米高园
- 作品数：38 被引量：33H指数：4
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- 一种大口径超径厚比异形平面光学零件柔性抛光盘
- 本发明公开了一种大口径超径厚比异形平面光学零件柔性抛光盘，包括配形抛光盘和异形零件加工抛光盘，异形零件加工抛光盘嵌入配形抛光盘内，异形零件加工时，柔性抛光盘放置在抛光模上，待抛光面与抛光模表面之间磨削抛光；配形抛光盘包括...
- 冯耕李明伟昌明杨崇民张建付王松林吴斌马方斌张岩刘青龙米高园
- 中波红外3μm～5μm宽带通滤光片的研制被引量：7
- 2013年
- 中波红外宽带通滤光膜通常膜系层数多,膜层总厚度非常大(厚度达到10μm左右),膜层的镀制工艺难度较大。通过分析红外带通滤光片几种设计方法的特点,并结合实际镀制工艺技术,采用了长波通与短波通及非规整薄膜设计技术相结合的方法,设计了以锗材料为基底的中波3μm～5μm宽带通滤光膜。该设计大幅度降低了膜层的总厚度(约为8.65μm),缩短了膜层的镀制周期,提高了膜层的牢固度;在膜层的镀制工艺过程中,通过改变薄膜材料的蒸发速率、修正蒸发硫化锌材料时电子枪的扫描方式、调整蒸发材料在坩埚中的装载方法,使膜层获得了优异的光谱性能,其通带平均透过率大于96%,截止区域的平均透过率小于1%。
- 张建付杨崇民刘青龙王养云谢辉黎明刘永强杨华梅米高园李明伟
- 一种基于金属光栅的可调谐双通道窄带偏振滤光器及调谐方法
- 本发明提出一种基于金属光栅的可调谐双通道窄带偏振滤光器及调谐方法，滤光器依次由基底、HL交替组成的多层反射膜系、下层金属光栅层、可调谐间隔层、上层金属光栅层、HL交替组成的多层反射膜系组成；可调谐间隔层材料为随外加电场材...
- 金柯刘永强王颖辉韩俊杨崇民杨海成王慧娜刘青龙张建付李明伟赵兴梅米高园王松林董莹黎明杨建军
- 一种ZnS基底反0.5～0.8μm可见光及1.064μm激光并透3.7～4.8μm中波红外分色膜的膜系结构
- 本发明提出一种ZnS基底反0.5～0.8μm可见光及1.064μm激光并透3.7～4.8μm中波红外分色膜的膜系结构，包括ZnS基片和分色膜膜系；分色膜膜系由三种薄膜材料制成；膜层层数共计51层，其中第1层和第51层为氧...
- 张建付杨崇民米高园刘永强刘青龙王松林刘方杨华梅李明伟王颖辉孙婷黎明韩俊
- 文献传递
- 双离子束溅射ITO薄膜在电磁屏蔽窗口中的应用被引量：1
- 2022年
- 为了研究ITO薄膜在宽角度电磁屏蔽激光窗口中的应用效果,采用双离子束溅射镀膜技术在不同工艺条件下制备了ITO薄膜,根据薄膜的光电性能测试结果,分析了氧气流量、辅助离子源、基片烘烤温度等工艺条件对ITO薄膜透光性和导电性的影响。用Ti_(2)O_(3)和SiO_(2)作为高、低折射率材料,ITO薄膜作为电磁屏蔽膜层,在K9玻璃基片上设计了对2~18GHz电磁波高效屏蔽的0°~45°宽角度入射的1064nm激光窗口膜层,并利用双离子束溅射技术在合适的工艺条件下完成了薄膜的制备。测试结果显示,制备的薄膜透光性和电磁屏蔽性能良好,具有一定的耐酸性,适合作为高效电磁屏蔽、0°~45°宽角度入射的1064nm激光窗口膜层。
