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合肥永信等离子技术有限公司

作品数：19 被引量：14H指数：2
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合作机构

文献类型

  • 17篇专利
  • 2篇期刊文章

领域

  • 3篇金属学及工艺
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 9篇等离子
  • 9篇真空镀膜
  • 7篇涂层
  • 5篇镀膜
  • 4篇离子
  • 4篇类金刚石
  • 3篇等离子体
  • 3篇等离子体密度
  • 3篇纳米复合涂层
  • 3篇金刚石膜
  • 3篇绝缘支架
  • 3篇类金刚石膜
  • 3篇溅射
  • 3篇高频感应
  • 3篇高频感应加热
  • 3篇磁控
  • 3篇磁控溅射
  • 2篇等离子渗氮
  • 2篇电源
  • 2篇硬涂层

机构

  • 19篇合肥永信等离...
  • 2篇西南研究院
  • 1篇合肥工业大学

作者

  • 1篇李灿民

传媒

  • 2篇中国表面工程

年份

  • 1篇2021
  • 1篇2020
  • 1篇2019
  • 1篇2018
  • 1篇2015
  • 3篇2014
  • 5篇2013
  • 6篇2012
共 19 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种CrAlSiCON纳米复合涂层及其制备方法
本发明公开一种CrAlSiCON纳米复合涂层及其制备方法，属于真空镀膜领域。所述涂层由内至外依次包括纯Cr打底层、CrAlN过渡层和CrAlSiCON主功能层。该制备方法的步骤包括离子清洗；制备打底层；制备过渡层；制备主...
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一种提高镀膜速率的等离子全方位离子沉积设备
一种提高镀膜速率的等离子全方位离子沉积设备，该设备包括真空镀膜室、抽气系统、人机控制系统、充气系统等部分，所述真空镀膜室内设有用于放置镀膜工件的绝缘支架，其特征在于，该设备还设置有等离子增强装置，该增强装置由位于真空镀膜...
李灿民陶满
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一种AlTiSiCON超硬涂层及其制备方法
本发明涉及真空镀膜领域，提供了一种AlTiSiCON超硬涂层，所述涂层为多层结构，由内至外依次包括TiN打底层、AlTiN层、AlTiSiCN层、AlTiN层、AlTiSiCN层、AlTiSiCON表层；其中，TiN打底...
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一种降低DLC涂层内应力的等离子全方位离子沉积设备
一种降低DLC涂层内应力的等离子全方位离子沉积设备，该设备包括真空镀膜室、抽气系统、充气系统、真空检测系统以及高压电源系统，所述真空镀膜室内设有用于放置镀膜工件的绝缘支架，其特征在于，该设备还设置有DLC涂层掺杂装置，所...
李灿民陶满
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一种类金刚石镀膜过程中金属打底的工艺
一种类金刚石镀膜过程中金属打底的工艺，包括等离子体清洗、金属网罩等离子沉积/金属有机物蒸汽输入沉积两步组成。等离子体清洗是将Ar，Kr等稀有气体充入真空罐体中，在工件上施加高压产生稀有气体的等离子体。金属网罩等离子沉积是...
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一种等离子渗氮设备
一种等离子渗氮设备，包括真空镀膜室、抽气系统、人机控制系统、充气系统、脉冲电源系统，真空镀膜室内设有用于等离子渗氮的金属网罩，所述金属网罩通过一横向贯穿的金属棒将其固定于镀膜室内，所述金属棒与镀膜室外高脉冲电源电连接，金...
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一种CrAlSiCON纳米复合涂层及其制备方法
本发明公开一种CrAlSiCON纳米复合涂层及其制备方法，属于真空镀膜领域。所述涂层由内至外依次包括纯Cr打底层、CrAlN过渡层和CrAlSiCON主功能层。该制备方法的步骤包括离子清洗；制备打底层；制备过渡层；制备主...
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一种AlTiSiCON超硬涂层及其制备方法
本发明涉及真空镀膜领域，提供了一种AlTiSiCON超硬涂层，所述涂层为多层结构，由内至外依次包括TiN打底层、AlTiN层、AlTiSiCN层、AlTiN层、AlTiSiCN层、AlTiSiCON表层；其中，TiN打底...
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一种荷叶类金刚石膜的镀膜工艺
一种制备荷叶类金刚石膜的镀膜技术，该技术以等离子全方位离子沉积设备为依托，将八氟环丁烷、一甲基硅烷、二甲基硅烷等气体输入到真空罐内，通过等离子增强化学气相沉积方法在工件表面镀荷叶类金刚石膜。镀膜主要包括等离子清洗、等离子...
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一种减少类金刚石镀膜过程中打火的真空室
本实用新型公开了一种减少类金刚石镀膜过程中打火的真空室，其特征在于，真空室内悬挂有一个由上下两层结构组成的金属支架，所述金属支架的上下两层之间通过绝缘子连接；所述金属支架的下层平行设置有多根悬杆；所述真空室内还设有带电子...
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