李成明
- 作品数：331 被引量：435H指数：11
- 供职机构：北京科技大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划国家教育部博士点基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺化学工程一般工业技术理学更多>>
- 一种金刚石膜研磨工装及其研磨方法
- 本发明属于金刚石膜加工技术领域，具体涉及一种在金刚石膜研磨过程中，能够保障金刚石膜高平整度，且能实现方便快捷测量金刚石膜去除量的金刚石膜研磨工装及其研磨方法；所述工装包括：垂直定位轴，用于矫正所述金刚石膜膜厚均匀性；下托...
- 魏俊俊贾鑫张建军刘金龙陈良贤李成明高旭辉
- 文献传递
- 静电辅助的气溶胶化学气相沉积法制备Y_2O_3薄膜被引量：2
- 2009年
- 采用静电辅助的气溶胶化学气相沉积的方法成功地在Si(100)衬底上制备了Y2O3薄膜,利用X射线衍射(XRD)、场发射扫描电镜(FE-SEM)、原子力显微镜(AFM)和X射线光电子能谱(XRP)对薄膜进行了表征.SEM分析结果显示,薄膜的颗粒为纳米级的,并且薄膜致密、平整.AFM分析结果表明,薄膜的粗糙度为11nm.由XPS分析可知,薄膜为基本上符合化学计量比的氧化物.附着力测试表明,Y2O3薄膜与Si衬底的附着力为4.2N.X射线衍射分析结果表明,沉积得到的Y2O3薄膜在热处理前为非晶结构,热处理之后薄膜具有立方晶体结构,并且沿(111)面择优生长.
- 王耀华吕反修贺琦李成明唐伟忠
- 关键词：氧化钇粗糙度
- 金刚石薄膜断裂强度及形貌分析被引量：3
- 2010年
- 金刚石薄膜以其优异的性能成为许多行业不可或缺的功能材料,但因金刚石薄膜制备质量差、不稳定,导致金刚石薄膜力学性能的研究一直处于探索阶段,没有得出系统全面的结论。本文利用金刚石力学试验机对自支撑金刚石薄膜断裂强度与薄膜沉积厚度、抛光与否之间的关系进行了研究,利用扫描电子显微镜SEM对金刚石薄膜的表面和断口形貌进行了分析。研究表明,自支撑金刚石薄膜断裂主要是解离断裂,且其断裂强度随着沉积厚度的增加而减低,自支撑金刚石薄膜是否经过抛光对其断裂强度的大小有显著影响。
- 陈飞陈良贤郭世斌李成明吕反修
- 关键词：形貌分析
- 离子渗金属中沉积层对渗层性质影响的研究
- 了双层辉光离子钨钼共渗过程中出现沉积层时时渗入过程及渗层性质的影响。结果表明，沉积层的存在使离子轰击增强扩散作用消失，使渗层厚度减少25℅，并使表面合金元素的含量减少，尤其对钼的含量减少近50℅，通过减少源极的供给量，增...
- 李成明赵晋香徐重
- 关键词：双层辉光离子渗层沉积层
- 离子源预处理工艺对WC基底表面及Ta缓冲涂层的影响被引量：1
- 2015年
- 研究了阳极层离子源预处理工艺对WC硬质合金基底表面粗糙度Ra和表面最大峰谷值Pv的影响,以及对后续镀制Ta缓冲涂层表面特征及膜基附着力的影响。结果表明,硬质合金基片表面粗糙度和表面最大峰谷值的增加量随基片偏压升高呈指数增加;而离子源电压对基片表面粗糙度和表面最大峰谷值影响较弱;采用离子源电压1350 V,基片偏压200 V轰击硬质合金基片15 min后镀制Ta膜,膜层表面晶粒细小均匀,表面致密性显著增加;此外,基片表面经离子源处理后,镀制的Ta缓冲层与基底的膜基结合力有较大改善,这将有利于提高后续贵金属保护涂层的附着力及抗元素扩散能力。
- 魏俊俊朱小研陈良贤刘金龙黑立富李成明张勇
- 关键词：结合力表面粗糙度
- 直流电弧等离子体喷射法生长大尺寸金刚石单晶被引量：4
- 2018年
- 化学气相沉积(CVD)大尺寸高质量金刚石单晶是近年来在CVD金刚石膜研究领域所取得的重大研究进展之一。迄今为止的研究,绝大多数都是采用微波等离子体CVD,在高腔压下(10~30kPa)进行的。这是因为,在高腔压下,微波等离子体球急剧收缩,从而能够提供高质量金刚石外延生长所需要的高原子氢浓度。借助电弧放电的极高温和旋转电弧设计,直流电弧等离子体喷射(DC Arc Plasma Jet)能够在更大衬底面积范围提供可与之相比拟的原子氢浓度,因此有可能成为一种低成本的CVD金刚石外延生长方法。文章介绍了近年来采用高功率直流电弧等离子体喷射(DC Arc Plasma Jet)生长大尺寸、高质量金刚石单晶的初步研究结果,并介绍了已经取得的进展和存在的问题,以及对未来的展望。
- 吕反修黑立富李成明唐伟忠李国华郭辉孙振路
- 关键词：金刚石单晶CVDDCARCPLASMAJET
- 一种提高自支撑金刚石膜强度的方法
- 本发明属于大面积高质量金刚石膜制备技术领域，特别是提供了一种提高自支撑金刚石膜强度的方法，以应用于自支撑金刚石膜的后处理。本发明方法是用真空电弧等离子体对金刚石自支撑膜进行处理，包括如下步骤：(1)利用真空电弧等离子体使...
- 李成明陈良贤刘政黑立富吕反修
- 生物应用的羟基终端纳米金刚石的高效终端化制备方法
- 生物应用的羟基终端纳米金刚石的高效终端化制备方法，属于生物及医药用功能化基本材料制备领域。工艺步骤为：a.采用混合酸酸洗并用去离子水清洗纳米金刚石粉悬浊液至中性；b.将纳米金刚石粉与四氢铝锂溶于四氢呋喃的溶液加入高温反应...
- 李成明郑宇亭刘金龙魏俊俊黑立富陈良贤
- 文献传递
- 非对称双极脉冲反应磁控溅射制备TiN/NbN多层膜被引量：4
- 2012年
- 采用非对称双极脉冲磁控溅射制备了一系列不同调制周期的TiN/NbN纳米多层膜,利用X射线衍射分析(XRD)、纳米压痕仪、扫描电子显微镜(SEM)表征了薄膜的微观结构、力学性能和断口形貌。结果表明,在调制周期为19.86nm时,纳米压痕硬度达到43GPa。利用三点弯曲法形成裂纹的扩展,并观察到了裂纹的偏转特征。
- 黑立富徐俊波陈良贤李成明吕反修
- 关键词：纳米多层膜调制周期
- 一种表面P型导电金刚石热沉材料的制备方法
- 一种表面P型导电金刚石热沉材料的制备方法，属于金刚石自支撑膜应用技术领域。本发明以抛光的自支撑金刚石厚膜为基底，经微波氢等离子体表面处理后再沉积一层薄的具有P型导电能力的掺硼金刚石薄膜。由于属于同质外延生长，因此外延的导...
- 魏俊俊李成明刘金龙陈良贤黑立富高旭辉
