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阎鹏勋

作品数：26 被引量：175H指数：7
供职机构：兰州大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金甘肃省自然科学基金更多>>
相关领域：金属学及工艺理学一般工业技术机械工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 20篇期刊文章
  • 3篇会议论文
  • 2篇学位论文
  • 1篇专利

领域

  • 12篇金属学及工艺
  • 7篇理学
  • 4篇一般工业技术
  • 2篇机械工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇环境科学与工...

主题

  • 9篇氮化
  • 7篇氮化钛
  • 7篇等离子体
  • 5篇摩擦学
  • 4篇等离子
  • 4篇离子束
  • 4篇离子束混合
  • 4篇离子注入
  • 4篇脉冲等离子体
  • 4篇纳米
  • 3篇涂层
  • 3篇TIN薄膜
  • 2篇氮化硼
  • 2篇氮化硼薄膜
  • 2篇性能研究
  • 2篇室温
  • 2篇气相沉积
  • 2篇立方氮化硼薄...
  • 2篇摩擦学性能
  • 2篇纳米压入

机构

  • 19篇兰州大学
  • 16篇中国科学院
  • 1篇大连理工大学
  • 1篇合肥工业大学
  • 1篇西安理工大学

作者

  • 26篇阎鹏勋
  • 6篇杨思泽
  • 6篇刘维民
  • 5篇吴志国
  • 4篇阎逢元
  • 4篇韩修训
  • 3篇张玉娟
  • 3篇张伟伟
  • 3篇薛群基
  • 2篇陈熙琛
  • 2篇王君
  • 2篇吴宝善
  • 1篇白利峰
  • 1篇谢亮
  • 1篇吕惠民
  • 1篇苏玉成
  • 1篇郭慧尔
  • 1篇李鑫
  • 1篇陈发贵
  • 1篇许世红

传媒

  • 3篇摩擦学学报（...
  • 2篇金属学报
  • 2篇机械工程材料
  • 2篇核技术
  • 2篇兰州大学学报...
  • 2篇’94秋季中...
  • 1篇甘肃科学学报
  • 1篇物理学报
  • 1篇硅酸盐学报
  • 1篇物理
  • 1篇材料保护
  • 1篇材料研究学报
  • 1篇中国有色金属...
  • 1篇中央民族大学...
  • 1篇中国材料进展

