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高校学生党建工作网络化: 2010年; 现阶段,高校学生党建工作网络化的途径更为多样与新颖,极大地提高了工作效率及质量。同时,又因理论研究与党建实践脱节、流于形式,务虚多于务实等局限性,一定程度上制约着网络高校学生党建工作的发展。; 张健冯质雷; 关键词：高校学生党建网络

浅谈高校大学生创新精神培育的对策研究被引量：1: 2016年; "中国梦"对大学生提出了新的时代要求,并搭建了创新发展的广阔平台。当下的中国,创新精神中已融入时代精神,成为推动我国各项事业健康发展的重要元素。大学生是我们实现社会主义现代化的主力军,培育大学生创新精神,是实施人才兴国战略的重要内容。; 王壮张健; 关键词：高校大学生

试论大学生就业困难及指导策略: 2010年; 大学生难就业现已成为主要社会问题,大学生就业受社会因素、学生自身素质、学生心理多种因素的影响,面对困难,从系统工程的角度考虑毕业生就业工作,结合辅导员在大学生就业工作中的经验,发挥好指导中的作用,为促进毕业生就业工作提出一些建议。; 张健周燕北; 关键词：大学生就业困难就业指导

磁控溅射法制备ITO膜层及其光电性能研究被引量：3: 2022年; 利用直流磁控溅射法在有机玻璃基底上沉积掺杂氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜,在室温条件下,研究了溅射功率、溅射气压、靶基距和氧氩流量比等工艺参数对ITO薄膜光电性能的影响。结果表明,ITO薄膜的透光率随溅射功率和靶基距的增大而减小,当溅射功率为110W、靶基距为70mm时,ITO薄膜的透光性和导电性较为优良。在近紫外光波段和近红外光波段,ITO薄膜的透光率随溅射气压的增大而减小。当氧氩流量比为4:30时,ITO薄膜在500nm到600nm可见光范围内的透光性和综合性能最好。; 张健齐振华李建浩牛夏斌徐全国宗世强; 关键词：ITO薄膜直流磁控溅射法溅射功率溅射气压

一种场地除冰雪装置: 一种场地除冰雪装置，涉及一种除冰雪装置，所述装置由主传动轴（8）、内齿轮（13）、（13’）、冰雪刨削轴（12）、冰雪清扫轴（15）以及冰雪输送轴（16）组成，该主传动轴上装有太阳轮（9）、（9’）、行星架（10）、（1...; 李铁军赵艳春张健王勃; 文献传递

磁控溅射工艺对纳米铜薄膜的影响: 2024年; 在磁控溅射设备上,通过改变工艺参数在硅片上镀20 nm左右的纳米铜膜,研究了斜溅射靶的不同角度变化和直溅射靶的溅射温度对纳米铜薄膜的性能影响。使用SEM、EDS、台阶仪、四探针设备对铜薄膜的表面形貌、均匀性、元素种类与含量以及导电特性进行检测。结果显示:在斜溅射条件下,随着靶的角度α增大,铜薄膜膜厚随之增加,薄膜表面整体变得更好,铜薄膜的均匀性和导电性提高;在直溅射条件下,温度参数对薄膜厚度基本没有影响,但提高了薄膜的致密性,温度越高,其均匀性越好,而导电性与薄膜厚度呈正相关,因此其导电性基本无变化。; 宗世强张健徐全国; 关键词：磁控溅射导电性均匀性

充分发挥高校党委核心作用扎实开展“两学一做”学习教育: 2017年; "两学一做"学习教育是贯彻全面从严治党要求,推动管党治党工作向基层延伸的有力抓手,高校党委要充分发挥核心作用,自觉统一思想认识,增强政治自觉与行动自觉,全面落实管党治党主体责任,坚持以上率下,结合学校实际,科学统筹谋划,精心组织实施,注重统筹兼顾,推动振兴发展。; 冯质雷张健南贺; 关键词：高校党委

直流磁控溅射法制备GZO薄膜及其结构和光电性能的研究被引量：3: 2022年; 为了提高GZO薄膜性能的稳定性,在溅射温度为室温、气压为0.2 Pa、靶基距为100 mm等工艺条件下,利用直流磁控溅射法在氧化铝基底上沉积超厚型的镓掺杂氧化锌(GZO)薄膜,并探究不同溅射功率对GZO薄膜的表面生长方式、内部晶体取向和光电性能的影响。利用X射线衍射仪、四探针、原子力显微镜等仪器对制备的薄膜进行表征,结果发现随着溅射功率的增大,GZO薄膜晶胞的生长方向由径向生长变为横向生长;薄膜内的晶体结构的衍射峰先增强后降低;薄膜在可见光范围内的平均透光率出现先增大后减小,最后再次增加的趋势。GZO薄膜样品的方块电阻随功率的增加逐渐呈现出下降的趋势,当溅射功率为250 W时,薄膜的方块电阻最低,最低值为18Ω/□。当溅射功率为180 W时,薄膜的择优取向衍射峰峰值达到最大,薄膜的晶胞生长饱满并且结晶性能良好,薄膜表面致密性平整;GZO薄膜的平均透光率在可见光波段范围内达到最高并且接近95%,薄膜的方块电阻为34Ω/□。; 张健齐振华李建浩牛夏斌唐智聪; 关键词：直流磁控溅射透明导电薄膜晶体结构光电性能

射频磁控溅射对PET基材制备铝薄膜的性能影响被引量：1: 2021年; 针对传统制铝技术,为提高膜层结合力、阻隔性,采用射频磁控溅射镀铝工艺,制备纯铝高阻隔性膜层,在PET塑料薄膜表面沉积纯铝的实验。通过对射频电源功率和溅射气压等参数的改变,探究射频功率、溅射气压对薄膜结合力、阻隔性的影响。结果表明:薄膜沉积过程中的射频功率和溅射气压对磁控镀铝薄膜性能影响较大,在一定的溅射压力下,膜层的结合力随射频功率的增大而逐渐增大,膜层的阻隔性随射频功率的增大,先提高后降低,射频功率为85W时,氧气透过率最小为1.11cm^(3)/(m^(2)·day·atm);在射频功率相同的情况下,结合力随着溅射气压的增大,先增大后降低,膜层的阻隔性随着溅射气压的增大而逐渐降低,溅射气压为0.5Pa时,结合力最高为1.68N/mm。较传统铝膜结合力提高2倍,阻隔性提高5倍。; 张健牛夏斌李建浩齐振华; 关键词：铝射频磁控溅射射频功率溅射气压

高校党建推进“两学一做”学习教育制度化探索被引量：4: 2017年; 中央明确提出推进"两学一做"常态化制度化建设具有重大意义,各高校要深刻领会并贯彻落实好中央精神,在把握思想建设这个根本上求提升,在深化拓展"学"的基础上见成效,在纵深推进"做"的关键上下功夫,在充分发挥党支部主体作用上有实招,强化分类指导,注重监督落实。; 刁元东南贺张健; 关键词：高校

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张健