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程欣

作品数：6 被引量：0H指数：0
供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
相关领域：理学机械工程文化科学一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 4篇专利
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇机械工程
  • 2篇理学
  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇文化科学

主题

  • 4篇光源
  • 4篇光源系统
  • 4篇EUV
  • 3篇激光
  • 3篇LP
  • 2篇溶胶
  • 2篇射流
  • 2篇光刻
  • 1篇等离子体
  • 1篇等离子体约束
  • 1篇散射
  • 1篇投影物镜
  • 1篇偏振
  • 1篇偏振特性
  • 1篇球面镜
  • 1篇紫外光刻
  • 1篇物镜
  • 1篇脉冲
  • 1篇介质
  • 1篇均匀磁场

机构

  • 6篇中国科学院上...

作者

  • 6篇程欣
  • 4篇张宗昕
  • 4篇王成
  • 4篇冷雨欣
  • 4篇王关德
  • 2篇赵全忠
  • 2篇孙海轶
  • 2篇李儒新
  • 1篇王向朝
  • 1篇唐锋
  • 1篇张国先
  • 1篇徐世福
  • 1篇郭福东
  • 1篇冯鹏

年份

  • 2篇2020
  • 1篇2017
  • 1篇2015
  • 1篇2014
  • 1篇2009
共 6 条 记 录，以下是 1-6
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排序方式：
基于等离子体约束的LPP-EUV光源系统
一种基于等离子体约束的LPP‑EUV光源系统，包括泵浦激光脉冲源、带有光学窗片的真空室、凸透镜、靶材、磁镜装置和椭球面镜。由泵浦激光脉冲源产生泵浦激光脉冲，泵浦激光脉冲通过光学窗片进入真空室，再经凸透镜聚焦而作用于靶材。...
张宗昕冷雨欣王成程欣王关德孙海轶彭宇杰王雪培
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混浊介质偏振光传输特性的研究
光学理论及其应用的发展贯穿着一个基本问题，即光的产生、传输以及接收和应用都涉及光与介质的相互作用和相互影响，也就是光在介质中的传输问题。混浊介质中偏振光传输的研究是光传输领域一个新的研究热点，相关研究在空间光通信、大气遥...
程欣
关键词：混浊介质光传输光散射偏振特性
基于溶胶射流靶的LPP-EUV光源系统
一种基于溶胶射流靶的LPP-EUV光源系统，由溶胶发生装置、溶胶喷射-循环装置、LPP-EUV发生装置和泵浦激光源所构成。首先由溶胶发生装置产生溶胶，再经溶胶喷射-循环装置而在LPP-EUV发生装置内形成溶胶射流靶。由泵...
张宗昕冷雨欣王成赵全忠王关德程欣李儒新
基于椭球面镜-球面镜组合光收集的LPP-EUV光源系统
一种基于椭球面镜‑球面镜组合光收集的LPP‑EUV光源系统，包括泵浦激光脉冲源、带有光学窗片的真空室、凸透镜、靶材、椭球面镜和球面镜。由泵浦激光脉冲源产生泵浦激光脉冲，泵浦激光脉冲通过光学窗片进入真空室，再经凸透镜聚焦而...
张宗昕冷雨欣王成程欣王关德孙海轶彭宇杰王雪培
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基于溶胶射流靶的LPP‑EUV光源系统
一种基于溶胶射流靶的LPP‑EUV光源系统，由溶胶发生装置、溶胶喷射‑循环装置、LPP‑EUV发生装置和泵浦激光源所构成。首先由溶胶发生装置产生溶胶，再经溶胶喷射‑循环装置而在LPP‑EUV发生装置内形成溶胶射流靶。由泵...
张宗昕冷雨欣王成赵全忠王关德程欣李儒新
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极紫外光刻投影物镜波像差检测技术研究
<正>光刻技术是极大规模集成电路制造的核心技术。光刻工艺中最关键的设备一光刻机,直接决定了集成电路芯片的特征尺寸。极紫外光刻(EUVL,曝光波长13.5nm)是集成电路制造技术进入1xnm以下节点的主要备选光刻技术之一。...
唐锋王向朝郭福东冯鹏张国先徐世福程欣
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