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石玉龙

作品数：65 被引量：445H指数：11
供职机构：青岛科技大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金：山东省自然科学基金上海市教育委员会重点学科基金山东省教育厅科技计划更多>>
相关领域：金属学及工艺化学工程一般工业技术医药卫生更多>>

合作作者

文献类型

  • 55篇期刊文章
  • 6篇专利
  • 2篇会议论文
  • 2篇科技成果

领域

  • 25篇金属学及工艺
  • 13篇化学工程
  • 12篇一般工业技术
  • 8篇医药卫生
  • 7篇理学
  • 3篇电子电信
  • 1篇机械工程

主题

  • 17篇微弧氧化
  • 16篇化学气相
  • 15篇化学气相沉积
  • 11篇氧化膜
  • 11篇钛
  • 10篇氮化
  • 10篇氮化钛
  • 10篇气相沉积
  • 10篇合金
  • 9篇等离子体
  • 9篇涂层
  • 8篇钛表面
  • 8篇微弧氧化膜
  • 8篇金属
  • 8篇PCVD
  • 7篇热丝
  • 6篇热丝化学气相...
  • 6篇铝合金
  • 6篇金刚石膜
  • 6篇纯钛

机构

  • 34篇青岛科技大学
  • 31篇青岛化工学院
  • 5篇青岛大学医学...
  • 4篇青岛大学
  • 4篇上海交通大学...
  • 3篇浙江中医药大...
  • 2篇洛阳轴承研究...
  • 2篇浙江中医药大...
  • 1篇孤岛采油厂

作者

  • 65篇石玉龙
  • 21篇彭红瑞
  • 20篇谢广文
  • 16篇李世直
  • 15篇闫凤英
  • 14篇赵程
  • 8篇陈建治
  • 5篇张欣宇
  • 5篇倪嘉桦
  • 4篇毕京锋
  • 4篇谢雁
  • 4篇王磊
  • 4篇王磊
  • 3篇丁发柱
  • 3篇付强
  • 2篇孙桂兰
  • 2篇李建华
  • 2篇莫伟言
  • 2篇谢雁
  • 2篇张富强

传媒

  • 10篇青岛科技大学...
  • 6篇电镀与涂饰
  • 6篇青岛化工学院...
  • 4篇表面技术
  • 2篇新技术新工艺
  • 2篇金属热处理
  • 2篇材料保护
  • 2篇实用口腔医学...
  • 2篇功能材料
  • 2篇真空科学与技...
  • 2篇微细加工技术
  • 2篇口腔颌面修复...
  • 2篇中国材料科技...
  • 1篇中华口腔医学...
  • 1篇金刚石与磨料...
  • 1篇无机材料学报
  • 1篇生物医学工程...
  • 1篇真空
  • 1篇中国口腔种植...
  • 1篇电机电器技术

