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陈松林

作品数:41 被引量:87H指数:6
供职机构:成都精密光学工程研究中心更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划四川省学术和技术带头人培养资金NSAF联合基金更多>>
相关领域:理学电子电信机械工程核科学技术更多>>

文献类型

  • 33篇期刊文章
  • 6篇会议论文
  • 1篇学位论文
  • 1篇专利

领域

  • 28篇理学
  • 12篇电子电信
  • 6篇机械工程
  • 2篇核科学技术
  • 1篇化学工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 21篇激光
  • 17篇激光损伤
  • 16篇光学
  • 9篇损伤阈值
  • 7篇薄膜光学
  • 5篇光学薄膜
  • 5篇CDSE
  • 4篇硒化镉
  • 4篇HFO
  • 3篇多脉冲
  • 3篇原子层沉积
  • 3篇脉冲
  • 3篇激光损伤阈值
  • 3篇激光预处理
  • 3篇光谱
  • 3篇SIO
  • 2篇电子束蒸发
  • 2篇钝化
  • 2篇氧化硅
  • 2篇液相

机构

  • 31篇成都精密光学...
  • 13篇四川大学
  • 3篇中国科学院上...
  • 2篇中国科学院研...
  • 1篇西华大学
  • 1篇重庆大学
  • 1篇中航工业北京...

作者

  • 41篇陈松林
  • 26篇马平
  • 11篇朱世富
  • 11篇赵北君
  • 9篇王震
  • 9篇潘峰
  • 9篇刘志超
  • 8篇胡建平
  • 7篇罗晋
  • 6篇胡江川
  • 6篇王瑞林
  • 5篇李艺星
  • 5篇卫耀伟
  • 4篇许乔
  • 4篇罗政纯
  • 4篇何知宇
  • 4篇刘浩
  • 4篇郑轶
  • 4篇吴倩
  • 3篇邵建达

传媒

  • 9篇强激光与粒子...
  • 5篇红外与激光工...
  • 4篇人工晶体学报
  • 3篇应用光学
  • 2篇光学学报
  • 2篇四川大学学报...
  • 2篇光学与光电技...
  • 1篇Journa...
  • 1篇激光杂志
  • 1篇四川师范大学...
  • 1篇压电与声光
  • 1篇重庆大学学报...
  • 1篇中国光学
  • 1篇二〇〇八年高...
  • 1篇中国光学学会...
  • 1篇中国硅酸盐学...

