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姜丽莉

作品数:5 被引量:17H指数:3
供职机构:山东大学空间科学与物理学院更多>>
发文基金:山东省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信动力工程及工程热物理一般工业技术更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 3篇电子电信
  • 1篇动力工程及工...
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 4篇溅射
  • 4篇磁控
  • 4篇磁控溅射
  • 3篇透明导电
  • 3篇退火
  • 3篇光电
  • 2篇电特性
  • 2篇直流磁控
  • 2篇直流磁控溅射
  • 2篇射频磁控
  • 2篇射频磁控溅射
  • 2篇透明导电膜
  • 2篇快速退火
  • 2篇光电特性
  • 2篇AZO薄膜
  • 1篇导电薄膜
  • 1篇电阻率
  • 1篇多层膜
  • 1篇真空
  • 1篇真空退火

机构

  • 5篇山东大学
  • 1篇天津大学

作者

  • 5篇姜丽莉
  • 4篇宋淑梅
  • 4篇杨田林
  • 4篇辛艳青
  • 4篇李延辉
  • 3篇韩圣浩
  • 1篇张之圣
  • 1篇林亮
  • 1篇庞志勇

传媒

  • 2篇功能材料
  • 1篇电子元件与材...
  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 3篇2010
  • 2篇2009
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
快速退火对AZO透明导电薄膜特性的影响
透明导电氧化物/(TCO/)薄膜因具有优良的光电性能而备受关注。目前,应用较为广泛的是铟锡氧化物/(ITO/)薄膜,但由于铟为稀有元素,在自然界的贮存少,价格高且有毒;这些使得ITO薄膜的应用受到了限制。而氧化锌/(Zn...
姜丽莉
关键词:快速退火直流磁控溅射AZO薄膜光电特性禁带宽度
文献传递
真空退火温度对GZO/Ag/GZO三层膜性能的影响被引量:2
2009年
室温下在玻璃衬底上,采用射频磁控溅射GZO(Ga掺杂ZnO)膜和离子束溅射Ag膜的方法,制备了GZO/Ag/GZO三层膜,分析了真空退火温度对样品结构、光学、电学性能的影响。结果显示:随着退火温度的升高,Ag层的结构得到明显改善,但GZO层结晶度受到了Ag扩散的影响。经过350℃退火后,样品在可见光区平均透射率达92.63%,电阻率由8.0×10–5Ω·cm降至4.0×10–5Ω·cm。
辛艳青姜丽莉宋淑梅杨田林李延辉
关键词:透明导电膜射频磁控溅射真空退火
GZO/Ag/GZO多层薄膜制备、结构与光电特性的研究被引量:4
2009年
采用射频磁控溅射和离子束溅射联合设备在玻璃衬底上制备出了具有良好附着性、低电阻率和高透过率的GZO/Ag/GZO(ZnO掺杂Ga2O3简称GZO)多层薄膜。X射线衍射谱表明GZO/Ag/GZO多层薄膜是多晶膜,GZO层具有ZnO的六角纤锌矿结构,最佳取向为(002)方向;Ag层是立方结构,具有(111)取向。在GZO层厚度一定的情况下,研究了Ag层厚度的变化对多层膜结构以及光电特性的影响。研究发现,当Ag层厚度为10nm时,3层膜的电阻率为9×10-5Ω.cm,在可见光范围内平均透过率达到89.7%,薄膜对应的品质因子数值为3.4×10-2Ω-1。
杨田林张之圣宋淑梅辛艳青姜丽莉李延辉韩圣浩
关键词:多层膜透明导电膜
氧化锌掺钇透明导电薄膜的制备及光电特性研究被引量:5
2010年
采用射频磁控溅射法,室温下在玻璃衬底上制备出了具有良好附着性、低电阻率和高透过率的新型透明导电薄膜YZO(ZnO掺杂Y2O3简称YZO)。在薄膜厚度为600nm的情况下,研究了薄膜电学特性随溅射功率和溅射气压的变化情况。X射线衍射谱表明YZO薄膜是多晶膜,具有ZnO的六角纤锌矿结构,最佳取向为(002)方向。最佳溅射条件下制备的薄膜电阻率为8.71×10-4Ω.cm,在可见光范围内平均透过率达到92.3%,禁带宽度为3.57eV。
宋淑梅杨田林辛艳青姜丽莉李延辉庞志勇林亮韩圣浩
关键词:透明导电薄膜射频磁控溅射电阻率透过率
快速退火对直流磁控溅射法制备的AZO薄膜性能的影响被引量:7
2010年
在室温下,采用直流磁控溅射方法制备了不同厚度的氧化锌掺铝薄膜,并对样品进行了快速退火处理,退火温度为600℃,时间为60 s。研究了退火前后薄膜的结构、光电特性的变化情况。退火后,薄膜的最小电阻率为4.2×10-4Ω.cm,其透过率为90.1%。禁带宽度由退火前的3.68 eV变为3.75 eV。
姜丽莉辛艳青宋淑梅杨田林李延辉韩圣浩
关键词:快速退火直流磁控溅射AZO薄膜
共1页<1>
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