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程泽宇

作品数：2 被引量：5H指数：1
供职机构：南昌航空大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金：国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域：金属学及工艺航空宇航科学技术电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇电子电信
  • 1篇航空宇航科学...

主题

  • 2篇约束刻蚀剂层...
  • 2篇刻蚀
  • 1篇电化学
  • 1篇微加工
  • 1篇微加工技术
  • 1篇镁合金
  • 1篇镁合金表面
  • 1篇合金
  • 1篇合金表面
  • 1篇镁

机构

  • 2篇南昌航空大学
  • 1篇厦门大学

作者

  • 2篇程泽宇
  • 1篇蒋利民
  • 1篇杜楠
  • 1篇田昭武
  • 1篇李维
  • 1篇田中群

传媒

  • 1篇物理化学学报

年份

  • 1篇2008
  • 1篇2007
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
新型电化学微刻蚀技术及其机理的研究
微纳米科学技术作为二十一世纪的关键高新技术之一，将导致人类认识和改造世界能力的重大突破。而具有强烈交叉学科色彩的微系统（或微机电系统，MEMS）可能迅速崛起和蓬勃发展，成为微纳米科技中的核心之一。为了适应微系统技术的快速...
程泽宇
关键词：约束刻蚀剂层技术微加工技术
文献传递
镁合金表面微结构阵列的电化学微加工被引量：5
2008年
研究了镁合金的约束刻蚀微加工方法.通过对电解过程中电极表面氢离子浓度变化以及刻蚀体系对镁合金的腐蚀速率的测量与分析,对一些可能有刻蚀作用的刻蚀体系进行了研究.选用亚硝酸钠作为产生刻蚀剂(硝酸)的前驱体、氢氧化钠作为捕捉剂、少量硅酸钠作为缓蚀剂的约束刻蚀体系,使用具有规整三维微立方体点阵结构的模板,在金属镁表面加工出具有与模板互补特性的点阵微结构,复制加工的分辨率为亚微米级.并对刻蚀过程机理进行了探讨与分析.
蒋利民程泽宇杜楠李维田中群田昭武
关键词：约束刻蚀剂层技术镁电化学
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