吕磊
- 作品数：9 被引量：6H指数：1
- 供职机构：曲阜师范大学物理工程学院更多>>
- 发文基金：山东省自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信机械工程更多>>
- ZnS/PS复合体系的白光发射
- 本文用电化学方法制备了一定孔隙率的多孔硅(PS)样品,然后用脉冲激光沉积(PLD)法以多孔硅为衬底生长一层ZnS薄膜.ZnS的带隙较宽,对可见光是透明的,用适当波长的光激发,PS发射的橙红光可以透过ZnS薄膜,与ZnS的...
- 王彩凤李清山齐红霞赵波吕磊张立春
- 关键词：光致发光白光发射脉冲激光沉积ZNS薄膜多孔硅
- 文献传递
- 铜/多孔铝纳米有序阵列的近红外偏振特性研究被引量：1
- 2006年
- 利用二次阳极氧化法在稀硫酸溶液中制备了不同孔径的多孔铝模板,并用交流电化学沉积的方法在多孔铝中合成了铜纳米线。测量了铜/多孔铝复合膜的透射光谱及偏振光谱。实验结果表明,这种含铜纳米线多孔铝膜微偏振器件在近红外光区有较好的透射率和消光比,且随着铜纳米线直径的增加,样品的透射率下降而其消光比却明显提高。通过分析得出,优化模板参数可制备出高效率的铜/多孔铝微偏振器。这种微偏振器件制备方法简单、效率高、造价低,在光电集成领域有着广泛的应用前景。
- 张立春李清山郑萌萌吴福全吕磊王彩凤齐红霞
- 关键词：多孔铝消光比透射率
- 室温下脉冲激光沉积制备高取向度AlN薄膜被引量：3
- 2007年
- 用脉冲激光沉积（PLD）方法，在p-Si（100）衬底上、室温下和不同N2氛围中制备了高度取向的A1N薄膜，并利用X射线衍射（XRD）仪、傅立叶变换红外（FTIR）光谱仪和扫描电子显微镜（SEM）对样品的特征进行了研究。结果表明，在从5×10^-6～5．0Pa的N2气压范围内，制备的薄膜都呈现h＜100〉晶向，并且随着气压的升高，样品的结晶度有明显的提高。另外，随着N2浓度的增大，Al-N键的结合度增强，AlN晶粒的尺寸增大，在样品表面出现杂散晶粒，薄膜的粗糙度增大。
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- 关键词：ALN薄膜室温
- 室温下脉冲激光沉积制备高取向度氮化铝薄膜的研究
- 用脉冲激光沉积(PLD)方法,在p-Si(100)衬底上室温下不同氮气(N2)氛围中制备了高度取向的氮化铝(AlN)薄膜,并利用X射线衍射仪、傅立叶变换红外光谱仪和扫描电子显微镜对样品的特征进行了研究.结果表明,在从真空...
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- 关键词：氮化铝薄膜脉冲激光沉积
- 文献传递
- 退火对ZnS/PS复合体系光致发光特性的影响被引量：1
- 2007年
- 用脉冲激光沉积（PLD）技术以多孔硅（PS）为衬底生长了ZnS薄膜,分别测量了ZnS、PS以及ZnS/PS复合体系在室温下的光致发光（PL）光谱.结果发现,ZnS/PS复合体系的PL光谱中PS的发光峰位相对于新制备的PS有所蓝移.把该ZnS/PS样品分成三块,在真空400 ℃分别退火10,20,30 min,研究不同退火时间对ZnS/PS复合体系光致发光特性的影响.发现退火后样品的PL光谱中都出现了一个新的绿色发光带,归结为ZnS的缺陷中心发光.随着退火时间的延长,PS的发光强度逐渐降低且峰位红移.把ZnS的蓝、绿光与PS的红光相叠加,整个ZnS/PS复合体系在可见光区450～700 nm形成一个较宽的光致发光谱带,呈现较强的白光发射.
- 王彩凤李清山张立春吕磊齐红霞
- 关键词：光致发光白光退火ZNS薄膜多孔硅
- 脉冲激光沉积制备AlN薄膜的研究
- 系统研究了利用脉冲激光沉积技术制备氮化铝(A1N)薄膜的工艺，通过优化生长参数，制备了具有较高质量的A1N薄膜，并对部分样品进行了后退火处理。用x射线衍射仪，傅立叶变换红外光谱仪和扫描电子显微镜等仪器检测了样品的结晶度，...
- 吕磊
- 关键词：ALN薄膜脉冲激光沉积衬底温度退火
- 文献传递
- 含分枝铜纳米线多孔铝膜的偏振特性被引量：1
- 2007年
- 利用二次阳极氧化法制备了具有分枝结构的多孔铝(PAA)模板,并以交流电化学沉积的方法在该模板中合成了分枝状的铜纳米线。用SEM观察样品的形貌结构,用分光光度计测量了样品的透射光谱和偏振光谱。实验结果表明,含分枝状铜纳米线结构的多孔铝膜在近红外光区具有较高的透射率,且得到了14～22 dB的消光比。这种微偏振器件制备方法简单、效率高、造价低,在光电集成领域有着广泛的应用前景。
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- 关键词：多孔铝消光比透射率
- 脉冲激光沉积制备AIN薄膜的研究
- 系统研究了利用脉冲激光沉积技术制备氮化铝(AlN)薄膜的工艺，通过优化生长参数，制备了具有较高质量的AlN薄膜，并对部分样品进行了后退火处理。用x射线衍射仪，傅立叶变换红外光谱仪和扫描电子显微镜等仪器检测了样品的结晶度，...
- 吕磊
- 关键词：ALN薄膜脉冲激光沉积衬底温度退火工艺
- 文献传递
- ZnS/PS复合体系的白光发射
- 2007年
- 用电化学方法制备了一定孔隙率的多孔硅(PS)样品,然后用脉冲激光沉积(PLD)法以多孔硅为衬底生长一层ZnS薄膜.ZnS的带隙较宽,对可见光是透明的,用适当波长的光激发,PS发射的橙红光可以透过ZnS薄膜,与ZnS的蓝绿光相叠加,得到了可见光区较宽的光致发光带,呈现较强的白光发射.用X射线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)表征了ZnS薄膜的结构性质.结果表明,沉积的ZnS薄膜结晶质量较差,薄膜表面起伏不平,这是由于衬底PS的表面不平整所致.
- 王彩凤李清山齐红霞赵波吕磊张立春
- 关键词：光致发光白光发射脉冲激光沉积ZNS薄膜多孔硅
