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冯建

作品数:4 被引量:0H指数:0
供职机构:信息产业部更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 4篇国内会议论文

领域

  • 4篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 2篇
  • 1篇多晶
  • 1篇多晶硅
  • 1篇压力传感器
  • 1篇应力
  • 1篇真空微电子
  • 1篇真空微电子压...
  • 1篇抛光
  • 1篇批量化
  • 1篇批量化生产
  • 1篇外延片
  • 1篇力传感器
  • 1篇晶片
  • 1篇键合
  • 1篇感器
  • 1篇SOI材料
  • 1篇传感
  • 1篇传感器

机构

  • 4篇信息产业部

作者

  • 4篇冯建
  • 2篇陈洪波
  • 2篇杨国渝
  • 1篇毛儒焱
  • 1篇邹修庆
  • 1篇谈长平
  • 1篇张正元
  • 1篇陈红
  • 1篇李智囊
  • 1篇毛儒炎
  • 1篇李文

传媒

  • 3篇第十二届全国...
  • 1篇第五届全国微...

年份

  • 4篇2001
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
硅-硅键合晶片在减薄过程中产生的应力及影响
硅-硅键合晶片中机械减薄过程中产生的应力会使硅片产生弯曲变形,这种变形若不消除,在其后的加工过程中会使图形发生扭曲或位移,导致硅片加工中途报废.经过应力消除处理后可以顺利完成加工.
杨国渝冯建
文献传递
多层硅外延生长技术研究
本文介绍了高压大电流晶体管电路外延片制备的主要技术关键,及控制杂质浓度分布、晶格结构完整性、电参数及厚度均匀性、重复性等工艺流程.它所提供的外延片已成功地应用于3、4英寸电路的生产中.
李智囊毛儒炎冯建陈洪波李文
关键词:外延片
文献传递
SOI材料制备技术
为了适应高可靠和抗核加固集成电路的应用需要,以及满足硅圆片大直径化的需要,采用SDB(Silicon Wafer Direct Bonding)方法,制作出顶层单晶硅厚度大于5μm的SOI结构材料.结合横向隔离技术,实现...
毛儒焱冯建谈长平邹修庆陈洪波
关键词:SOI材料
文献传递
用于真空微电子压力传感器批量化生产隔离的技术
在阳极膜上进行各项异性腐蚀硅深槽,采用外延方式生长多晶硅,进行填槽,再对表面进行化学机械抛光,实现了槽隔离的批量化生产.
杨国渝冯建张正元陈红
关键词:多晶硅抛光压力传感器真空微电子
文献传递
共1页<1>
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