年份

  • 1篇2011
  • 1篇2005
  • 3篇2004
  • 3篇2003
  • 4篇2002
  • 1篇2000
  • 2篇1995
  • 5篇1994
  • 5篇1992
  • 1篇1989
共 26 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
离子束混合改善纯铁耐蚀性能的研究
1992年
本文研究比较了不同条件下的离子束混合对纯铁腐蚀性能的影响.阳极极化试验表明,各种剂量氮离子束轰击纯铁镀钛样品,在0.15M H_2SO_4水溶液中均发生理想的自钝化现象.因而氮离子束混合显著提高了纯铁的耐性性能.而氮离子束混合,没有提高纯铁镀钛样品的耐蚀性.XPS 和 X 光薄膜衍射仅分析表明,氮离子束轰击纯铁镀钛样品表面形成了均匀的 TiN 层.这是氮离子束混合样品耐蚀性显著提高的原因.
吴宝善阎鹏勋
关键词：耐蚀性离子束混合铁
脉冲高能量密度等离子体沉积氮化钛膜的结合强度被引量：11
1994年
本文用脉冲高能量密度等离子体技术，在室温条件下，成功地在ＧＣｒ１５钢表面沉积了性能良好的氮化钛薄膜。用自动划痕试验仪测量了氮化钛薄膜的结合强度。研究结果表明：表征薄膜结合强度的临界载荷有相当高的值；氮化钛薄膜的临界载荷随脉冲轰击次数、内外电极的电压变化而变化。对沉积膜结合强度的这些变化给予了理论上的解释与讨论。
阎鹏勋杨思泽陈熙琛
关键词：脉冲等离子体氮化钛
离子束混合改善纯铁表面性能的研究
阎鹏勋
脉冲等离子体薄膜制备和材料表面改性及相关物理问题的研究
阎鹏勋
关键词：脉冲等离子体材料表面改性
不同湿度下Cr离子注入非晶碳膜的摩擦学性能研究
对利用直流磁控溅射技术在单晶硅表面制备的非晶碳膜进行了Cr离子注入,通过拉曼光谱、X射线光电子能谱和原子力显微镜对其结构和形貌进行了考察,在DF-PM动摩擦系数精密测定仪上测定了载荷3 N、不同湿度下薄膜的摩擦性能。结果...
阎逢元韩修训张爱民阎鹏勋许世红牟宗信
关键词：离子注入非晶碳膜
文献传递
在ITO玻璃衬底上制备锆钛酸铅铁电薄膜被引量：7
2000年
利用射频反应性溅射沉积技术在掺Sn的In2 O3导电透明膜(ITO)衬底上制备了钙钛矿型Pb(Zr,Ti)O3(PZT)铁电薄膜 .研究了沉积参量与热处理工艺对铁电薄膜结构和性能的影响 .运用X射线衍射、X射线光电子能谱和扫描电镜等技术 ,分析了薄膜的晶体结构、表面形貌和表面元素化学状态 .测量了不同处理条件下薄膜的铁电性能 .结果表明 :在掺Sn的In2 O3导电透明膜衬底上可以得到表面无裂纹、化学计量比符合要求的PZT薄膜 ;薄膜中晶粒均匀分布 ,平均尺寸约 2 50nm ,呈四方状和三角状 ;溅射气氛中氧含量和退火温度对薄膜结构、化学计量比和铁电性能都有明显影响 .
阎鹏勋谢亮李义王君蒋生蕊
关键词：氧化铟溅射沉积ITO铁电薄膜
离子注入中碳污染膜的研究(英文)
1992年
本文研究了离子注入过程中样品表面碳污染的来源,以及各种注入因素对碳膜厚度的影响。文中对碳膜沉积对离子注入样品的性能影响也给予了适当的讨论。
阎鹏勋
关键词：离子注入
脉冲等离子体在室温下沉积立方氮化硼薄膜
阎鹏勋杨思泽
关键词：等离子体氮化硼
脉冲高能量密度等离子体薄膜制备与材料表面改性被引量：6
2002年
脉冲高能量密度等离子体是一项全新的等离子体材料表面处理和薄膜制备技术 .文章主要介绍了作者近几年来在这方面的研究成果 .从理论和试验上研究了脉冲高能量密度等离子体的产生机制及其物理性质 .研究了脉冲等离子体与材料相互作用的基本物理现象和物理机制 .诊断测量表明 ,脉冲等离子体具有电子温度高 (10—10 0eV)、等离子体密度高 (10 1 4— 10 1 6 cm- 3)、定向速度高 (～ 10 7cm s)、功率大 (10 4 W cm2 )等特点 .在制备薄膜时具有沉积速率高 ,薄膜与基底粘结力强 ,并兼有激光表面处理、电子束处理、冲击波轰击、离子注入、溅射、化学气相沉积等综合性特点 ,可以在室温下合成亚稳态相和其他化合物材料 .在此基础上 ,系统地进行了脉冲等离子体薄膜制备和材料表面改性及其机理的研究 .在室温下的不同材料衬底上成功地沉积了性能良好的较大颗粒立方氮化硼、碳氮化钛、氮化钛、类金刚石、氮化铝等薄膜材料 .沉积薄膜和基底之间存在一个很宽的过渡层 ,因此导致薄膜与基底有很强的粘结力 .
阎鹏勋杨思泽
关键词：表面处理金属材料
纳米结构TiN薄膜的制备及其摩擦学性能被引量：9
2004年
在室温条件下,用磁过滤等离子体装置在单晶硅基底上制备了纳米结构TiN薄膜.分析了薄膜的表面形貌、晶体结构,测量了TiN薄膜的硬度,研究了基底偏压对薄膜结构性能的影响.结果表明,用此方法制备的TiN薄膜表面平整光滑,颗粒尺寸为50-80 nm;随着基底偏压的增大薄膜发生(111)面的择优取向.随着偏压的提高,薄膜的颗粒度稍有增大,摩擦系数增大,偏压提高,晶面在较密排的(111)面有强烈的择优取向,硬度也有所增大.在其它条件相同的情况下载荷越大,摩擦系数越大.不起用磁过滤等离子体法制备的纳米结构TiN薄膜具有较低的摩擦系数(0.14-0.25).
张玉娟吴志国阎鹏勋薛群基
关键词：无机非金属材料氮化钛摩擦学
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