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王雪涛

作品数:4 被引量:4H指数:1
供职机构:浙江大学更多>>
发文基金:浙江省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学一般工业技术电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇专利
  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 3篇脉冲激光
  • 3篇脉冲激光沉积
  • 2篇柔性衬底
  • 2篇漂洗
  • 2篇线阵列
  • 2篇纳米
  • 2篇纳米线
  • 2篇纳米线阵列
  • 2篇靶材
  • 2篇ZNO纳米
  • 2篇ZNO纳米线
  • 2篇ZNO纳米线...
  • 2篇掺杂
  • 2篇衬底
  • 1篇导体
  • 1篇电学
  • 1篇电学性能
  • 1篇氧化锌薄膜
  • 1篇稀磁半导体
  • 1篇稀磁半导体薄...

机构

  • 4篇浙江大学

作者

  • 4篇王雪涛
  • 3篇叶志镇
  • 3篇朱丽萍
  • 1篇叶志高
  • 1篇赵炳辉

传媒

  • 1篇无机材料学报

年份

  • 3篇2010
  • 1篇2009
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
柔性衬底上生长ZnO纳米线阵列的方法
本发明公开的柔性衬底上生长ZnO纳米线阵列的方法,步骤包括:将清洗过的柔性衬底放入脉冲激光沉积装置生长室中,以ZnO陶瓷为靶材,生长室通入O<Sub>2</Sub>气体,控制压强为0.01~2Pa,室温下在柔性衬底上脉冲...
朱丽萍王雪涛叶志镇
文献传递
N掺杂对Co-ZnO薄膜电学和磁学性能的影响被引量:4
2010年
采用脉冲激光沉积(PLD)法通过电离活化方式在石英和Si(100)衬底上制备了Co-N共掺ZnO薄膜,研究了N掺杂对Co-ZnO薄膜电学和磁学性能的影响.实验观察到700℃、N2O压强为15Pa时生长的Co-N共掺ZnO薄膜显示室温磁滞回线.采用XRD、SEM、XPS、霍尔测试和SQUID等手段对样品进行了测试,结果表明,所得薄膜样品具有高度的c轴择优取向,XRD图谱中并没有发现Co、N的相关分相,Co、N原子分别以替代位形式CoZn、NO存在于薄膜中.霍尔测试和SQUID测试表明,Co-N共掺ZnO薄膜呈p型,具有室温磁滞效应.与Co掺杂ZnO薄膜相比,载流子浓度降低,同时,饱和磁化强度和矫顽力有很大提高,可见,N的掺入改变了Co掺杂ZnO稀磁半导体薄膜的导电类型,并增强了磁性。
王雪涛朱丽萍叶志高叶志镇赵炳辉
关键词:PLDZNO薄膜磁性
柔性衬底上生长ZnO纳米线阵列的方法
本发明公开的柔性衬底上生长ZnO纳米线阵列的方法,步骤包括:将清洗过的柔性衬底放入脉冲激光沉积装置生长室中,以ZnO陶瓷为靶材,生长室通入O<Sub>2</Sub>气体,控制压强为0.01~2Pa,室温下在柔性衬底上脉冲...
朱丽萍王雪涛叶志镇
文献传递
过渡族元素掺杂ZnO稀磁半导体薄膜的生长及其性能研究
稀磁半导体材料由于在自旋电子器件中巨大的应用前景而备受关注。所谓稀磁半导体材料(Diluted Magnetic Semiconductors,DMS)是指在非磁性半导体(如IV-VI族、II-VI族或III-V族)中掺...
王雪涛
关键词:稀磁半导体脉冲激光沉积法电学性能氧化锌薄膜
文献传递
共1页<1>
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