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河北省教育考试院信息办公室

作品数：1 被引量：4H指数：1
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合作机构

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇电弧离子镀
  • 1篇正交
  • 1篇正交设计
  • 1篇离子镀
  • 1篇脉冲偏压
  • 1篇TIN薄膜

机构

  • 1篇邢台学院
  • 1篇河北省教育考...

作者

  • 1篇赵喜梅
  • 1篇王光平

传媒

  • 1篇河北师范大学...

年份

  • 1篇2006
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
电弧离子镀技术中脉冲偏压对TiN薄膜的影响被引量：4
2006年
用正交设计实验研究了电弧离子镀技术中采用脉冲偏压以后各种参数对沉积TiN薄膜性能的影响.研究表明,与直流偏压相比,直流叠加脉冲偏压能更好地细化颗粒,降低薄膜的表面粗糙度,提高沉积速率.对实验结果的方差分析显示:气氛和频率是降低表面粗糙度、提高沉积速率的主要因素.
赵喜梅王光平
关键词：电弧离子镀脉冲偏压正交设计
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共1页<1>
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