周小为
- 作品数：6 被引量：22H指数：4
- 供职机构：中国科学技术大学核科学技术学院国家同步辐射实验室更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划国家自然科学基金国家科技重大专项更多>>
- 相关领域：理学机械工程电子电信一般工业技术更多>>
- 相位片角向衍射产生拉盖尔-高斯光束的实验研究被引量：5
- 2010年
- 设计了一种角向分布的相位片,利用离子束刻蚀技术加工成0和π二级的相位片.利用角向衍射理论对相位片的衍射场分析表明,衍射场为拓扑指数相反的两束拉盖尔-高斯光束的叠加场.用直径为4mm的近平行光照射相位片,获得径向指数为零,拓扑荷相反的叠加拉盖尔-高斯光场.采用较大孔径的光束入射时,仍为拓扑荷相反的两束光的叠加,但径向指数会发生变化.
- 任煜轩吴建光周小为付绍军孙晴王自强李银妹
- 关键词：信息光学拉盖尔-高斯光束离子束刻蚀
- 几种常用光学材料的离子束刻蚀特性研究被引量：4
- 2007年
- 利用基于射频离子源的离子束刻蚀装置,分别以氩气、三氟甲烷为工作气体,初步研究了离子能量、束流和加速电压等条件对K9、石英、氧化硅薄膜、氧化铪薄膜这4种常用光学材料和光刻胶的离子束刻蚀特性和反应离子束刻蚀特性的影响.实验结果表明:以三氟甲烷为工作气体的反应离子束刻蚀,在较低离子能量、束流和加速电压的条件下,就可对氧化硅薄膜和氧化铪薄膜实现较高的刻蚀选择比(分别为2.5∶1和1∶1).并在此基础上,研制出亚微米周期的氧化硅光栅和氧化铪光栅,其中氧化硅光栅线条的侧壁倾角大于85°;氧化铪光栅在1064 nm自准直入射角下的负一级衍射效率高于95%.
- 刘颖徐德权徐向东周小为洪义麟付绍军
- 关键词：离子束刻蚀选择比衍射光学元件
- 大口径衍射光学元件的离子束刻蚀及相关问题的研究
- 衍射光学元件广泛应用于红外成像系统、光谱分析以及其他现代光学系统。随着激光技术的发展，激光器中的重要元件——大口径衍射光学元件的制作成了重要的究课题。现在大口径衍射光学元件的制作主要采用全息曝光和离子束刻蚀相结合的方法。...
- 周小为
- 关键词：衍射效率
- 文献传递
- 用于大尺寸衍射光栅的光刻胶残余物的灰化系统研制被引量：4
- 2008年
- 在制作大尺寸厚基底衍射光学元件时,经常需要清除残余底胶,为此我们研制了大尺寸衍射光栅灰化装置.该装置可以在450 mm×450 mm(Ф650 mm)范围内产生均匀性良好的等离子体,通过气体辉光放电来达到去残胶的目的,辉光放电速率可通过调节工作气体的浓度来控制.已用该装置灰化处理了200 mm×400 mm×50mm的脉宽压缩光栅。
- 洪义麟刘良保周小为徐向东付绍军
- 关键词：大尺寸衍射光栅辉光放电灰化
- 大尺寸衍射光学元件的扫描离子束刻蚀被引量：7
- 2012年
- 总结了大尺寸衍射光学元件离子束刻蚀技术的研究进展。针对自行研制的KZ-400离子束刻蚀装置,提出了组合石墨束阑结构和多位置分步刻蚀策略来提高离子束刻蚀深度的均匀性,目前在450mm尺寸内的刻蚀深度均匀性最高可达±1%。建立了针对多层介质膜光栅的衍射强度一维空间分布在线检测系统以及用于透射衍射光学元件离子束刻蚀深度的等厚干涉在线检测系统,实现了对大尺寸衍射光学元件离子束刻蚀终点的定量、科学控制,提高了元件离子束刻蚀工艺的成功率。利用上述技术,成功研制出一系列尺寸的多层介质膜光栅、光束采样光栅、色分离光栅以及同步辐射光栅等多种衍射光学元件。
- 邱克强周小为刘颖徐向东刘正坤盛斌洪义麟付绍军
- 关键词：衍射光学元件离子束刻蚀刻蚀深度在线检测
- 大口径多层介质膜光栅衍射效率测量及其在制作工艺中的应用被引量：1
- 2012年
- 多层介质膜光栅是高功率激光系统的关键光学元件.为了满足国内强激光系统的迫切需求,在大口径多层介质膜光栅的研制过程中,建立了单波长自准直条件下的衍射效率测量方法及其误差分析.结果表明误差主要由探测器的噪声和测试人员的差异产生,对衍射效率测试精度的影响是±1%.在此基础上,将光栅衍射效率及其分布测量技术应用于光栅制作工艺中,作为大口径光栅无损检测的一种手段,如判断光栅掩模是否能进行离子束刻蚀、离子束刻蚀的在线监测和是否需要再刻蚀,从而实现对大口径多层介质膜光栅离子束刻蚀过程的定量、科学控制,提高了离子束刻蚀光栅制作工艺的成功率.利用上述技术,已成功研制出多块最大尺寸为430 mm×350 mm、线密度1740线/mm、平均衍射效率大于95%的多层介质膜光栅.实验结果表明,该方法操作简单、测量快速准确,不必检测光栅微结构.为大口径多层介质膜光栅研制的无损检测工程化奠定了基础.
- 周小为刘颖徐向东邱克强刘正坤洪义麟付绍军
- 关键词：衍射效率离子束刻蚀
