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于伟东

作品数:82 被引量:124H指数:7
供职机构:中国科学院上海硅酸盐研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金上海市科学技术发展基金国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:理学电子电信一般工业技术化学工程更多>>

文献类型

  • 40篇专利
  • 24篇期刊文章
  • 13篇会议论文
  • 5篇科技成果

领域

  • 17篇理学
  • 14篇电子电信
  • 10篇一般工业技术
  • 3篇化学工程
  • 2篇自动化与计算...
  • 1篇建筑科学

主题

  • 17篇纳米
  • 15篇衬底
  • 14篇氧化锌薄膜
  • 10篇光电
  • 9篇电阻
  • 8篇氧化物
  • 8篇脉冲激光
  • 8篇衬底温度
  • 7篇电池
  • 7篇光致
  • 7篇发光
  • 7篇ZNO薄膜
  • 6篇随机存储器
  • 6篇粒子尺寸
  • 6篇光致发光
  • 6篇存储器
  • 5篇电化学
  • 5篇喷雾热解
  • 5篇喷雾热解法
  • 5篇脉冲激光沉积

机构

  • 81篇中国科学院
  • 5篇佛山市中国科...
  • 4篇中国科学院研...
  • 1篇上海第二工业...

作者

  • 82篇于伟东
  • 77篇李效民
  • 54篇高相东
  • 18篇边继明
  • 14篇陈同来
  • 11篇邱继军
  • 8篇甘小燕
  • 8篇张灿云
  • 8篇杨长
  • 7篇张霞
  • 7篇刘新军
  • 7篇王群
  • 7篇张亦文
  • 7篇赵俊亮
  • 7篇曹逊
  • 7篇杨蕊
  • 5篇吴峰
  • 5篇蔡晓峰
  • 4篇徐军
  • 4篇陈立东

传媒

  • 14篇无机材料学报
  • 5篇佛山陶瓷
  • 2篇发光学报
  • 2篇第二届中国西...
  • 2篇上海市真空学...
  • 2篇中国科协第五...
  • 1篇液晶与显示
  • 1篇材料工程
  • 1篇纳米科技
  • 1篇中国科协第五...
  • 1篇第四届华东真...
  • 1篇2004年中...
  • 1篇上海市真空学...