年份

  • 5篇2014
  • 4篇2013
  • 4篇2012
  • 6篇2011
  • 2篇2010
  • 2篇2009
  • 2篇2008
  • 2篇2006
  • 2篇2005
  • 7篇2004
  • 3篇2003
  • 1篇2002
  • 1篇2000
41 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
ZrO_2介质膜的光热吸收研究
2004年
报道了用直流反应溅射法在低氧分压条件下(6.0×10-3~8.0×10-3Pa)沉积ZrO2介质膜的制备工艺,XRD分析表明该条件下制备的ZrO2介质膜结构均为非晶态,表面光热技术测量其在10.6μm波长下的吸收系数为1.223×10-3~1.285×10-3cm-1,且吸收率随氧分压的升高而降低.这表明,表面光热测量是一种既简单又有很高灵敏度的实时检测技术,而在直流反应溅射法中氧分压是一个非常敏感的工艺参数,并显著地影响着膜层的光吸收.
陈松林赵北君朱世富马平何知宇
关键词:ZRO2
液相合成硒化镉(CdSe)热力学研究被引量:1
2004年
本文报道了对硒化镉 (CdSe)合成反应的反应焓变 ,反应熵变 ,Gibbs自由能以及配料的化学计量的分析计算 ,从热力学角度论证了在中温 (~ 6 5 0℃ )下直接液相合成高纯CdSe的可能性。按照理论分析结果选择技术参量进行了CdSe液相合成实验 ,并采用X射线粉末衍射谱法对合成产物进行了分析 。
何知宇赵北君朱世富王瑞林陈松林李艺星罗政纯任锐
关键词:硒化镉CDSE热力学吸热反应多晶材料
渐变折射率Ta_2O_5/SiO_2薄膜多脉冲激光损伤特性被引量:3
2014年
采用离子束溅射(IBS)的方式,制备了1064nm高反射Ta2O5/SiO2渐变折射率光学薄膜。对其光学性能和在基频多脉冲下抗损伤性能进行了分析。通过渐变折射率的设计方式,很好地抑制了边带波纹,增加了1064nm反射率。通过对损伤阈值的分析发现,随着脉冲个数的增加,损伤阈值下降明显;但是在20个脉冲数后,损伤阈值(维持在22J/cm2左右)几乎保持不变直到100个脉冲数。通过Leica显微镜对损伤形貌的观察,发现损伤诱因是薄膜表面的节瘤缺陷。通过扫描电镜(SEM)以及聚集离子束(FIB)对薄膜表面以及断面的观察,证实了薄膜的损伤起源于薄膜表面的节瘤缺陷。进一步研究得出,渐变折射率薄膜在基频光单脉冲下损伤主要是由初始节瘤缺陷引起的,在后续多脉冲激光辐照下初始节瘤缺陷引起烧蚀坑的面积扩大扫过薄膜上的其他节瘤缺陷,引起了其他节瘤缺陷的喷射使损伤加剧,造成损伤的"累积效应"。
蒲云体陈松林乔曌刘浩王刚胡江川马平
关键词:离子束溅射多脉冲损伤阈值
HfO_2/SiO_2双色膜在1064nm和532nm激光辐照下的损伤特性被引量:3
2011年
采用电子束蒸发的方式,制备了有氧化硅内保护层和没有氧化硅内保护层的1 064 nm高透过、532 nm高反射的HfO2/SiO2双色膜,测量了它们的光学性能以及在基频和倍频激光辐照下的抗损伤性能。结果表明:氧化硅内保护层提高了双色膜在基频光辐照下的损伤阈值,对双色膜在倍频光辐照下的损伤阈值无明显影响。通过观察薄膜的损伤形貌,分析破斑的深度信息结合驻波场分布,对两类双色膜在基频光和倍频光下的损伤机制做了初步探讨。分析表明:氧化硅内保护层提高了膜基界面的抗损伤性能,从而提高了双色膜在基频光下的损伤阈值。
潘峰陈松林李海波马平王震
关键词:激光损伤
激光损伤He-Ne散射探测法研究
激光损伤判定有显微镜观测法、扫描电镜观察法、等离子体闪光法、光热偏转法、散射光检测法等。显微镜和扫描电镜法判定损伤具有直观准确的优点,但价格昂贵,比较费时,不能在线检测, 等离子闪光法人为和环境因素对结果影响较大。而He...
胡建平陈松林马平许乔
文献传递
原子层沉积薄膜之激光损伤性能分析
2011年
采用目前尚在国内鲜有报道的原子层沉积技术在熔石英和BK7玻璃基片上镀制了TiO2单层膜、Al2O3单层膜以及TiO2/Al2O3增透膜,沉积温度在110℃和280℃。利用X射线粉末衍射仪对膜层微观结构进行了分析研究,并在激光损伤平台上进行了抗激光损伤阈值的测量。采用Nomarski微分干涉差显微镜和原子力显微镜对激光损伤后的形貌进行了观察分析。结果表明,采用原子层沉积技术镀制的膜层厚度均匀性较好,本实验中采用50mm样品的膜层厚度均匀性优于99%;光谱增透效果显著,在1064nm处的透过率大于99.8%;沉积温度影响着膜层的沉积速率、膜层微观结构,进而影响着膜层的抗激光损伤阈值。其中,熔石英和BK7基片上TiO2/Al2O3薄膜激光损伤阈值在110℃时分别为6.73±0.47J/cm2和6.5±0.46J/cm2,明显高于其在280℃时的损伤阈值。
卫耀伟陈松林刘志超马平许乔
关键词:薄膜光学
航空复合涂层材料的激光烧蚀效应被引量:3
2014年
针对航空激光防护技术研究需求,开展了复合涂层材料的激光烧蚀效应综合研究。采用圆棒固体激光器作为测试光源,搭建了具有在线温度测量功能的烧蚀实验平台。在此基础上,对聚碳硅烷(PCS)涂层样品开展了激光烧蚀实验。通过对烧蚀区域形貌和温度数据的对比分析,证明了PCS复合材料具备显著的激光防护作用。同时,从理论方面对涂层的激光防护机理进行了研究,基于材料热传导方程,建立了激光烧蚀过程的热力学模型,对温度场变化进行了模拟。研究结果表明,在复合涂层的保护下,kW级激光仅产生百℃的金属基底升温。
李静郑轶罗晋陈松林关振威梁璐
关键词:激光烧蚀激光防护航空材料固体激光
TiO_2/Al_2O_3薄膜的原子层沉积和光学性能分析被引量:10
2011年
采用原子层沉积技术在熔石英和BK7玻璃基片上镀制了TiO2/Al2O3薄膜,沉积温度分别为110℃和280℃。利用X射线粉末衍射仪对膜层微观结构进行了分析研究,并在激光损伤平台上进行了抗激光损伤阈值测量。采用Nomarski微分干涉差显微镜和原子力显微镜对激光损伤后的形貌进行了观察分析。结果表明,采用原子层沉积技术镀制的TiO2/Al2O3增透膜的厚度均匀性较好,Φ50 mm样品的膜层厚度均匀性优于99%;光谱增透效果显著,在1 064 nm处的透过率>99.8%;在熔石英和BK7基片上,TiO2/Al2O3薄膜在110℃时的激光损伤阈值分别为(6.73±0.47)J/cm2和(6.5±0.46)J/cm2,明显高于在280℃时的损伤阈值。
卫耀伟刘志超陈松林
关键词:薄膜光学原子层沉积激光损伤增透膜
YAG晶体功能薄膜制备
2012年
采用电子束蒸发方法制备Nd:YAG晶体板条功能薄膜,理论设计并镀制具有倏逝膜功能的宽带泵浦光减反膜(808 nm HT)和具有谐波功能的双色膜(808 nm HR,1 064 nm HT)。实验表明:大角度使用条件下的双色膜通带波纹加剧是导致其光谱性能下降的主要原因,同时比较了不同工艺下膜层应力对薄膜开裂的影响,使用应力缓冲层技术抑制了薄膜老化过程中裂纹的形成和扩展。激光损伤测试结果表明双色膜的单脉冲损伤阈值大于5.6 J/cm2(1 064 nm,5 ns,1-on-1),连续激光损伤阈值大于500 kW/cm2(1 064 nm),原子力显微镜分析证实初始损伤源主要来自膜层及其界面的点状吸收缺陷。
陈松林马平刘志超王震潘峰吴倩罗晋
关键词:薄膜光学薄膜应力YAG晶体激光损伤
带探测系统的激光预处理装置
本实用新型公开了一种带探测系统的激光预处理装置,属于光学技术领域。它包括激光预处理系统,由预处理光源、光源开关、能量调节器、聚焦器、分光光楔及位于其出射端的能量探测器构成;还包括探测系统,其包括沿被测样品入射线方向设置的...
马平刘志超郑轶陈松林潘峰
文献传递
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