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株式会社日立国际电气

作品数：818 被引量：0H指数：0
相关机构：乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司佳能安内华股份有限公司株式会社日立高新技术更多>>
相关领域：电子电信自动化与计算机技术金属学及工艺文化科学更多>>

合作机构

文献类型

  • 818篇中文专利

领域

  • 59篇电子电信
  • 9篇自动化与计算...
  • 6篇金属学及工艺
  • 4篇文化科学
  • 2篇经济管理
  • 1篇化学工程
  • 1篇医药卫生

主题

  • 355篇衬底
  • 338篇半导体
  • 235篇半导体器件
  • 110篇信号
  • 89篇半导体装置
  • 87篇基板
  • 79篇气体
  • 65篇排气
  • 56篇介质
  • 54篇通信
  • 52篇无线
  • 52篇记录介质
  • 48篇放大器
  • 41篇电平
  • 40篇反应气体
  • 38篇通信系统
  • 36篇摄像
  • 31篇膜厚
  • 27篇调制
  • 24篇支承

机构

  • 818篇株式会社日立...
  • 4篇乔治洛德方法...
  • 3篇株式会社爱发...
  • 3篇独立行政法人...
  • 3篇索尼株式会社
  • 3篇东京毅力科创...
  • 3篇株式会社日立...
  • 3篇佳能安内华股...
  • 2篇索尼
  • 2篇松下电器产业...
  • 2篇株式会社国际...
  • 2篇株式会社东芝
  • 2篇罗姆股份有限...
  • 2篇东北电力株式...
  • 1篇大金工业株式...
  • 1篇国际电气高丽...
  • 1篇关东电化工业...
  • 1篇株式会社鹰山
  • 1篇八木天线株式...
  • 1篇株式会社国际...

年份

  • 1篇2019
  • 113篇2018
  • 85篇2017
  • 92篇2016
  • 59篇2015
  • 40篇2014
  • 37篇2013
  • 59篇2012
  • 47篇2011
  • 42篇2010
  • 55篇2009
  • 35篇2008
  • 34篇2007
  • 53篇2006
  • 31篇2005
  • 13篇2004
  • 18篇2003
  • 2篇2002
  • 2篇2001
共 818 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
电视摄像机和视频装置间的信号传输方法及使用该方法的装置
本发明提供一种电视摄像机和视频装置间的信号传输方法及装置。在从摄像机侧对并行的视频信号进行时分多路复用，并将其作为串行信号传送至视频装置侧时，从摄像机向视频装置侧的控制信号也合并时分多路复用。另外，也可以将从视频装置侧向...
榎本一仁藤村信朗吉原和久上野克将
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用于多波束天线的一次幅射器
一种接收来自多个卫星的微波的多波束天线，当经转动机构17转动变频器14时，在0到20度范围内调节两个一次辐射器15a和15b相对于与地面平行的轴的设置倾角。可在0到20度的范围调节由一次轴射器15a和15b的探测器产生的...
今泉博晶坂内功治萩原修二樋口博文真锅良太郎
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半导体装置的制造方法及衬底处理装置
本发明的课题在于例如在500℃以上700℃以下的低温下，在整个晶片层叠方向控制原子氧O的浓度，且在整个晶片层叠方向使氧化膜的膜厚分布均等化。本发明提供一种半导体装置的制造方法及衬底处理装置，所述半导体装置的制造方法包括如...
佐佐木隆史福田正直南政克女川靖浩
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衬底处理装置用进气盖
1.本外观设计产品的名称为衬底处理装置用进气盖。;2.本外观设计产品在用于处理晶片的衬底处理装置中，设置在进气部的内侧壁面上来使用，覆盖进气部的内侧壁面以抑制在进气部的金属部件上附着副产物。;3.本外观设计产品的设计要点...
山崎惠信森田慎也高木康祐
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衬底处理装置及半导体器件的制造方法
实现抑制形成特性不连续的膜、成品率高的衬底处理装置和半导体器件的制造方法。衬底处理装置包括：处理室；衬底载置台；使衬底载置台旋转的旋转部；多个原料气体供给构造；原料气体供给部；原料气体排气构造；分别与原料气体排气构造连接...
板谷秀治
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荧光体检测方法及荧光体检测装置
本发明提供一种荧光体检测方法及荧光体检测装置，在对涂在等离子显示器等玻璃基板上的荧光体带的涂敷不匀的检测中，存在一些问题，例如由于受带状涂敷的荧光体的非发光部分的影响而发生干扰条纹现象，以及由于为使荧光体发光带发光而使用...
渡贯明男
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无线通信装置
无线通信装置被设为发送无线信号的发送期间与接收无线信号的接收期间不重叠，具备：发送部，其包括正交调制部和发送功率放大部，正交调制部对IQ调制而得的调制信号进行正交调制，发送功率放大部对所述正交调制而得的信号进行功率放大；...
堂坂淳也
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半导体器件的制造方法及衬底处理装置
一种半导体器件的制造方法及衬底处理装置，提高在衬底上形成的膜的衬底面内均匀性，包括如下工序：通过将以不同时的方式进行对处理室内的衬底供给原料气体的工序、除去处理室内的原料气体的工序、对处理室内的衬底供给化学结构不同于原料...
赤江尚德四谷达也
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半导体器件的制造方法、程序及衬底处理装置
本发明涉及高效率地除去喷头内的副产物、并抑制颗粒生成的半导体器件的制造方法、程序及衬底处理装置。本发明的半导体器件的制造方法，具有：成膜工序，通过喷头向处理室内的衬底上供给成膜气体和非活性气体，在所述衬底上形成膜；和堆积...
佐佐木隆史山本哲夫
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半导体装置的制造方法及衬底处理装置
本发明提供半导体装置的制造方法及衬底处理装置。制造方法包括：将衬底搬入处理容器的工序；对衬底进行处理的工序，即交替重复进行以下工序：通过向处理容器内供给含有规定元素的第1原料气体和含有规定元素的第2原料气体进行排气，在衬...
赤江尚德广濑义朗高泽裕真太田阳介笹岛亮太
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