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田明辉

作品数:3 被引量:8H指数:2
供职机构:兰州理工大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金:甘肃省科技重大专项计划更多>>
相关领域:金属学及工艺电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇电子电信

主题

  • 3篇微弧氧化
  • 2篇控制系统
  • 1篇单片
  • 1篇单片机
  • 1篇电压
  • 1篇电源
  • 1篇电源控制
  • 1篇电源控制系统
  • 1篇多输出
  • 1篇输出波形
  • 1篇镁合金
  • 1篇镁合金微弧氧...
  • 1篇耐蚀
  • 1篇耐蚀性
  • 1篇加载
  • 1篇加载方式
  • 1篇合金
  • 1篇负载特性
  • 1篇AT89C5...
  • 1篇AZ91D镁...

机构

  • 3篇兰州理工大学

作者

  • 3篇田明辉
  • 2篇杨亮
  • 2篇马跃洲
  • 1篇彭飞
  • 1篇马颖
  • 1篇王鹏

传媒

  • 1篇材料保护
  • 1篇电力电子技术

年份

  • 3篇2012
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
基于DSPIC30F4011微弧氧化电源控制系统研制
微弧氧化是一种在阀金属及其合金表面生成具有优质性能氧化陶瓷膜的表面改性新技术。所形成的保护膜可使金属的耐磨损、耐腐蚀及绝缘等性能得到极大改善,又因其具有工序简单,材料适应性宽等优点,因而在航空、航天、机械、电子以及生物材...
田明辉
关键词:微弧氧化AT89C52单片机输出波形负载特性
电压加载方式对镁合金微弧氧化过程及膜层性能的影响被引量:4
2012年
电压加载方式会影响微弧氧化过程及膜层性能。利用自制的具有多种输出脉冲形式的电源,在不同的电压增量下加载对AZ91D镁合金微弧氧化,研究了加载方式对微弧氧化过程及膜层性能的影响。结果表明:随着电压增量的增加,成膜速率增大,膜层粗糙度变大,表面的孔径增大、孔隙率增加;膜层的最终厚度主要取决于终止电压,而终止电压相同时,电压增量越大,平均耗能越小;微弧氧化的不同阶段应采用不同的电压增量,开始阶段将其恒定为10 V/min,当电压达到350 V后改增量为5 V/min直至终止电压,这种加载方式制膜时的成膜效率、能耗及膜层耐蚀性、表面性能等综合结果较好。
彭飞马跃洲王鹏杨亮田明辉
关键词:微弧氧化AZ91D镁合金耐蚀性
DSC控制的多输出方式微弧氧化电源研制被引量:4
2012年
为了探讨镁合金微弧氧化(MAO)工艺对电源输出脉冲波形的要求,研制了具有多种输出方式的电源。电源主电路由两个电压源和两个IGBT斩波器构成,电压源采用IGBT全桥逆变式整流电路以减小体积、提高效率,斩波器按一定时序分别接通正、负电压源从而获得各种输出波形。控制系统以16位数字信号控制器(DSC)DSPI30F4011为核心,研制的电源具有直流、单极性脉冲、双极性脉冲、带放电回路脉冲及交流方波5种波形输出方式。工艺实验结果表明,除直流方式仅能用于阳极氧化外,其他4种方式均可进行镁合金MAO,其中带放电回路的脉冲方式综合效果最优。
田明辉马跃洲马颖杨亮
关键词:电源微弧氧化控制系统
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