年份

  • 7篇2013
  • 5篇2012
  • 5篇2011
  • 4篇2010
  • 9篇2009
  • 13篇2008
  • 8篇2007
  • 6篇2006
  • 8篇2005
  • 13篇2004
  • 4篇2003
82 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
基于硅衬底上的全外延电阻转变多层薄膜、方法及应用
本发明涉及一种新型存储器用硅基全外延多层薄膜、方法及应用。本发明的目的是通过在硅衬底上依次外延生长TiN,MgO或SrTiO<Sub>3</Sub>作为结构调节层,贵金属和导电氧化物为电极导电层,掺杂稀土锰氧化物为电阻转...
于伟东李效民陈同来吴峰
文献传递
Zn_(1-x)Mg_xO薄膜p型导电和光学性能被引量:10
2006年
采用超声喷雾热分解(U ltrason ic Spray Pyrolysis,USP)方法,以醋酸锌、醋酸镁、醋酸铵、氯化铝的混合水溶液为前驱溶液,在单晶S i(100)衬底上制备了ZnO,Zn0.81Mg0.19O,N-A l共掺杂ZnO和N-A l共掺杂Zn0.81Mg0.19O薄膜。以X射线衍射(XRD)、场发射-扫描电镜(FE-SEM)、霍尔效应(Hall-effect)、光致发光(Photolum inescence,PL)谱等手段研究了薄膜的晶体结构、表面形貌、电学性能、光学性能和带隙变化。电学测试结果表明,未掺杂ZnO及Zn0.81Mg0.19O薄膜为n型导电;而N-A l共掺杂ZnO和N-A l共掺杂Zn0.81Mg0.19O薄膜呈p型导电。Zn0.81Mg0.19O和N-A l共掺杂Zn0.81Mg0.19O(p型)薄膜在维持ZnO纤锌矿结构的前提下,光学带隙随Mg掺杂量增加而增大。初步结果显示,优化工艺参数下通过Mg掺杂制备光学带隙可调的p型Zn0.81Mg0.19O薄膜,对于试制Zn1-xMgxO基同质p-n结、短波长(紫外、深紫外)器件等方面有重要意义。
张霞李效民陈同来于伟东高相东张灿云赵俊亮
关键词:导电性能光致发光
一种基于氧化锌材料的电阻式RAM存储单元及制备方法
本发明公开了一种基于氧化锌材料的新型电阻式RAM(随机存储器)存储单元及制备方法。所述的存储单元包括开关元件和存储元件,特征在于开关元件以透明导电薄膜为底电极,以ZnO薄膜为中间层,以Pt、Au、Ir等功函数较高金属(M...
李效民张锋于伟东高相东何邕甘小燕吴亮
一类氧化物多层梯度薄膜及其构建的RRAM元器件
本发明提供一种用于电阻式随机存取存储器(RRAM)元器件的氧化物多层梯度薄膜,所述的梯度薄膜具有电阻转变特性,所述的氧化物多层梯度薄膜具有电阻转变特性,其组成通式为:MO<Sub>x-δ</Sub>/MO<Sub>x-δ...
李效民刘新军王群曹逊杨蕊于伟东陈立东
文献传递
脉冲激光沉积法生长In掺杂SrTiO3薄膜及其微观结构研究被引量:4
2008年
采用脉冲激光沉积(PLD)方法在MgO/TiN/Si(100)衬底上,生长不同In掺杂量的SrIn_xTi_(1-x)O_3(x=0、0.1、0.2)薄膜,研究In掺杂及本征SrTiO_3(STO)缓冲层对薄膜结晶性能、表面形貌、生长模式及紫外拉曼光谱特性的影响.结果表明,In掺杂导致薄膜结晶度降低,通过引入本征STO缓冲层可有效提高In掺杂STO薄膜的结晶度,增强薄膜的(200)择优取向性.然而随In掺杂量的增加,薄膜表面平均粗糙度增大;生长模式由层状生长转变为岛状-层状复合模式;拉曼一次声子振动模式峰强逐渐增强,说明薄膜的晶体对称性降低.
张亦文李效民赵俊亮于伟东高相东吴峰
关键词:脉冲激光沉积法SRTIO3薄膜缓冲层结晶度
CuSCN薄膜的室温液相沉积及其光学性能被引量:4
2008年
采用连续离子层吸附与反应(SILAR)方法,在室温液相条件下(20~25℃)制备了沉积于玻璃衬底上的CuSCN半导体薄膜,以X射线衍射、扫描电镜、光学透过谱考察了所得薄膜的晶体结构、微观表面断面形貌和光学性能,探讨了影响CuSCN薄膜沉积的关键因素.结果表明,所得薄膜具有明显结晶性及沿c轴择优生长趋势,表面致密、均匀,分别由50~100nm的较大颗粒和20~30nm的小颗粒紧密堆聚而成;薄膜在400~800nm波段的透过率为50%~70%,光学禁带宽度为3.94eV.CuSCN薄膜的沉积过程受铜前驱液中S_2O_3^(2-)与Cu^(2+)的摩尔比、衬底漂洗方式和生长温度等因素影响显著,高络离子浓度、多次沉积反应后再进行衬底漂洗、以及室温生长条件有利于得到高质量的CuSCN薄膜.
高相东李效民于伟东邱继军甘小燕
关键词:CUSCN光学性能
新型复合可磁化陶瓷的研制及其应用研究
2012年
本文通过在普通硅酸盐陶瓷坯料中掺入铁氧体磁粉,研发出一种新型复合可磁化陶瓷材料,对铁氧体磁粉的选用、磁粉对复合可磁化陶瓷材料性能的影响进行了初步的研究,并将此材料应用于功能化陶瓷墙地砖的设计和生产。
蔡晓峰于伟东
关键词:磁化复合陶瓷功能陶瓷
改进的电化学沉积工艺制备单一c轴取向氧化锌薄膜方法
本发明涉及一种改进的电化学沉积工艺制备单一c轴取向ZnO薄膜方法,其特征在于采用电化学预处理过程与恒电流沉积相结合的方法,在经预处理的衬底表面形成一晶柱尺寸小的ZnO籽晶层,使后续沉积ZnO薄膜具有单一c轴生长特性。具体...
高相东彭芳李效民于伟东
文献传递
透明致密ZnO薄膜的恒电流沉积及生长过程研究被引量:5
2007年
采用阴极恒电流沉积方法,以Zn(NO3)2水溶液为电沉积液,在经电化学预处理后的ITO导电玻璃上生长了具有c轴高度择优取向、均匀致密的透明ZnO薄膜.采用X射线衍射、扫描电镜和光学透过谱等技术,对不同沉积时间条件下薄膜的结晶特性、表面和断面结构、光学性质等进行了研究.结果表明,沉积时间对ZnO薄膜质量影响明显:在薄膜生长后期(120min),ZnO薄膜的结晶性和表面平整度明显降低,晶粒尺寸增大,可见光透过率下降,表明高质量ZnO薄膜的电化学沉积有一最佳生长时间;此外,薄膜厚度随时间呈线性变化,表明可通过生长时间实现对ZnO薄膜厚度的精确控制.
彭芳李效民高相东于伟东邱继军
关键词:ZNO薄膜电沉积预处理微观结构
电阻式随机存储器用合金电极材料及其制备技术
本发明涉及一种电阻式随机存储器用合金电极材料和制备技术。本发明的目的是通过采用合金化的方法,提高电极材料与电阻记忆薄膜的接触电阻,改善存储器的存储性能。电极合金化的主要依据是材料的功函数、化学活性、互溶度以及与氧化物的结...
于伟东李效民杨蕊刘新军王群陈立东
文献传递
共9页<123456789>
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