许俊华
- 作品数：191 被引量：379H指数：13
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- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术理学化学工程更多>>
- 一种ZrVN纳米复合膜及其制备方法
- 本发明公开了一种ZrVN纳米复合膜及其制备方法，采用双靶射频反应溅射法以不锈钢为基底层制备得到，ZrVN纳米复合膜厚度为1～3微米，V≤25.8at.％时，ZrVN纳米复合膜的硬度≥29GPa，当V≥37.4at.％时，...
- 喻利花许俊华马冰洋
- 文献传递
- 磁控溅射制备TiCN复合膜的微结构与性能被引量：18
- 2012年
- 通过磁控溅射技术制备一系列不同石墨靶功率的TiCN复合膜。分别利用X射线衍射仪、纳米压痕仪和高温摩擦磨损仪研究薄膜的微观结构、力学性能及室温和高温摩擦磨损性能。结果表明：随着石墨靶功率的增加,TiCN（111）峰逐渐宽化,晶粒尺寸逐渐减小,薄膜最后接近非晶结构。薄膜的硬度与弹性模量呈先增大后减小的趋势,在石墨靶功率为90 W时薄膜的硬度和弹性模量最大,分别为28.2和230 GPa。随着石墨靶功率的增加,室温下TiCN复合膜的摩擦因数逐渐减小,TiCN复合膜的耐磨性能明显提高。当环境温度升高到300~500℃时,TiCN薄膜的摩擦因数明显增大。TiCN复合膜的摩擦磨损性能受薄膜微观结构、空气中的水蒸气和氧气及环境温度等一系列因素的影响。
- 许俊华曹峻喻利花
- 关键词：磁控溅射微结构
- 高精度深小孔加工工艺
- 本发明为在被加工材料基体上进行预加工,在设定加工深小孔的位置上先加工预置孔,然后在孔内放入预制的冷拔不锈钢细长管,管的外壁周围放上焊料,钎焊后即可获得高精度的深小孔。本发明解决了孔径在0.10mm—1.50mm范围内,孔...
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- 文献传递
- TaCN硬质纳米结构薄膜及制备方法
- 本发明发明公开了一种TaCN硬质纳米结构薄膜，其特征在是采用双靶共焦射频反应溅射法沉积在硬质合金或陶瓷基体上的，薄膜分子式表示为Ta(C，N)，厚度在1-3μm。沉积时，真空度优于3.0×10<Sup>-3</Sup>P...
- 喻利花许俊华黄婷
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- 碳含量对WCN纳米复合薄膜结构和性能的影响被引量：3
- 2013年
- 采用多靶反应磁控溅射技术在不同碳靶功率(碳靶功率与碳含量成正比)下制备了WCN纳米复合膜,采用X射线衍射仪、扫描电镜、纳米压痕仪和高温摩擦磨损仪等对薄膜结构和性能进行表征,研究了碳含量对WCN复合膜的影响。结果表明:随碳靶功率即碳含量的增加,薄膜的物相在原单一WN相的基础上,出现了新相WCN,并且晶格常数不断增大,同时薄膜的硬度和弹性模量先升后降,在碳靶功率为120W时,两者均达到最大值,分别为36.70,409.16GPa;复合膜的常温摩擦因数和磨损率随碳含量的增加呈现先减小后增大趋势,高温时薄膜的摩擦因数高于常温的;薄膜的主要磨损机理是磨粒磨损。
- 王蕊喻利花许俊华
- 关键词：反应磁控溅射微观结构显微硬度
- WAlN硬质纳米结构薄膜及制备方法
- 本文发明公开了一种WAlN硬质纳米结构薄膜及其制备方法，其特征在于是该薄膜厚度1‑3um，含有W、Al、N元素，其中W含量为60at.％‑100at.％且不等于100at.％，Al含量为0at.％‑40at.％且不等于0...
- 喻利花许俊华赵洪舰
- 文献传递
- 基于陶瓷基片表面制备Ti-Al-Ru-N纳米硬质薄膜的方法
- 本发明公开了基于陶瓷基片表面制备Ti‑Al‑Ru‑N纳米硬质薄膜的方法，本发明的Ti‑Al‑Ru‑N硬质纳米结构薄膜由Ti‑Al‑Ru‑N固溶体及弥散分布的单质Ru构成。采用高纯Ti靶，Al靶和Ru靶共焦射频反应溅射，沉...
- 鞠洪博贾沛许俊华喻利花
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- 一种TaMgN复合涂层及其制备方法和应用
- 本发明公开了一种TaMgN复合涂层及其制备方法和应用，所述涂层以纯Ta为过渡层，以高纯的Ta靶和Mg靶共溅射形成复合涂层；所述复合涂层的厚度为1～2μm，Mg元素的含量为0at.％<Mg≤24.59at.％。本发明...
- 武凡靖喻利花许俊华
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- Al含量对(V,W,Al)N复合膜微观组织和抗氧化性能的影响
- 2014年
- 采用多靶磁控溅射仪,制备不同Al含量的(V,W,Al)N复合膜。利用X射线衍射仪、纳米压痕仪和热处理炉及热失重分析仪对(V,W,Al)N复合膜的微观组织、力学性能及高温抗氧化性能进行表征。结果表明:当Al含量低于14.86 at%时,(V,W,Al)N复合膜存在面心立方结构(V,W)N、WN相及六方结构V2N相,当Al含量高于14.86 at%时,薄膜存在面心立方结构(V,W)N、WN相及六方结构V2N和AlN相;随Al原子百分含量的增加,复合膜的硬度呈先增大后减小的趋势,当Al原子百分含量达到14.86 at%时,其硬度最大值为35.5 GPa;随Al含量的增加,(V,W,Al)N复合膜抗氧化性能提高了至少200℃。讨论Al含量对(V,W,Al)N复合膜性能的影响。
- 喻利花王杰许俊华
- Ti-Si-N复合膜的微结构及性能研究被引量：16
- 2008年
- 为研究Si的加入及含量对薄膜结构和性能的影响，采用磁控反应溅射法制备了一系列不同Si含量的n—Si—N复合膜，采用XRD、微力学探针和SEM研究了薄膜的微结构、力学性能和抗氧化性。结果表明：随着Si含量的增加，薄膜晶粒尺寸减小，硬度升高，抗氧化性能提高。Si含量为4％-12％（原子数分数）时，晶粒尺寸随含量增加而急剧下降；当Si含量超过9％时，薄膜硬度处于峰值区；Si含量在7％以上时，薄膜具有较高的抗氧化能力。探讨了n-Si—N复合膜硬度升高和抗氧化能力提高的机理：
- 农尚斌喻利花许俊华
- 关键词：磁控溅射微结构
