唐秀凤
- 作品数：5 被引量：23H指数：3
- 供职机构：西北工业大学材料学院凝固技术国家重点实验室更多>>
- 发文基金：国家重点实验室开放基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术更多>>
- 溅射气压对直流磁控溅射ZnO：Al薄膜的影响(英文)被引量：1
- 2012年
- 采用直流磁控溅射法在玻璃基片上沉积ZnO:Al(AZO)薄膜,溅射气压为0.2～2.2 Pa.通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、四探针和紫外–可见分光光度计对AZO薄膜的相结构、微观形貌和电光学性质进行了表征.结果表明:薄膜的沉积速率随着溅射气压的增大而减小,变化曲线符合Keller-Simmons模型;薄膜均为六角纤锌矿结构,但择优取向随着溅射气压发生改变;溅射气压对薄膜的表面形貌有显著影响;当溅射气压为1.4 Pa时,薄膜有最低的电阻率(8.4×104 Ω·cm),高的透过率和最高的品质因子Q.
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- 关键词：ZNO:AL薄膜直流磁控溅射溅射气压光电性质
- 直流反应磁控溅射制备氧化铝薄膜被引量：12
- 2011年
- 采用直流反应磁控溅射,以高纯Al为靶材,高纯O2为反应气体,在镍基合金和单晶硅基片上制备了氧化铝薄膜,并对氧化铝薄膜的沉积速率和表面形貌进行了研究。结果表明,氧化铝薄膜的沉积速率随溅射功率的增大先几乎呈线性增大而后增速趋缓;随溅射气压的增加,沉积速率先增大,在1.0Pa时达到峰值,而后随气压继续增大而减小;随Ar/O2流量比的不断增加,沉积速率也随之不断增大,但是随着负偏压的增大,沉积速率先急剧减小而后趋于平缓。用扫描电子显微镜对退火处理前后的氧化铝薄膜表面形貌进行观察,发现在500℃退火1h能够使氧化铝薄膜致密化和平整化。
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- 关键词：直流反应磁控溅射氧化铝薄膜沉积速率退火表面形貌
- K424合金镀金膜后红外发射率变化被引量：4
- 2009年
- 研究了表面镀金膜的K424合金在热处理前后红外发射率的变化和变化机制。XRD分析结果表明,在热处理后基体金属元素扩散到金膜中,并主要形成了Cr在Au中的固溶体—Au0.7Cr0.3。EDXS分析表明,粗糙表面镀金膜的试样在热处理后,表面主要形成了基体金属元素的氧化物;而抛光表面镀金膜的试样,其表面仍为金膜。通过SR5000光谱辐射计量仪测量合金的红外发射率,结果表明,合金的表面状态和热处理对红外发射率均有较大影响。
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- 关键词：镍基高温合金金膜红外发射率
- 退火升温速率对氧化铝涂层性能的影响研究
- 2015年
- 采用直流反应磁控溅射的方法将1μm厚的氧化铝涂层沉积于K424镍基高温合金基底上。为了减少涂层缺陷,优化涂层性能,本文以不同的升温速率对制备得到的氧化铝涂层进行500℃保温1 h的退火处理,并通过XRD、SEM等研究了退火升温速率对氧化铝涂层微观结构,表面形貌以及显微硬度的影响。结果表明:经800℃保温1 h进一步的高温热处理之后,γ-Al_2O_3结晶首先在以25℃/min升温速率退火后的试样中发现,并且以25℃/min升温速率退火后的试样拥有最致密的表面形貌。
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- 关键词：氧化铝涂层直流反应磁控溅射表面处理
- 磁控溅射Ni/Au/Pt多层膜红外发射率特征研究被引量：6
- 2011年
- 研究了表面镀Ni/Au/Pt多层膜的K424合金在热处理前后红外发射率的变化及变化机理。XRD分析结果表明,在热处理后,试样表面主要由Au0.7Cr0.3和Pt组成,说明合金基体元素在600℃下会向外扩散。SEM分析表明,粗糙表面镀金膜的试样在热处理后,表面薄膜产生了细小的裂痕,但在表面没有探测到氧化物。而抛光表面镀金膜的试样,其表面薄膜十分完整。通过SR5000光谱辐射计量仪测量合金的红外发射率,结果表明,合金的表面状态和热处理对红外发射率均有较大影响。
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- 关键词：镍基高温合金红外发射率
