您的位置: 专家智库 > >

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 3篇专利

领域

  • 3篇化学工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 4篇多晶
  • 4篇多晶硅
  • 3篇氢化炉
  • 3篇还原炉
  • 2篇
  • 1篇导电
  • 1篇导电体
  • 1篇底盘
  • 1篇电耗
  • 1篇电极
  • 1篇原因分析及控...
  • 1篇运行时间
  • 1篇三相电
  • 1篇喷嘴
  • 1篇歧化
  • 1篇歧化反应
  • 1篇汽化器
  • 1篇尾气
  • 1篇温度监控
  • 1篇温度监控器

机构

  • 7篇昆明冶研新材...

作者

  • 7篇何书玉
  • 4篇王世松
  • 4篇杨丞杰
  • 4篇张新红
  • 3篇李鸿祥
  • 3篇顾国宝
  • 3篇赵桂洁
  • 2篇马启坤
  • 2篇罗平
  • 1篇曾亚龙
  • 1篇黄磊
  • 1篇付金林
  • 1篇宋东明
  • 1篇李文光
  • 1篇刘柯
  • 1篇李春林
  • 1篇周文韬
  • 1篇辜锋
  • 1篇周文韬

传媒

  • 2篇云南化工
  • 1篇化工管理
  • 1篇材料开发与应...

年份

  • 1篇2015
  • 3篇2014
  • 3篇2013
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
多晶硅还原炉倒棒原因分析被引量:2
2014年
多晶硅还原炉在生产过程中经常会倒棒,严重影响着多晶硅的正常生产。多晶硅倒棒后对还原炉内壁、电极、基盘都会造成严重的损坏,会砸坏石墨夹头、隔热石英环等备件从而增加生产成本,同时高倒棒率会导致还原炉频繁开停炉,降低开炉成功率,增加劳动负荷,更为严重的是倒棒后的硅料会与无定型硅粉、石墨夹头掺杂在一起,降低产品的质量。
何书玉宋张佐
关键词:多晶硅还原炉
多晶硅硅棒裂纹产生原因分析及控制方法被引量:1
2015年
对多晶硅还原工艺中硅芯机加工、硅芯清洗、硅芯安装、还原炉气体置换、硅芯沉积生长过程、以及停炉过程等操作环节中硅棒裂纹产生的原因进行了分析,并提出了硅棒裂纹控制方法。
周文韬辜锋何书玉
关键词:多晶硅
影响热氢化炉稳定运行时间的因素被引量:2
2013年
通过对氢化炉内加热载体的使用寿命、氢化炉铜排和电极绝缘值等影响因素的分析,提出了提高氢化炉连续稳定运行时间的解决方法。
杨丞杰张新红王世松何书玉
关键词:多晶硅
氢化炉尾气温度控制设备
本实用新型提出了氢化炉尾气温度控制设备,该设备包括:尾气输送管以及温度监控器,尾气输送管与换热器的尾气进口相连;温度监控器设置在尾气输送管上。利用该氢化炉尾气温度控制设备可以对氢化炉尾气进行降温,同时监测尾气进入汽化器之...
赵桂洁马启坤罗平顾国宝曾亚龙杨丞杰王世松张新红李鸿祥何书玉宋东明
文献传递
一种用于氢化炉的加热装置及氢化炉
本实用新型提供一种用于氢化炉的加热装置,包括:底盘;多个加热器;多个电极,通过绝缘体贯穿底盘且多个电极沿底盘圆周方向分N环布置,多个电极被分为三组,每组中的多个电极被分为多对,每对电极的电极头部通过一个加热器相连,且每组...
赵桂洁顾国宝杨丞杰王世松何书玉李鸿祥陈忠苑付金林刘柯周文韬黄磊张新红
文献传递
12对棒还原炉提升产能降低电耗途径探讨被引量:3
2013年
对降低12对棒还原炉电耗的途径进行了论述,认为采用高电压击穿代替加热击穿,钟罩抛光,使用较长硅芯,控制进料温度,优化进料曲线的方式,可有效降低还原电耗。
张新红杨丞杰何书玉
关键词:多晶硅电耗
一种12对棒还原炉喷嘴
本实用新型公开一种12对棒还原炉喷嘴,属硅还原领域。喷嘴结构是:喷嘴为一体包括还原炉底盘、喷头、六边型卡头、喷嘴丝口,喷嘴通过喷嘴丝口固定于还原炉底盘,喷嘴经六边型卡头旋紧。针对12对棒还原炉底部进料管分布结构,外围8个...
赵桂洁顾国宝马启坤李文光罗平王世松何书玉李鸿祥李春林马多智
文献传递
共1页<1>
聚类工具0