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王效东

作品数:13 被引量:36H指数:4
供职机构:中国科学院上海冶金研究所上海微系统与信息技术研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家攀登计划中国科学院重点实验室基金更多>>
相关领域:机械工程电子电信电气工程化学工程更多>>

文献类型

  • 9篇期刊文章
  • 2篇会议论文
  • 2篇专利

领域

  • 3篇机械工程
  • 3篇电子电信
  • 3篇电气工程
  • 2篇化学工程
  • 2篇理学

主题

  • 6篇金刚石薄膜
  • 4篇微电子
  • 3篇金属
  • 3篇静电马达
  • 3篇刻蚀
  • 3篇反应离子
  • 3篇
  • 2篇陶瓷
  • 2篇微电子工艺
  • 2篇微机械
  • 2篇微机械器件
  • 2篇离子束
  • 2篇离子束刻蚀
  • 2篇金刚石
  • 2篇金属镍
  • 2篇反应离子束刻...
  • 2篇刚石
  • 1篇电机
  • 1篇电子器件
  • 1篇掩模

机构

  • 13篇中国科学院上...
  • 1篇复旦大学
  • 1篇华东师范大学
  • 1篇上海交通大学
  • 1篇中国科学院

作者

  • 13篇王效东
  • 7篇王渭源
  • 4篇毛敏耀
  • 3篇任琮欣
  • 3篇解健芳
  • 2篇江炳尧
  • 2篇杨艺榕
  • 2篇谭淞生
  • 1篇唐圣明
  • 1篇鲍敏杭
  • 1篇吴建新
  • 1篇陈思琴
  • 1篇吴召平
  • 1篇王云珍
  • 1篇王添平
  • 1篇吴人洁
  • 1篇赖宗声
  • 1篇柳襄怀
  • 1篇陆德仁
  • 1篇沈绍群

传媒

  • 2篇功能材料与器...
  • 1篇科学通报
  • 1篇仪表技术与传...
  • 1篇电子显微学报
  • 1篇材料科学与工...
  • 1篇传感技术学报
  • 1篇微细加工技术
  • 1篇中国科学院研...
  • 1篇第四届全国微...
  • 1篇第三届全国敏...

年份

  • 1篇2001
  • 1篇2000
  • 2篇1999
  • 3篇1998
  • 3篇1996
  • 2篇1995
  • 1篇1993
13 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
TE_(103)单模谐振腔品质因数Q值的测量被引量:2
1995年
TE103单模腔是微波烧结系统中应用最广泛的单模谐振腔,品质因数Q值是度量腔体对外部激励响应的尖锐程度,是对烧结影响最大的谐振腔基本参量。采用扫频法测量,并从理论上讨论了在谐振腔中分别插入直径为8mm的不同棒状介质后,以及不同孔径、不同厚度耦合膜片对Q值的影响。
蔡杰张留琬吴召平王效东郭景坤
关键词:谐振腔陶瓷微波
金属镍微型静电马达的观察被引量:1
1996年
金属镍微型静电马达的观察唐圣明陈思琴王效东(中国科学院上海冶金研究所,上海200050)微电子机械学是近年来国际上新兴的一门学科。它把微电子工业中的许多加工技术引入到微机械零件的制造中,从而批量制造各种微型的机械零件,直至微型机械人。本文所介绍的金属...
唐圣明陈思琴王效东
关键词:金属镍
一种二次自对准的镍微静电马达被引量:2
1996年
设计出一种微静电wobble马达,定子电极的一部分重叠在转子之上,微马达用二次自对准的准LIGA技术制作,电铸镍作结构层(定子、转子和轴),电铸铜作牺牲层,得到的转子与定子、转子和轴的间隙分别为2.5和1.3μm。马达制备的关键工艺都在低温下完成。在定子和转子间加电压15V,观察到马达转子开始晃动,30~55V时连续转动,转速和减速比随电压和频率变化,对实验结果进行了讨论。
毛敏耀王效东解健芳王渭源
关键词:微电机镍基
金属镍微型静电马达的初步研制被引量:3
1995年
设计了一种材料为金属镍的摆动式(WObble)微型静电马达,马达转子直径140μm,厚度8μm,外观总体尺寸1 mm×1 mm.此马达首先是在硅衬底上利用准LIGA技术电镀形成,然后利用RIE释放.文中给出了微型摆动式静电马达的设计思想和制作工艺,并对工艺及马达驱动中出现的一些问题进行讨论.
王添平王效东解健芳谭淞生王渭源
关键词:静电马达反应离子刻蚀
反应离子束刻蚀金刚石薄膜图形工艺
本发明涉及一种反应离子束刻蚀金刚石薄膜图形工艺。金刚石薄膜由热丝法生长在硅片上,刻蚀图形在具有卡夫曼型离子源的离子束刻蚀机上,采用纯氧反应离子束,以铝膜为掩模进行。铅掩模可由光刻、腐蚀或氩离子束刻蚀形成。氧分压下,金刚石...
任琮欣江炳尧王效东杨艺榕
文献传递
陶瓷/液态金属相互作用研究被引量:13
1996年
本文总结了陶瓷/液态金属润湿性的研究现状,列出了主要研究方法和结果,并指出尚存在的问题。
王效东吴建新吴人洁
关键词:陶瓷金属润湿性液态金属
镍微齿轮的加工工艺初步研究
王效东谭淞生
关键词:齿轮生产工艺影响因素
反应离子束刻蚀金刚石薄膜图形工艺
本发明涉及一种反应离子束刻蚀金刚石薄膜图形工艺。金刚石薄膜由热丝法生长在硅片上,刻蚀图形在具有卡夫曼型离子源的离子束刻蚀机上,采用纯氧反应离子束,以铝膜为掩模进行。铝掩模可由光刻、腐蚀或氩离子束刻蚀形成。氧分压下,金刚石...
任琮欣江炳尧王效东杨艺榕
文献传递
Si,Ni和Cu衬底上沉积非晶金刚石薄膜的摩擦和磨损性能(摘要)
本文报告了用真空磁过滤弧沉积技术(FAD)在Si,Ni和Cu衬底上沉积非晶金刚石薄膜(a-D)及其摩擦和磨损性能的研究结果.
王效东陈智颖柳襄怀王渭源
关键词:非晶金刚石薄膜
文献传递
金刚石高成核选择比图形化技术被引量:5
1998年
报道了一种新的金刚石薄膜选择生长图形化技术。首先用直流偏压增强的微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)对图形区域(Si)高密度金刚石成核,接着对掩模区域(SiO2)进行一次化学浅腐蚀,然后正常生长金刚石薄膜,得到表面光滑、侧壁陡直的金刚石精细图形。用该技术制作了金刚石微马达结构,其厚度为2μm,转子直径150μm。图形间隙可控制至1-2μm。
王效东毛敏耀王渭源
关键词:金刚石薄膜图形化MPCVD
共2页<12>
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