李跃甫
- 作品数:3 被引量:3H指数:1
- 供职机构:浙江大学光电信息工程学系现代光学仪器国家重点实验室更多>>
- 发文基金:浙江省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域:理学一般工业技术电子电信更多>>
- 高择优取向铌酸锶钡薄膜的射频磁控溅射制备被引量:3
- 2008年
- 采用溶胶-凝胶法在(100)Si单晶上预先制备出掺钾(K)的铌酸锶钡(SBN)缓冲层,利用射频磁控溅射法在缓冲层KSBN上沉积出高择优取向的铌酸锶钡薄膜,获得了磁控溅射法制备择优取向铌酸锶钡薄膜的相关工艺参数,研究发现,KSBN缓冲层能够很有效地克服衬底与SBN薄膜之间较大的晶格失配,在氧气氩气的比例为1∶2,工作气压为1·0Pa,溅射功率300W,衬底温度300℃,退火温度为800℃的工艺条件下,能够获得c轴高度择优取向的铌酸锶钡铁电薄膜.利用X射线衍射仪,原子力显微镜等仪器分析了薄膜的微结构.通过研究SBN薄膜的电流-电压特性(I-V曲线),发现了类似于半导体p-n结的特性,且结效应的强弱与结晶性能的好坏和是否有缓冲层KSBN相关.
- 李跃甫叶辉傅兴海
- 关键词:磁控溅射
- 铌酸锶钡高择优取向薄膜的生长与光学特性研究
- 本文研究了具有优良电光效应的铁电薄膜铌酸锶钡(Strontium Barium Niobate,SrxBa1-xNb2O6) 在不同的单晶衬底上的生长特性,针对不同的衬底,不同的生长工艺以及不同结构的薄膜的光学性能, 如...
- 叶辉李跃甫
- 文献传递
- 硅基择优取向铌酸锶钡薄膜的磁控溅射沉积研究
- 四方钨青铜结构的铌酸锶钡(Strontium BariumNiobium SBN)以其较大的线性电光系数、较高的光折变性能灵敏度和热释电系数广泛应用于电光调制器、全息成像存储器和红外热释电探测器等方面。透明导电薄膜氧化铟...
- 李跃甫
- 关键词:导电薄膜磁控溅射沉积性能表征
- 文献传递