年份

  • 1篇2012
  • 2篇2011
  • 3篇2010
  • 3篇2009
  • 3篇2008
  • 5篇2007
  • 5篇2006
  • 4篇2005
  • 4篇2004
  • 2篇2003
  • 6篇2002
  • 3篇2001
  • 5篇2000
  • 4篇1999
  • 8篇1998
  • 3篇1997
  • 1篇1995
  • 1篇1993
  • 2篇1989
共 65 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
钛合金表面微弧氧化制备羟基磷灰石相陶瓷层被引量：1
2006年
本论文应用微弧氧化技术，在钛合金表面生成了含有羟基磷灰石的TiO2陶瓷膜层。所用微弧氧化电解液主要由乙酸钙（（CH3COO）2Ca·H2O）和磷酸二氢钠（NaH2PO4·2H2O）配置而成，电源为双脉冲电源。能谱（EDX）分析表明，所得微弧氧化膜层主要含有Ti、O、Ca、P四种元素，其Ca／P原子比随电解液中提供钙、磷元素的乙酸钙和磷酸二氢钠的摩尔比而变，当电解液中乙酸钙和磷酸二氢钠的摩尔比由1增加到2时，膜层中Ca／P原子则由1．02增至2．08。通过X-射线衍射（XRD）分析，结果显示该氧化膜主要由金红石、锐钛矿及羟基磷灰石组成，为一种生物陶瓷。利用扫描电镜（SEM）对所得膜层的表面和断面形貌进行了分析，发现膜层表面分布有许多小孔。膜层与基体结合良好。
闫凤英石玉龙
关键词：微弧氧化羟基磷灰石
划痕试验法测定TiN薄膜的粘着力
1989年
本文用划痕试验法研究了直流等离子体化学气相沉积(PCVD)镀膜工艺在高速钢、碳钢上沉积的 TiN 膜的剥落方式,测量了膜层被划干净时的临界载荷,并和 PVD、CVD 工艺在高速钢、硬质合金钢上镀的 TiN 膜作了比较,结果表明:PCVD 法较 PVD 法镀的 TiN 膜的粘着力强,达到了 CVD 法镀的 TiN膜的粘着力。
郭祥才姜乐周袁有臣赵程石玉龙李世直
关键词：临界载荷粘着力
MOPCVD制备Ti(CN)硬膜研究被引量：11
2000年
采用金属有机物四异丙基钛 (Ti[OC3 H7]4 )为钛源 ,在辅助加热PCVD设备上进行沉积Ti(CN)涂层研究。并对涂层进行了显微硬度测量、扫描电镜观察和X射线衍射分析。结果表明 ,此法制备的Ti(CN)涂层其显微硬度可达 15 6 80N/mm2 。Ti(CN)涂层仍为柱状晶结构 ,Ti(CN)晶体的d(2 0 0 )值随着炉温和氢、氮比的变化而变化。切削实验证明 ,6mm高速钢钻头经MOPCVD Ti(CN)涂镀后提高使用寿命 7 3倍 ;经MOPCVD Ti(CN)涂镀的6 5mm×2 2mm× 5mm直齿三面刃铣刀使用寿命是非涂镀的 8倍。
石玉龙彭红瑞李世直
关键词：碳氮化钛
化学镀镍磷合金镀液中杂质颗粒度对镀层耐蚀性的影响被引量：6
2000年
化学镀镍磷合金具有很多独特的理化性能 ,然而由于成本较高限制了其应用。为降低化学镀镍的成本 ,采用工业级药品配制镀液。研究了镀液中杂质颗粒度对镀层耐蚀性的影响。随着镀液中颗粒度的降低 ,镀层耐蚀性明显提高 ,说明化学镀对镀液中的杂质有较高的复合率 ,因此必须严格控制镀液中的杂质颗粒度。
谢广文石玉龙彭红瑞赵程
关键词：化学镀镍磷合金耐蚀性镀层镀液
纯钛表面微弧氧化膜的粗糙度与接触角被引量：5
2009年
目的:分析纯钛表面微弧氧化改性对表面氧化膜特性的影响。方法:通过微弧氧化技术在含一定钙磷比例的电解液中制备纯钛表面氧化膜层,进而检测纯钛表面微弧氧化膜的粗糙度和接触角。结果:微弧氧化处理后,纯钛表面生成微孔结构的氧化膜,直径1～5μm。氧化膜层中含Ti、O、Ca、P4种元素,由锐钛矿型、金红石型二氧化钛,结晶相羟基磷灰石组成;微弧氧化试样的表面粗糙度明显高于未处理纯钛试样(P<0.05),表面接触角小于未处理纯钛试样(P<0.05)。结论:经微弧氧化技术处理后,纯钛表面生成了多孔的二氧化钛膜,含羟基磷灰石。膜层表面粗糙度增大,接触角减小,有利于细胞的附着和骨组织的整合。
王磊陈建治唐建国贾暮云石玉龙闫凤英
关键词：钛微弧氧化粗糙度接触角
气相沉积中电阻真空计的使用问题
1998年
本文叙述了气相沉积中使用电阻真空计遇到的一些问题及解决的方法。
石玉龙彭红瑞李世直
关键词：气相沉积真空计电阻真空计PVD真空镀膜
纳米喷洒预处理在MWCVD金刚石膜中的应用被引量：1
2003年
叙述了应用于微波等离子体化学气相沉积金刚石薄膜工艺中一种新的基体预处理方法 ,即对 Si(1 0 0 )基体采用纳米金刚石直接喷洒处理方法。与此同时还采用了其他方法 ,如超声波法处理、研磨法处理和基体不处理。通过 SEM观察分析了各种处理方法对金刚石成膜的影响。由实验可知 ,纳米金刚石直接喷洒是一种较好的基体预处理方法 ,在此方法处理的基体上可以生长出金刚石
石玉龙
关键词：金刚石膜
气相中晶体生长与外延的方法被引量：1
1993年
介绍了气相中晶体生长的方法,如辉光放电溅射法和离子束溅射沉积法以及晶体外延生长的方法。
石玉龙
关键词：分子束外延化学气相沉积晶体生长
PAHFCVD金刚石膜表面形貌的研究
2005年
采用等离子辅助热丝化学气相沉积(PAHFCVD)装置进行了金刚石薄膜、碳化钛/金刚石复合膜、掺硼金刚石薄膜的制备.制备条件分别为:V(CH)4:V(H2)=3:100,载气流量5～50 cm3·s-1,钛源钛酸异丙酯(Ti[OC3H 7]4),硼源硼酸三甲酯(BC3O4H9),基体温度820～860℃,基体偏压300V,沉积气压4 kPa.运用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和能量扩散电子谱(EDX)等分析手段对PAHFCVD金刚石膜、金刚石复合膜和掺硼金刚石膜进行了表征.结果发现,金刚石/碳化钛膜和掺硼金刚石膜主要晶面为(111)面.
付强石玉龙丁发柱
关键词：金刚石复合膜
电解液Ca、P浓度对纯钛表面微弧氧化膜结构和特性的影响被引量：5
2011年
目的:研究电解液不同Ca、P浓度对纯钛表面微弧氧化膜结构和特性的影响。方法:根据电解液中Ca、P浓度的不同,将纯钛试件分成A、B和C共3组,通过微弧氧化技术制备纯钛表面氧化膜,D组作对照组。使用扫描电镜(SEM)检测氧化膜的表面及横断面形貌,用X射线能谱仪(EDS)检测氧化膜的元素成分,用X射线衍射仪(XRD)检测氧化膜的晶相结构。结果:微弧氧化处理后,钛表面形成微孔结构的氧化膜。A组膜层厚度为5μm,B和C组膜层厚度为10μm。高Ca、P浓度组微弧氧化膜的Ca、P含量高于低Ca、P浓度组(P<0.05、P<0.01)。微弧氧化膜的主要成分是金红石、锐钛矿和羟基磷灰石。结论:利用微弧氧化技术在纯钛表面形成含羟基磷灰石的多孔氧化膜,氧化膜的Ca、P含量与电解液的Ca、P含量有关。
陈建治黄海蓉王磊石玉龙
关键词：微弧氧化表面处理钙
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