- 王松林杨崇民张建付李明伟米高园赵红军贾雪涛
- 关键词：ITO薄膜电磁屏蔽激光窗口
- 基底温度对电子束蒸发制备氧化铝薄膜的影响被引量：6
- 2013年
- 为了考察基底温度对氧化铝薄膜折射率以及沉积厚度的影响情况,在不同基底温度环境下,通过离子辅助电子束蒸发方式,在玻璃基底上制备了同一Tooling因子条件下所监测到相同厚度的Al2O3薄膜,利用分光光度计测量光谱透过率,依据光学薄膜相关理论,计算了基底温度在25℃~300℃范围内获得的膜层实际物理厚度为275.611nm^348.447nm,以及膜层折射率的变化。通过对实验结果的数值计算和曲线模拟,给出了基底温度对于薄膜的折射率和实际厚度的影响情况。
- 王松林杨崇民张建付刘青龙黎明米高园王慧娜
- 关键词：薄膜光学常数基底温度氧化铝薄膜
- 一种紫外滤光器件
- 本实用新型属于光电信息领域，公开了一种紫外滤光器件。所述紫外滤光器件是由透紫外的棱镜及其4个表面上的薄膜组成。垂直入射到棱镜A面的光进入棱镜内部，后经过B面高反射膜，被反射至C面，经过C面的负滤光膜之后，日盲紫外波段(2...
- 王松林张建付米高园杨崇民王海波朱筱群李明伟刘方金柯贾雪涛赵兴梅王慧娜王颖辉
- 一种实现均匀加热除冰除霜的圆形光学窗口镀膜方法
- 本发明属于光学薄膜领域，具体涉及一种实现均匀加热除冰除霜的圆形光学窗口镀膜方法。所述方法通过对圆形光学窗口表面镀制的可加热薄膜厚度分布进行设计，并制作相应的薄膜厚度调控挡板来调控制备的导电加热薄膜厚度，以改善圆形光学窗口...
- 王松林杨崇民张建付刘青龙米高园陶忠朱筱群李明伟
- 文献传递
- 一种内嵌式电磁屏蔽金属网栅制作方法
- 本发明公开了一种内嵌式电磁屏蔽金属网栅制作方法，包括如下步骤：在光学基底上制作反向掩膜；等离子束刻蚀金属网栅沟槽；金属薄膜镀制；底层薄膜镀制；去胶及清洁；耐环境侵蚀性能的光学增透膜镀制。本发明通过在光学基底表面采用掩膜制...
- 王松林张建付李明伟杨崇民米高园阴万宏陶忠王颖辉赵红军
- ITO薄膜的电阻并联效应研究被引量：1
- 2020年
- 采用电子束蒸发镀膜方法在K9玻璃基底上分别镀制了ITO/SiO2/ITO,ITO/Ti2O3/ITO和ITO/MgF2/ITO结构的多层薄膜,用四探针方块电阻仪测量薄膜表面的方块电阻,用原子力显微镜观测样品的表面微观形貌。结果显示,当ITO薄膜的粗糙度较大且介质薄膜的物理厚度小于100nm时,各层ITO薄膜之间通过山峰状的凸起结构相连通,导致样片表面的方块电阻测量值与各层ITO薄膜电阻的并联值相当。这表明,当ITO薄膜的粗糙度较大且介质薄膜厚度较小时,各层ITO薄膜表现出电阻并联效应。利用多层ITO薄膜的电阻并联效应设计并制备了450~1 200nm超宽光谱透明导电薄膜,用四探针方块电阻仪测量了试验样片的表面方块电阻,用紫外-可见-近红外分光光度计测试了样片的光谱透射率。结果显示,在相同表面方块电阻条件下,相比于单层ITO薄膜,利用ITO薄膜电阻并联效应所制备的多层透明导电薄膜具有更高的光谱透射率。
- 王松林杨崇民张建付李缘米高园刘青龙
- 关键词：电子束蒸发ITO薄膜方块电阻
