李芹
- 作品数：6 被引量：11H指数：3
- 供职机构：天津工业大学理学院更多>>
- 发文基金：天津市自然科学基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术更多>>
- 硅基AAO模板内电化学沉积ZnO纳米线及其光电性能研究被引量：4
- 2012年
- 本文利用二次阳极氧化法在p型低阻〈100〉晶向的硅衬底上制备了AAO/Si,以硅基AAO为辅助模板,采用电化学沉积的方法以Zn(NO3).6H2O和HMT(C6H12N4)为原料,在80℃的水浴槽中制备了ZnO纳米线结构。采用SEM,XRD和拉曼光谱等手段对ZnO/AAO/Si复合结构进行表征。SEM图表明ZnO纳米线已成功组装到AAO/Si模板里,直径约45 nm,长度约为600 nm。XRD和拉曼光谱表明ZnO具有六角纤锌矿多晶结构。光致发光(PL)谱图表明ZnO/AAO/Si复合结构在565 nm附近有较宽黄绿发射峰,在395 nm附近有微弱的紫外发射峰。场发射测试结果表明,ZnO纳米线的场增强因子的β值为2490,场增强因子很高,具有广泛的应用前景。
- 李芹张海明李菁杨岩缪玲玲
- 关键词：电化学ZNO场发射
- 超声喷雾热解法制备ZnO:Eu薄膜被引量：4
- 2011年
- 以醋酸锌（Zn（CH3COO）2）、氯化铕（EuCl3）水溶液为前驱体,采用超声喷雾热解（USP）方法在ITO导电玻璃衬底上沉积Eu掺杂ZnO（ZnO：Eu）薄膜。通过扫描电镜（SEM）、X射线衍射（XRD）和光致发光（PL）谱对ZnO：Eu薄膜的形貌、结构和光学性质进行了研究。SEM测试结果表明,超声喷雾热解法制备的ZnO：Eu薄膜为致密的纳米颗粒薄膜,ZnO：Eu晶粒尺寸约在200~250 nm。XRD图谱表明,ZnO：Eu薄膜具有很好的六角纤锌矿结构,且在2θ=47.28°处出现Eu2O3的衍射峰。激发光谱表明,ZnO：Eu薄膜在280、373和393 nm处有较强的紫外吸收。PL谱表明,当用280 nm激发光激发时,ZnO：Eu薄膜在613 nm处具有较强的红光发射。
- 李菁张海明李芹高波朱彦君
- 煅烧温度和恒温时间对ZnO/AAO/Si组装体系的影响
- 2012年
- 以AAO/Si为模板,采用化学气相沉积(CVD)的方法在不同温度下,通过煅烧Zn粉和C粉的混合物制备ZnO/AAO/Si组装体系,并对其结构和性质进行了研究。扫描电镜(SEM)结果表明:随着煅烧温度的升高,AAO表面的孔洞逐渐被封堵,当温度达到900℃时,在AAO的表面出现了一层ZnO薄膜。X射线衍射(XRD)结果显示,700℃时在XRD图谱上观看到六角纤锌矿的ZnO的衍射峰,并且随着温度的升高,ZnO的衍射峰逐渐增强,当温度升至800和900℃时出现了ZnAl2O4的衍射峰。因此,化学气相沉积制备组装体系时的最适温为700℃。在700℃时煅烧不同恒温时间制备的ZnO/AAO/Si组装体系SEM图显示,随着恒温时间的延长,孔的封闭效应逐渐明显。
- 李菁张海明杨岩缪玲玲高波李芹
- 关键词：氧化锌化学气相沉积煅烧温度
- Al膜平整度对硅基AAO有序度的影响
- 2011年
- 利用真空电子束蒸发技术,通过改变Al的蒸发速率在P型〈1 0 0〉晶向的单晶硅片上制备了两种不同平整度的Al膜,在草酸中对它们分别进行一次阳极氧化,研究Al膜平整度对硅基AAO(多孔硅基氧化铝)有序度的影响.结果表明,硅基AAO的有序度对Al膜的平整度有很大的依赖性,硅基Al膜的平整度越高,所获得的硅基AAO的有序度就越好.另外,对平整度较差的Al膜进行二次阳极氧化可以显著地改善硅基AAO的有序度.
- 李芹张海明胡国锋高波朱彦君李菁
- 关键词：平整度有序度
- 超声喷雾热解法制备不同掺杂浓度ZnO∶Eu薄膜被引量：3
- 2012年
- 以醋酸锌,氯化铕的混合水溶液为前驱体,采用超声喷雾热解法在ITO导电玻璃衬底上制备了掺杂不同Eu浓度的ZnO∶Eu薄膜。通过扫描电镜(SEM),X射线衍射(XRD)和光致发光(PL)谱对ZnO∶Eu薄膜的形貌,结构和光学性质进行了研究。通过对比掺杂不同Eu浓度的ZnO∶Eu薄膜的结构和光学性能,可知在掺杂浓度为6mol%时薄膜的性能最好。SEM照片表明制备的ZnO∶Eu薄膜为致密的纳米颗粒薄膜,ZnO∶Eu晶粒尺寸大约在200～250 nm。XRD图谱表明当掺杂浓度为6mol%时,ZnO∶Eu薄膜具有很好的六角纤锌矿结构,且在2θ=50.47°处出现Eu2O3的衍射峰。激发光谱测试表明ZnO∶Eu薄膜在280 nm,373 nm,393 nm处有较强的紫外吸收。当用280 nm激发光激发时ZnO∶Eu薄膜在613 nm处具有较强的红光发射。
- 杨岩张海明李菁缪玲玲李芹
- 关键词：光学性能
- Si基AAO模板法制备尖晶石型ZnAl_2O_4纳米结构
- 2011年
- 以Si基AAO为模板,以Zn和C粉作蒸发源,通过化学气相沉积法,在不同的温度下反应得到了不同的ZnAl2O4纳米结构。对样品的形貌和成分结构进行了分析。扫描电镜结果显示,在800℃获得的ZnAl2O4样品表面仍保留着AAO模板的孔洞结构。而XRD结果表明,在700,800,900℃下获得的样品都出现了ZnAl2 O4衍射峰,说明ZnAl2 O4已经成功制备。结合SEM图和XRD图可以看出,800℃是制备尖晶石型光催化ZnAl2O4纳米结构的最合适温度。
- 高波张海明朱彦君李芹李菁
- 关键词：化学气相沉积
