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武玫
作品数:
73
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供职机构:
西安电子科技大学
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相关领域:
电子电信
化学工程
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合作作者
马晓华
西安电子科技大学
杨凌
西安电子科技大学
郝跃
西安电子科技大学
张濛
西安电子科技大学
侯斌
西安电子科技大学
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西安电子科技...
作者
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武玫
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马晓华
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杨凌
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郝跃
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张濛
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侯斌
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2011
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一种GaN HEMT器件与p型金刚石MOSFET的集成器件及其制备方法
本发明公开了一种GaN HEMT器件与p型金刚石MOSFET的集成器件及其制备方法,包括:金刚石衬底层、GaN缓冲层、AlGaN势垒层、介质层、p型金刚石层和栅介质层;AlGaN势垒层上设置有第一源电极和第一漏电极以及第...
马晓华
武玫
李仕明
杨凌
张濛
侯斌
郝跃
文献传递
基于n型氧化镓和p型金刚石的垂直功率MOSFET及其制备方法
本发明公开了一种基于n型氧化镓和p型金刚石的垂直功率MOSFET,包括n<Sup>+</Sup>‑Ga<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>衬底层、n<Sup>‑</Sup>‑Ga<Sub>2</Sub>O<...
侯斌
马晓华
贾富春
陈孝升
杨凌
张濛
武玫
郝跃
一种GaN低寄生钝化器件及其制备方法
本发明公开了一种GaN低寄生钝化器件及其制备方法,该器件包括:衬底层;GaN外延层,形成于衬底层上;源电极,形成于GaN外延层上;漏电极,形成于GaN外延层上;第一钝化层,形成于GaN外延层上;第二钝化层,形成于第一钝化...
马晓华
芦浩
杨凌
侯斌
邓龙格
陈炽
武玫
张濛
郝跃
文献传递
AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管的结温测试方法
本发明公开了一种AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管的结温测试方法,主要解决现有方法测量结温偏低的问题,其实现方案是:采用脉冲测试方法对器件的肖特基正向特性进行测试,提取栅源电阻R<Sub>S0</Sub>与肖特基串联电...
马晓华
武玫
闵丹
杨凌
郝跃
文献传递
一种具有高散热结构的N面GaN HEMT器件及制作方法
本发明涉及一种具有高散热结构的N面GaN HEMT器件及制作方法,包括步骤:选取衬底;在衬底上依次生长AlN成核层、GaN缓冲层,AlN插入层以及AlGaN势垒层;在所述AlGaN势垒层上生长金刚石层;依次去除所述衬底、...
马晓华
王瑜
郝跃
武玫
马佩军
文献传递
一种N面GaN基CMOS器件及其制备方法
本发明提供的一种N面GaN基CMOS器件及其制备方法,通过在Si衬底上外延生长GaN缓冲层以及p‑GaN/AlGaN/GaN异质结,通过光刻选区刻蚀固定区域的p‑GaN层,随即将p‑GaN刻蚀凹槽区用绝缘介质填充。完成上...
武玫
牛雪锐
侯斌
杨凌
张濛
朱青
王冲
马晓华
郝跃
一种n型氧化镓p型金刚石的MPS二极管及其制备方法
本发明提供的一种n型氧化镓‑p型金刚石的MPS二极管及其制备方法,采用更容易制备的p型金刚石代替难以实现的p型氧化镓形成异质PN结,阳极与外延层材料接触位置采用阵列式二阶倾斜凹槽结构,相比于常规的凹槽结构减小了材料接触处...
武玫
杨凌
贾富春
王雨晨
侯斌
张濛
朱青
马晓华
郝跃
基于栅源漏一体化沉积的氮化镓器件及其制作方法
本发明公开了一种基于栅源漏一体化沉积的氮化镓器件,氮化镓器件包括:衬底、AlN成核层、GaN缓冲层、AlGaN势垒层、以及位于AlGaN势垒层远离衬底一侧的SiN钝化层、源电极、漏电极和栅电极;AlGaN势垒层的第一表面...
马晓华
司泽艳
芦浩
侯斌
杨凌
鲁微
武玫
郝跃
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基于p型掺杂金刚石散热层的GaN HEMT及制备方法
本发明公开了一种基于p型掺杂金刚石散热层的GaN HEMT及制备方法;该GaN HEMT包括自下而上设置的衬底、GaN材质的缓冲层、势垒层、介质层以及顶部散热层,还包括:源电极、漏电极以及栅电极;其中,在水平方向上,所述...
马晓华
程可
武玫
朱青
张濛
侯斌
杨凌
郝跃
文献传递
高电子迁移率晶体管的热可靠性评估方法
本发明公开了一种高电子迁移率晶体管热可靠性的评估方法,主要解决现有方法对器件热可靠性评估不准确的问题,其实现方案是:1)采用脉冲法测量不同温度下器件的输出特性,提取饱和漏电流随温度的变化关系作为校准曲线;2)采用直流法测...
马晓华
武玫
郝跃
闵丹
王瑜
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