嘉兴科民电子设备技术有限公司
- 作品数：79 被引量：8H指数：2
- 相关机构：中国科学院微电子研究所中国科学院嘉兴微电子仪器与设备工程中心中国科学院大学更多>>
- 发文基金：中国科学院科研装备研制项目中国博士后科学基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信一般工业技术自动化与计算机技术机械工程更多>>
- PC控制技术在ALD系统中的应用研究
- 2023年
- 针对当前国内原子层沉积(ALD)控制系统中存在硬件结构兼容性较差、数据交换及数据处理能力较弱等问题。通过分析ALD薄膜生长工艺特点,选定系统硬件配件,确定系统控制结构,设计出基于PC控制的ALD系统。系统采用Beckhoff工业PC作为主控制器,运用EtherCAT现场总线技术进行控制器与I/O模块之间的数据传输与交换,利用TwinCAT控制软件控制整个系统的运行。新系统在现场运行结果表明:该系统功能完善,实时性强,运行稳定,工艺结果能够达到半导体薄膜工艺标准。基于PC控制的ALD系统,对于实现薄膜生长的自动化具有重要意义,为PC控制应用于薄膜生长提供了指导。
- 徐硕张轩雄明帅强
- 关键词：原子层沉积PC控制ETHERCATTWINCAT
- 在银币表面制备二氧化硅膜的方法、二氧化硅膜和银币
- 本申请具体涉及在银币表面制备二氧化硅膜的方法、二氧化硅膜和银币，属于原子层沉积领域，包括步骤：前驱体沉积：将第一前驱体沉积在衬底表面，得到沉积膜；前驱体反应：将第二前驱体与所述沉积膜进行反应，得到二氧化硅层；循环进行所述...
- 王浙加李明明帅强夏洋冯嘉恒
- 文献传递
- 一种原位制备掺杂黑硅的方法
- 本发明公开了一种原位制备掺杂黑硅的方法，属于光电子器件制造技术领域。所述方法包括：将硅片放置于黑硅制备装置的注入腔室内；先后向装置中通入具有刻蚀、钝化作用的混合气体和具有掺杂元素的气体，相应地分别调整黑硅制备装置的工艺参...
- 夏洋刘邦武李超波刘杰汪明刚李勇滔
- 文献传递
- 一种干法刻蚀坚硬无机材料基板等离子体刻蚀机的电极
- 一种干法刻蚀坚硬无机材料基板等离子体刻蚀机的电极，包括用于与刻蚀腔固定连接的导轨器，所述导轨器内安装有可在其内作升降运动的升降器，所述升降器上固定连接有下电极托盘，所述下电极托盘设置在导轨器的上方，所述下电极托盘包括固定...
- 黄成强汪明刚陈波李超波
- 双腔ALD设备的底部匀气板及双腔ALD设备
- 本公开涉及双腔ALD设备技术领域，尤其涉及一种双腔ALD设备的底部匀气板及双腔ALD设备。一种双腔ALD设备的底部匀气板，包括板体、进气腔体和出气腔体，进气腔体和出气腔体设置你在板体上，进气腔体包括第一进气腔室和第二进气...
- 闻梦瑶明帅强李明王浙加李国庆戴昕童车睿远张亦哲
- 一种多层薄膜的制备装置
- 本发明公开了一种多层薄膜的制备装置，涉及材料技术领域，所述装置包括：第一腔室，所述第一腔室具有一容置空间；第二腔室，所述第二腔室设置在所述容置空间内，且所述第二腔室容置第一材质；第三腔室，所述第三腔室与所述第二腔室相对设...
- 夏洋
- 文献传递
- 一种铝掺杂氧化锌薄膜的制备方法
- 本发明涉及原子层沉积技术领域，具体涉及一种铝掺杂氧化锌薄膜的制备方法，包括如下步骤：向原子层沉积设备的反应腔室中交替通入含锌前驱体和含氧前驱体，形成ZnO原子层沉积薄膜；向所述反应腔室中依次通入所述含锌前驱体、含铝前驱体...
- 夏洋刘邦武冯嘉恒
- 文献传递
- 一种多层薄膜的制备装置
- 本实用新型公开了一种多层薄膜的制备装置，涉及材料技术领域，所述装置包括：第一腔室，所述第一腔室具有一容置空间；第二腔室，所述第二腔室设置在所述容置空间内，且所述第二腔室容置第一材质；第三腔室，所述第三腔室与所述第二腔室相...
- 夏洋
- 文献传递
- 原子层沉积系统（1）
- 1．本外观设计产品的名称：原子层沉积系统（1）。;2．本外观设计产品的用途：为实验室和工业小型化产量用户设计的原子层沉积系统。;该原子层沉积系统采用了独特的前驱体输运系统和加热系统。;该原子层沉积系统能够用于太阳能电池用...
- 吕树玲万军夏洋李超波陈波
- 文献传递
- 一种应用于金属表面的复合薄膜及其制备方法、金属制品
- 本发明提供了一种应用于金属表面的复合薄膜及其制备方法、金属制品，属于金属表面防护技术领域，复合薄膜包括：金属氧化物网络骨架；以及氧化铝薄膜，用于在所述金属氧化物网络骨架的内部及表面形成第一保护层。本发明通过氧化铝薄膜填充...
- 刘星海明帅强李扬姚国华李钢李燕秋张蕾冯嘉恒郭耀亮沈云华王浙加李明高圣夏洋
