钛渣微晶玻璃的晶化行为及其对力学性能的影响
- 肖兴成丁培道
- 关键词：微晶玻璃晶化力学性能
- 工艺因素对钛渣微晶玻璃性能的影响
- 探讨了钛渣微晶玻璃熔制、晶化过程中主要工艺因素对性能的影响。研究结果表明，加入ＣａＦ〈，２〉能较好地抑制炉渣熔制过程中的溢出现象，Ｓｂ〈，２〉Ｏ〈，３〉能较好地解决残留气泡的问题。外加剂的加入导致晶型的改变，出现菊花状晶...
- 肖兴成丁培道
- 关键词：晶化行为综合性能
- 电磁场约束电感耦合等离子体增强气相沉积薄膜系统
- 范秋林曹韫真胡行方于云章俞之肖兴成宋力昕
- 本发明涉及电磁场约束射频电感耦合等离子体增强物理和化学气相沉积薄膜复合系统的设计、操作模式和应用场合，属于薄膜材料制备设备领域。通过溅射方式提供薄膜组成元素，避免CVD法中有时使用的挥发性气体和金属有机物，与传统CVD法...
- 关键词：
- 关键词：等离子体增强
- 纳米颗粒膜的界面结构及其控制
- 控溅射氧化镍、钽酸锂等电变色薄膜器件的基础材料研究中得到的一个最基本的认识：薄膜的纳米结构对薄膜的制备与性能的控制是至关重要的。对于具有优异离子注入特性和电变色性能的薄膜，其结构必须控制在纳米尺寸上，并应具有高的晶界体积...
- 胡行方肖兴成
- 关键词：纳米材料超细粉
- 工艺参数对a-CN_x膜沉积的影响被引量：3
- 2000年
- 研究了基本工艺参数对磁控溅射制备无定形氮化碳（ａ－ＣＮｘ）薄膜沉积的影响．实验结果表明：Ｎ２流量的增加提高了膜的沉积速率，同时提高了膜中氮含量．溅射功率的提高增加了沉积速率．偏压对硬质膜的制备是一关键的工艺参数，它不仅使薄膜致密、表面光滑，而且还可以提高膜中的Ｎ含量．
- 肖兴成江伟辉宋力昕田静芬胡行方
- 关键词：工艺参数磁控溅射氮化碳
- 氮化碳及其相关材料的研究
- C<,3>N<,4>晶体是理论预言的硬度比金刚石更高的材料,对其研究具有重要的理论意义和应用价值.该文针以目前C<,3>N<,4>研究过程中存在的主要问题,分别从应用和验证理论预言的角度出发,利用溅射方法制备出性能优良的...
- 肖兴成
- 关键词：热分析
- 文献传递
- 电磁场约束电感耦合等离子体增强气相沉积薄膜系统
- 本实用新型涉及一种电磁场约束电感耦合等离子体增强气相沉积薄膜系统，属于薄膜材料制备设备领域。该系统包括真空子系统(1)、溅射子系统(2)、气体混合及输入子系统(3)、等离子体辅助子系统(4)、电磁场约束子系统(5)、衬底...
- 范秋林曹韫真胡行方于云章俞之肖兴成宋力昕
- 文献传递
- CN_x薄膜热稳定性的TG-MS研究
- 2000年
- 首次在氩气气氛中对用磁控溅射法制备的 CNx 薄膜的热稳定性进行了 TG- MS研究。实验结果表明 ,CNx 薄膜在室温至 70 0°C左右约有 7%的失重。经 MS表征 ,在 1 80°C,3 90°C,540°C分别检测出 C+ (m/z=1 2 ) ,NO+ (m/z=3 0 ) ,O+2 (m/z=3 2 ) ,CO+2 (m/z=44) ,CN+ (m/z=2 6 ) ,C2 N+2(m/z=52 )和 NO+2 (m/z=46 )等正离子质谱峰。在 70 0～ 1 40 0°C温区内 ,出现了 42 .8%的失重 ,MS表征在 1 0 0 0°C左右有 C+ (m/z=1 2 ) ,O+2 (m/z=3 2 ) ,CO+2 (m/z=44) ,NO+2 (m/z=46 )正离子质谱峰 ,还对 CNx
- 陆昌伟肖兴成陈云仙奚同庚胡行方M.Schubnell陆立明
- 关键词：热稳定性TG-MS
