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梁高峰

作品数:7 被引量:6H指数:1
供职机构:电子科技大学更多>>
发文基金:国家重点基础研究发展计划国家高技术研究发展计划国际科技合作与交流专项项目更多>>
相关领域:电子电信理学更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 3篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 3篇电子电信
  • 2篇理学

主题

  • 4篇等离子体
  • 4篇表面等离子体
  • 3篇亚波长
  • 3篇激光
  • 3篇激光器
  • 3篇波长
  • 2篇纳米
  • 2篇纳米激光器
  • 2篇光刻
  • 2篇波导
  • 2篇超分辨
  • 1篇单兵
  • 1篇单兵装备
  • 1篇倒立
  • 1篇等离子体波
  • 1篇等离子体波导
  • 1篇等离子体激光...
  • 1篇等离子体激元
  • 1篇多层膜
  • 1篇多层膜结构

机构

  • 7篇电子科技大学
  • 1篇中国科学院

作者

  • 7篇梁高峰
  • 6篇赵青
  • 4篇黄小平
  • 4篇焦蛟
  • 2篇黄洪
  • 2篇林恩
  • 1篇王长涛
  • 1篇罗先刚
  • 1篇赵怿哲
  • 1篇赵泽宇
  • 1篇陈欣
  • 1篇薄勇
  • 1篇陈涛

传媒

  • 2篇物理学报
  • 1篇光电工程

年份

  • 4篇2017
  • 2篇2013
  • 1篇2012
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
基于多层膜结构的亚波长光栅研究被引量:1
2012年
利用表面等离子体共振效应理论及金属-介质复合膜的特殊纳米光学效应对平面多层膜超分辨光刻技术进行了研究.在曝光光源为365 nm的情况下,实现周期230 nm,线宽100 nm的超分辨光刻成像.讨论了均匀金属-介质多层膜的结构参数选择,并通过数值仿真得到有效的光强度和对比度,然后用等离子体纳米光刻进行试验验证,通过最优化选择,最终得到了亚波长结构多层膜的大区域范围超分辨成像.
梁高峰赵青赵青陈欣王长涛赵泽宇
关键词:表面等离子体超分辨成像纳米光刻技术
一种空气中取水及净化装置
本发明属于淡水获取技术类领域,具体提供一种空气中取水及净化装置,用以克服现有淡水获取及净化设备结构复杂、笨重、成本高昂等缺陷。本发明包括取水结构和净化结构,所述净化结构为一个储水壶结构,其上端设置有进水口、中部设置有过滤...
赵青梁高峰张雷军焦蛟
文献传递
太阳光泵浦半导体纳米线激光器
太阳光泵浦半导体纳米线激光器,包括光学汇聚系统、反射透射镜组和半导体纳米线激光器件,所述光学汇聚系统由第一三维抛物面反射镜、第二三维抛物面反射镜和二维抛物面反射镜组成;所述第一三维抛物面反射镜和第二三维抛物面反射镜反射面...
赵青梁高峰黄小平黄洪薄勇赵怿哲
文献传递
一种亚波长结构平凸微透镜阵列的制作工艺
本发明属于微纳光学以及光束整形领域,具体为一种亚波长结构平凸微透镜阵列的制作工艺。本发明基于光刻胶热回流法改进,通过对正性光刻胶材料曝光、显影、刻蚀以及精确计算工艺时长来实现对微透镜形貌的有效控制,在基片上制作出曲率半径...
赵青林恩黄小平焦蛟梁高峰童继生
文献传递
纳米等离子体激光器研究进展被引量:1
2017年
半导体激光器在生物技术、信息存储、光子医学诊疗等方面得到了广泛应用。随着纳米技术和纳米光子学的发展,紧凑微型化激光器应用前景引人关注。当激光器谐振腔尺寸减小到发射波长时,电磁谐振腔中将产生更为有趣的物理效应。因此,在发展低维、低泵浦阈值的超快相干光源,以及纳米光电集成和等离激元光路时,减小半导体激光器的三维尺寸至关重要。在本综述中,首先介绍了纳米等离子体激光器中的谐振腔模式增益和限制因子的总体理论,并综述了金属-绝缘材料-半导体纳米(MIS)结构或其它相关金属覆盖半导体结构的纳米等离子体激光器各方面的总体研究进展。特别地,对基于MIS结构的等离子体谐振腔实现纳米等离子体激光器三维衍射极限的突破,进行了详细的介绍。本文也介绍并展望了纳米等离子体激光器的技术挑战和发展趋势,为纳米激光器进一步研究提供参考。
赵青黄小平林恩焦蛟梁高峰陈涛
关键词:等离子体激光器表面等离子体激元微纳加工
深亚波长约束的表面等离子体纳米激光器研究被引量:4
2013年
本文提出了一种新颖的基于半导体纳米线/空气间隙/金属薄膜复合结构的表面等离子体纳米激光器,并给出了理论研究和仿真分析.这种结构通过金属界面的表面等离子体模式与高增益介质纳米线波导模式耦合,从而使场增强效应得到显著提高.同时通过数值仿真研究,得到该混合波导结构的模式特性和增益阈值随空气槽宽度、纳米线半径的变化规律,表明它可以实现对输出光场的深亚波长约束,同时保持低损耗传输和高场强限制能力.通过最优化选择,最终得到纳米等离子体激光器的最优结构尺寸.
黄洪赵青焦蛟梁高峰黄小平
关键词:表面等离子体纳米激光器
基于表面等离子体的超分辨光刻理论与实验研究
光刻技术是集成电路的一个关键技术,其主要目的是将掩模板上的图形复制到硅片上。整个芯片工艺所能达到的最小尺寸就是由光刻技术决定的。由于受光学衍射极限的约束,传统光刻的分辨力只能达到半个波长水平。通常情况下,人们通过减小工作...
梁高峰
关键词:表面等离子体掩模板
共1页<1>
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